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  • 試驗(yàn)箱基本參數(shù)
    • 產(chǎn)地
    • 安徽合肥
    • 品牌
    • 合肥真萍電子科技有限公司
    • 型號(hào)
    • 多型定制
    • 是否定制
    試驗(yàn)箱企業(yè)商機(jī)

    真萍科技潔凈烘箱是參照GB/T11158-1989,GB2423,2-1989干燥箱技術(shù)條件及中國相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)研究制造,廣泛應(yīng)用于電子液晶顯示,LCD,CMOS,IC,醫(yī)藥實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。下面為大家介紹一下潔凈烘箱的的測控系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。一、測控系統(tǒng)1.溫度控制裝置:日本進(jìn)口溫控器,內(nèi)置PID自動(dòng)整定,斜率設(shè)定功能2.溫度控制方式為SSR固態(tài)繼電器功率調(diào)整輸出,溫度采集探頭為特制鎧裝K型熱電偶3.溫度監(jiān)控裝置:采用日本六通道巡回檢測有紙記錄儀,可將烤箱內(nèi)實(shí)時(shí)環(huán)境溫度進(jìn)行檢測打印。二、控制系統(tǒng)1.操作控制系統(tǒng),采用精密電子儀器儀表結(jié)合電力拖動(dòng)系統(tǒng)控制,更快速,更穩(wěn)定。2.防護(hù)措施:緊急停止,超溫保護(hù),斷線報(bào)警,相序保護(hù),過載保護(hù),短路保護(hù),漏電保護(hù),及電磁門禁保護(hù)等。真萍科技為您提供定制各種尺寸試驗(yàn)箱。高低溫試驗(yàn)箱制造

    高低溫試驗(yàn)箱制造,試驗(yàn)箱

    超高真空烘箱廣泛應(yīng)用于航空、航天、電子、通訊等科研及生產(chǎn)單位。確定儀器儀表、電工產(chǎn)品、材料、零部件、設(shè)備等在低氣壓、高溫單項(xiàng)或同時(shí)作用下的環(huán)境適應(yīng)性與可靠性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下超高真空烘箱的降溫速率。1.升溫時(shí)間:①常壓時(shí):90min(常溫~+260℃)②低氣壓0.0001pa時(shí):180min(常溫~+260℃)2.降溫時(shí)間:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常溫℃)3.降溫方式:水冷降溫4.試驗(yàn)箱承壓方式:采用內(nèi)承壓方式5.壓力范圍:常壓~0.0001Pa福建高低溫交變?cè)囼?yàn)箱試驗(yàn)箱的作用是什么?合肥真萍告訴您。

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    中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理等階段。下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。一、冷卻系統(tǒng)1.冷卻結(jié)構(gòu)無2.產(chǎn)品降溫隨爐降溫3.安全保護(hù)4.報(bào)警指示超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報(bào)警保護(hù)5.設(shè)備安全升溫速率≤5℃/min二、溫度控制系統(tǒng)1.溫度測量采用K分度熱偶測量2.控制儀表采用進(jìn)口智能調(diào)節(jié)儀控制。具有PID參數(shù)自整定、高溫3.上限報(bào)警、熱電偶失效指示等多項(xiàng)報(bào)警保護(hù)功能4.控制方式固態(tài)繼電器過零控制5.超溫處理⑴.當(dāng)測量溫度超過設(shè)定的安全值時(shí),斷加熱,并報(bào)警。⑵.當(dāng)測量溫度超過目標(biāo)溫度達(dá)到安全偏差值時(shí),報(bào)警。

    電熱鼓風(fēng)烤箱適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機(jī)械、食品、化工、化學(xué)品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應(yīng)性試驗(yàn)。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風(fēng)烤箱的技術(shù)參數(shù)。產(chǎn)品類型:數(shù)顯微電腦控制電源電壓:AC220V±10%50Hz±2%溫控范圍:室溫+10℃-250℃溫度分辨率:0.1℃溫度波動(dòng)率:≤±0.5℃溫度均勻度:≤±2℃輸入功率:500W內(nèi)膽尺寸(mm):W300×D300×H270外形尺寸(mm):W580×D480×H440載物托架:2塊定時(shí)范圍:0-9999分鐘試驗(yàn)箱的原理是什么?合肥真萍告訴您。

    高低溫試驗(yàn)箱制造,試驗(yàn)箱

    本篇介紹專業(yè)全自動(dòng)HMDS真空烤箱,首先簡單介紹一下HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。試驗(yàn)箱的功能具體介紹。高低溫恒定濕熱試驗(yàn)箱市面價(jià)

    合肥真萍告訴您什么是試驗(yàn)箱?高低溫試驗(yàn)箱制造

    下面為大家介紹一下石墨盤真空烤盤爐的用途和設(shè)計(jì)。一、產(chǎn)品介紹真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體,爐內(nèi)抽真空,被處理工件放置在爐膛內(nèi),采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達(dá)到有效清潔處理,提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)1.后門設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2.降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開啟,同時(shí)兩端降溫封頭開啟,爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3.通過氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換,達(dá)到快速降溫的目的高低溫試驗(yàn)箱制造

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