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光刻模型包含光學(xué)模型和光刻膠模型，其中光刻膠模型描述了光刻膠曝光顯影過程中發(fā)生的物理化學(xué)反應(yīng)[1]。光刻膠模型可以為光刻膠的研發(fā)和光刻工藝的優(yōu)化提供指導(dǎo)。然而，由于模型中許多參數(shù)不可直接測量或測量較為困難，通常采用實(shí)際曝光結(jié)果來校準(zhǔn)模型，即光刻膠模型的校準(zhǔn)[2]。鑒于模型校準(zhǔn)的必要性，業(yè)界通常需要花費(fèi)大量精力用于模型校準(zhǔn)的實(shí)驗(yàn)與結(jié)果，如圖1所示 [3]。光刻膠模型的校準(zhǔn)的具體流程如圖2所示 [2]。光刻膠模型校準(zhǔn)主要包含四個部分：實(shí)驗(yàn)條件的對標(biāo)、光刻膠形貌的測量、模型校準(zhǔn)、模型驗(yàn)證。將數(shù)據(jù)集分為訓(xùn)練集和測試集，通常按70%/30%或80%/20%的比例劃分。楊浦區(qū)智能驗(yàn)證模型便捷

留一交叉驗(yàn)證（LOOCV）：這是K折交叉驗(yàn)證的一種特殊情況，其中K等于樣本數(shù)量。每次只留一個樣本作為測試集，其余作為訓(xùn)練集。這種方法適用于小數(shù)據(jù)集，但計(jì)算成本較高。自助法（Bootstrap）：通過有放回地從原始數(shù)據(jù)集中抽取樣本來構(gòu)建多個訓(xùn)練集和測試集。這種方法可以有效利用小樣本數(shù)據(jù)。三、驗(yàn)證過程中的注意事項(xiàng)數(shù)據(jù)泄露：在模型訓(xùn)練和驗(yàn)證過程中，必須確保訓(xùn)練集和測試集之間沒有重疊，以避免數(shù)據(jù)泄露導(dǎo)致的性能虛高。選擇合適的評估指標(biāo)：根據(jù)具體問題選擇合適的評估指標(biāo)，如分類問題中的準(zhǔn)確率、召回率、F1-score等，回歸問題中的均方誤差（MSE）、均方根誤差（RMSE）等。上海口碑好驗(yàn)證模型便捷使用測試集對確定的模型進(jìn)行測試，確保模型在未見過的數(shù)據(jù)上也能保持良好的性能。

4.容許更大彈性的測量模型傳統(tǒng)上，只容許每一題目（指標(biāo)）從屬于單一因子，但結(jié)構(gòu)方程分析容許更加復(fù)雜的模型。例如，我們用英語書寫的數(shù)學(xué)試題，去測量學(xué)生的數(shù)學(xué)能力，則測驗(yàn)得分（指標(biāo)）既從屬于數(shù)學(xué)因子，也從屬于英語因子（因?yàn)榈梅忠卜从秤⒄Z能力）。傳統(tǒng)因子分析難以處理一個指標(biāo)從屬多個因子或者考慮高階因子等有比較復(fù)雜的從屬關(guān)系的模型。5.估計(jì)整個模型的擬合程度在傳統(tǒng)路徑分析中，只能估計(jì)每一路徑（變量間關(guān)系）的強(qiáng)弱。在結(jié)構(gòu)方程分析中，除了上述參數(shù)的估計(jì)外，還可以計(jì)算不同模型對同一個樣本數(shù)據(jù)的整體擬合程度，從而判斷哪一個模型更接近數(shù)據(jù)所呈現(xiàn)的關(guān)系。 [2]

在給定的建模樣本中，拿出大部分樣本進(jìn)行建模型，留小部分樣本用剛建立的模型進(jìn)行預(yù)報(bào)，并求這小部分樣本的預(yù)報(bào)誤差，記錄它們的平方加和。這個過程一直進(jìn)行，直到所有的樣本都被預(yù)報(bào)了一次而且*被預(yù)報(bào)一次。把每個樣本的預(yù)報(bào)誤差平方加和，稱為PRESS(predicted Error Sum of Squares)。交叉驗(yàn)證的基本思想是把在某種意義下將原始數(shù)據(jù)(dataset)進(jìn)行分組,一部分做為訓(xùn)練集(train set),另一部分做為驗(yàn)證集(validation set or test set),首先用訓(xùn)練集對分類器進(jìn)行訓(xùn)練,再利用驗(yàn)證集來測試訓(xùn)練得到的模型(model),以此來做為評價(jià)分類器的性能指標(biāo)。數(shù)據(jù)預(yù)處理：包括數(shù)據(jù)清洗、特征選擇、特征縮放等，確保數(shù)據(jù)質(zhì)量。

實(shí)驗(yàn)條件的對標(biāo)首先，要將模型中的實(shí)驗(yàn)設(shè)置與實(shí)際的實(shí)驗(yàn)條件進(jìn)行對標(biāo)，包含各項(xiàng)工藝參數(shù)和測試圖案的信息。其中工藝參數(shù)包含光刻機(jī)信息、照明條件、光刻涂層設(shè)置等信息。測試圖案要基于設(shè)計(jì)規(guī)則來確定，同時要確保測試圖案的幾何特性具有一定的代表性。光刻膠形貌的測量進(jìn)行光刻膠形貌測量時，通常需要利用掃描電子顯微鏡（SEM）收集每個聚焦能量矩陣（FEM）自上而下的CD、光刻膠截面輪廓、光刻膠高度和側(cè)壁角 [3]，并將其用于光刻膠模型校準(zhǔn)，如圖3所示。將驗(yàn)證和優(yōu)化后的模型部署到實(shí)際應(yīng)用中。寶山區(qū)直銷驗(yàn)證模型優(yōu)勢

數(shù)據(jù)集劃分：將數(shù)據(jù)集劃分為訓(xùn)練集、驗(yàn)證集和測試集。楊浦區(qū)智能驗(yàn)證模型便捷

三、面臨的挑戰(zhàn)與應(yīng)對策略數(shù)據(jù)不平衡：當(dāng)數(shù)據(jù)集中各類別的樣本數(shù)量差異很大時，驗(yàn)證模型的準(zhǔn)確性可能會受到影響。解決方法包括使用重采樣技術(shù)（如過采樣、欠采樣）或應(yīng)用合成少數(shù)類過采樣技術(shù)（SMOTE）來平衡數(shù)據(jù)集。時間序列數(shù)據(jù)的特殊性：對于時間序列數(shù)據(jù)，簡單的隨機(jī)劃分可能導(dǎo)致數(shù)據(jù)泄露，即驗(yàn)證集中包含了訓(xùn)練集中未來的信息。此時，應(yīng)采用時間分割法，確保訓(xùn)練集和驗(yàn)證集在時間線上完全分離。模型解釋性：在追求模型性能的同時，也要考慮模型的解釋性，尤其是在需要向非技術(shù)人員解釋預(yù)測結(jié)果的場景下。通過集成學(xué)習(xí)中的bagging、boosting方法或引入可解釋性更強(qiáng)的模型（如決策樹、線性回歸）來提高模型的可解釋性。楊浦區(qū)智能驗(yàn)證模型便捷

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