企業(yè)商機
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校準的基本要求校準應滿足的基本要求如下:1.環(huán)境條件校準如在檢定(校準)室進行,則環(huán)境條件應滿足實驗室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準如在現(xiàn)場進行,則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場使用的條件為準。2.儀器作為校...
由于193nm沉浸式工藝的延伸性非常強,同時EUV技術耗資巨大進展緩慢。EUV(極紫外線光刻技術)是下一代光刻技術(<32nm節(jié)點的光刻技術)。它是采用波長為13.4nm的軟x射線進行光刻的技術。EU...
集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術。隨著半導體技術的發(fā)展,光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量...
b、堅膜,以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護下表面的能力;c、進一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性;d、進一步減少駐波效應(Standing Wave Effect)。常見問題:a、烘烤不足(Und...
用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時,能有***的背景??梢栽谳^小的環(huán)境里,拍到較多的景物,在相同的拍攝距離時,得到的景象比用標準鏡頭拍攝的要小。當拍攝較近的景物時,會產生******變...
06:28已經確認!2000年前的計算機,安提基特拉機械安提基特拉機械是世界上已知**早的齒輪裝置。自從發(fā)現(xiàn)以來一直讓科學史和技術史**好奇又疑惑。數(shù)個個人或團隊研究已經對其機制有更進一步了解。主要研...
其主要成像原理是光波波長為10~14nm的極端遠紫外光波經過周期性多層膜反射鏡投射到反射式掩模版上,通過反射式掩模版反射出的極紫外光波再通過由多面反射鏡組成的縮小投影系統(tǒng),將反射式掩模版上的集成電路幾...
19.超負荷保護裝置之油路清潔,油室清洗,油品換新及壓力動作與功能測試調整.20.主馬達V型皮帶磨耗及張力狀況檢查,調整.21.離剎機構各部件拆卸分解(飛輪不含)清潔保養(yǎng),間隙檢查調整及裝復調試.22...
使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個方面的特點: [3]視角小所以,拍攝的景物空間范圍也小,在相同的拍攝距離處,所拍攝的影像大于標準鏡頭,適用于拍攝遠處景物的細部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以,...
介紹04:54新型DUV光刻機公布,套刻精度達8納米!與全球前列設備差多少?直接分步重復曝光系統(tǒng) (DSW) 超大規(guī)模集成電路需要有高分辨率、高套刻精度和大直徑晶片加工。直接分步重復曝光系統(tǒng)是為適應...
光學鏡頭是機器視覺系統(tǒng)中必不可少的部件,直接影響成像質量的優(yōu)劣,影響算法的實現(xiàn)和效果。光學鏡頭從焦距上可分為短焦鏡頭、中焦鏡頭,長焦鏡頭;從視場大小分為廣角、標準,遠攝鏡頭;從結構上分為固定光圈定焦鏡...
掃描投影曝光(Scanning Project Printing)。70年代末~80年代初,〉1μm工藝;掩膜板1:1,全尺寸;步進重復投影曝光(Stepping-repeating Project ...
特點長焦鏡頭以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例,遠攝鏡頭通常是指焦距約在80至400毫米之間的攝影鏡頭。遠攝鏡頭**基本的特點是,鏡頭視角小,所以視野范圍相對狹窄;能把遠處的景物拉近,使之...
13.整機精度(垂直度,平行度,綜合間隙等)測試,必要時調整校正.14.沖床外觀及附件之清潔,檢點及機械腳(基礎)固緊螺絲,螺帽之鎖緊及水平檢查必要時調整.15.潤滑給油系統(tǒng)之浦,管路閥等清潔保養(yǎng)及檢...
22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長凹模上平面,承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個或更多工位的沖模,材料隨壓力機行程逐次送進一工位...
***,安提基特拉機械前方面板是現(xiàn)代天文年鑒的前身(Parapegma),可以設定標記特定恒星的升起。一般認為每顆恒星都以機械上一個希臘文字母做標記。在機械后面上方的轉盤是螺旋形,每次旋轉分成47個部...
能使前后被攝物產生壓縮感。遠攝鏡頭的另一個***的效果是將遠處被攝體“拉近”,從而使前后被攝物產生被壓縮的感覺。在一些重大體育賽事中,成群的攝影記者往往架起大炮般的遠攝鏡頭拍攝馬拉松賽跑起跑時運動員重...
光學變焦是通過鏡頭、物體和焦點三方的位置發(fā)生變化而產生的。當成像面在水平方向運動的時候,視覺和焦距就會發(fā)生變化,更遠的景物變得更清晰,讓人感覺像物體遞進的感覺。顯而易見,要改變視角必然有兩種辦法,一種...
校準的基本要求校準應滿足的基本要求如下:1.環(huán)境條件校準如在檢定(校準)室進行,則環(huán)境條件應滿足實驗室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準如在現(xiàn)場進行,則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場使用的條件為準。2.儀器作為校...
2024年9月工信部發(fā)布的技術指標顯示,國產浸沒式光刻機已實現(xiàn):1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術適配能力研發(fā)過程中需突破:超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級污染控制...
普萊斯在以上文章中發(fā)表的模式是較早基于放射影像所見該機械內部結構之后,提出的較早理論重建模式。他的模式中,機械前方的轉盤**太陽和月球在古埃及歷法上黃道帶的位置。在儀器后面的上方轉盤則顯示一個四年周期...
由測量系統(tǒng)、指示部分和表殼部分等組成。2.測量系統(tǒng)——由接頭,彈簧管和齒輪轉動機構等組成。3.由被測介質的壓力作用,使彈簧管的末端(自由端)相應地產生位移,借助連桿帶動機構中的扇形齒輪產生一角位移,而...
魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的魚眼鏡頭為例,當將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機機身上時,有一種“頭(鏡頭)大身體(機身)小”的感覺,且由于魚眼鏡頭重量不輕...
放大率問題:光學鏡頭放大率問題,很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認識不多,所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭,因此,普密斯光學針對這一問題進行專業(yè)的講述,希望可以幫助大家更好的理解...
廣角鏡頭***用于大場面風景攝影作品的拍攝。 能增加攝影畫面的空間縱深感; 景深較長,能保證被攝主體的前后景物在畫面上均可清晰的再現(xiàn)。所以,現(xiàn)代絕大多數(shù)的袖珍式自動照相機(俗稱傻瓜照相機)采用38-3...
艾倫·布隆萊一個和普賴斯有差異的重建模型是由澳大利亞悉尼大學的計算機科學家艾倫·布隆萊和悉尼的一位鐘表師法蘭克·帕西瓦爾建立。布隆萊和麥可·萊特合作使用更精密的X光影像重建新的模型。麥可·萊特曾擔任倫...
所有實際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴展,這就是所謂的“電子束鄰近效應。同時,半導體基片上如果有絕緣的介質膜,電子通過它時也會產生一定量的電荷積累,這些積累的電荷同樣會排斥后續(xù)曝光的電子,產生偏...
1、廣角鏡頭拍攝的景物,近處大、遠處小,******效果夸張。被攝體越靠近鏡頭夸張越明顯。所以,拍攝人像時,人物不能靠相機太近,否則很容易拍出“肥鼻鼠耳”的變形照片。當然,利用這種效果拍攝的藝術作品除...
光學變焦是通過鏡頭、物體和焦點三方的位置發(fā)生變化而產生的。當成像面在水平方向運動的時候,視覺和焦距就會發(fā)生變化,更遠的景物變得更清晰,讓人感覺像物體遞進的感覺。顯而易見,要改變視角必然有兩種辦法,一種...
EUV光刻技術的發(fā)展能否趕得上集成電路制造技術的要求?這仍然是一個問題。當然,EUV光刻技術的進步也是巨大的。截止2016年,用于研發(fā)和小批量試產的EUV光刻機,已經被安裝在晶圓廠,并投入使用 [1]...
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