當(dāng)前位置：
首頁(yè) >
產(chǎn)品中心
-
無(wú)機(jī)涂層涂覆系統(tǒng)供應(yīng)商
真空系統(tǒng)的操作是設(shè)備運(yùn)行的重要組成部分。通常遵循分級(jí)抽真空原則：先啟動(dòng)機(jī)械泵或干泵抽取低真空，當(dāng)真空度達(dá)到預(yù)定閾值后，再啟動(dòng)分子泵或渦輪泵抽取高真空。系統(tǒng)軟件通常會(huì)集成自動(dòng)序列，但操作人員需理解其...
查看詳細(xì) -
全自動(dòng)分子束外延系統(tǒng)維修
操作過(guò)程中的安全防護(hù)非常重要。激光安全是重中之重，系統(tǒng)必須配備互鎖裝置，確保在打開激光防護(hù)罩時(shí)激光器自動(dòng)關(guān)閉，防止高能激光對(duì)人員眼睛和皮膚造成長(zhǎng)久性傷害。所有操作人員必須接受激光安全培訓(xùn)并佩戴相應(yīng)...
查看詳細(xì) -
科研實(shí)驗(yàn)室勻膠機(jī)旋涂?jī)x銷售
微電子領(lǐng)域的勻膠機(jī)選型需兼顧設(shè)備的精度、穩(wěn)定性和適用范圍，因?yàn)樵擃I(lǐng)域涉及多種復(fù)雜材料和工藝，對(duì)薄膜的均勻性和厚度控制提出較高要求。勻膠機(jī)利用離心力將光刻膠或其他功能性液體均勻涂覆在基材表面，形成高精度...
查看詳細(xì) -
研發(fā)光刻機(jī)
微電子光刻機(jī)的應(yīng)用主要聚焦于微型電子器件的制造過(guò)程，這些設(shè)備通過(guò)精細(xì)的圖案轉(zhuǎn)移技術(shù)支持芯片結(jié)構(gòu)的復(fù)雜設(shè)計(jì)。其關(guān)鍵在于能夠?qū)⒃O(shè)計(jì)電路的微觀細(xì)節(jié)準(zhǔn)確地復(fù)制到硅片上的光刻膠層，確保晶體管及其他微結(jié)構(gòu)的尺寸和...
查看詳細(xì) -
微流體直寫光刻設(shè)備技術(shù)
階段掃描直寫光刻機(jī)以其獨(dú)特的工作原理滿足了高精度微納圖形的需求。該設(shè)備通過(guò)控制基板在精密運(yùn)動(dòng)平臺(tái)上的階段移動(dòng)，配合激光束的掃描，實(shí)現(xiàn)對(duì)復(fù)雜電路圖案的逐點(diǎn)刻寫。階段掃描方式能夠覆蓋較大面積的基板，適合多...
查看詳細(xì) -
PVD涂覆系統(tǒng)有哪些
沉積結(jié)束后，不能立即暴露大氣。系統(tǒng)必須按照預(yù)設(shè)程序，在真空或惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行充分的冷卻，以防止高溫樣品氧化或薄膜因熱應(yīng)力而破裂。待樣品溫度降至安全范圍后，方可執(zhí)行充氣破空操作，取出樣品。樣品的后續(xù)處...
查看詳細(xì) -
多功能三腔室互相傳遞PVD系統(tǒng)參數(shù)
超高真空磁控濺射系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)與操作規(guī)范，超高真空磁控濺射系統(tǒng)是我們產(chǎn)品系列中的高級(jí)配置，專為要求嚴(yán)苛的科研環(huán)境設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)通過(guò)實(shí)現(xiàn)超高真空條件（通常低于10^{-8}mbar），確保了薄膜沉積過(guò)程中的極...
查看詳細(xì) -
多腔室外延系統(tǒng)應(yīng)用
脈沖激光分子束外延（PLD-MBE）系統(tǒng)展示了當(dāng)今超高真空薄膜制備技術(shù)的頂峰。它巧妙地將脈沖激光沉積（PLD）技術(shù)的高靈活性、易于實(shí)現(xiàn)復(fù)雜化學(xué)計(jì)量比轉(zhuǎn)移的優(yōu)點(diǎn)，與分子束外延（MBE）技術(shù)的超高真空環(huán)境...
查看詳細(xì) -
平面對(duì)齊晶圓升降機(jī)
隨著半導(dǎo)體工藝的不斷發(fā)展，對(duì)晶圓對(duì)準(zhǔn)設(shè)備的個(gè)性化需求也日益增長(zhǎng)，光學(xué)晶圓對(duì)準(zhǔn)器的定制服務(wù)應(yīng)運(yùn)而生。定制服務(wù)能夠根據(jù)客戶具體的工藝要求和設(shè)備環(huán)境，調(diào)整對(duì)準(zhǔn)器的設(shè)計(jì)參數(shù)和功能配置，使設(shè)備更好地適配特定的生...
查看詳細(xì) -
高速識(shí)別晶圓批號(hào)閱讀設(shè)備優(yōu)勢(shì)
進(jìn)口晶圓批號(hào)閱讀器憑借其成熟的技術(shù)和穩(wěn)定的性能，受到國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體制造企業(yè)的關(guān)注。此類設(shè)備通常搭載先進(jìn)的定制光學(xué)系統(tǒng)和深度學(xué)習(xí)算法，能夠精確識(shí)別晶圓表面激光蝕刻或印刷的標(biāo)識(shí)，即使在反光或低對(duì)比度環(huán)境下也...
查看詳細(xì) -
THU SERIES納米壓印應(yīng)用
紫外納米壓印工藝?yán)米贤夤夤袒姆绞酵瓿蓤D案轉(zhuǎn)印，賦予了納米壓印技術(shù)新的活力。這種工藝通過(guò)紫外光照射，使抗蝕劑迅速固化，縮短了制造周期，提升了生產(chǎn)效率。相比熱固化工藝，紫外納米壓印工藝在溫度控制方面更...
查看詳細(xì) -
高分子鍍膜外延系統(tǒng)冷卻
對(duì)于配套設(shè)備選型，分析儀器方面，可配備反射高能電子衍射儀（RHEED），它能在薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的表面結(jié)構(gòu)和生長(zhǎng)情況，為調(diào)整沉積參數(shù)提供依據(jù)。通過(guò)RHEED的監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)，操作人員可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)薄膜...
查看詳細(xì)
