表面活性劑分類:肥皂類:系高級脂肪酸的鹽,通式:(RCOO)nM。脂肪酸烴R一般為11~17個碳的長鏈,常見有硬脂酸、油酸、月桂酸。根據(jù)M的物質(zhì)不同,又可分為堿金屬皂、堿土金屬皂和有機胺皂。它們均有良好的乳化性能和分散油的能力。但易被破壞,堿金屬皂還可被鈣、鎂鹽破壞,電解質(zhì)亦可使之鹽析。磺酸化物R-SO3-M:屬于這類的有脂肪族磺酸化物、烷基芳基磺酸化物和烷基萘磺酸化物。它們的水溶性和耐酸耐鈣、鎂鹽性比硫酸化物稍差,但在酸性溶液中不易水解。常用品種有:二辛基琥珀酸磺酸鈉(阿洛索-OT),十二烷基苯磺酸鈉,甘膽酸鈉。非離子型表面活性劑分聚乙二醇型和多元醇型兩類。防霧滴表活現(xiàn)貨供應

Dendrimer型表面活性劑:Dendrimer就是樹枝狀大分子,它是從一個中心核分子出發(fā),由支化單體逐級擴散伸展開來的結(jié)構(gòu),或者由中心核、數(shù)層支化單元和外邊基團通過化學鍵連接而成的。已經(jīng)有聚醚、聚酯、聚酰胺、聚芳烴、聚有機硅等類型。樹枝狀大分子的特性是其分子結(jié)構(gòu)規(guī)整,分子體積、形狀和末端官能團可在分子水平上設(shè)計與控制,因此成為高分子學科的熱門課題。按照需求對其端基進行改性,就得到相應的樹枝狀大分子表面活性劑。樹枝狀大分子也引起涂料界的關(guān)注,開發(fā)出該種類型的分散劑、交聯(lián)劑和常用樹脂等。膏體表面活性劑一公斤多少錢按照攜帶正電荷的原子不同,陽離子表面活性劑還包括啰鹽、锍鹽、碘啰和?鹽化合物等。

月桂酰胺丙基氧化胺該品是一種兩性表面活性劑,易溶于水和極性有機溶劑,水溶液在酸性條件下呈陽離子性,在堿性條件下呈非離子性。具有良好的增稠、抗靜電、柔軟、增泡、穩(wěn)泡和去污性能;刺激性低,可有效地降低洗滌劑中的陰離子表面活性劑的刺激性,還具有殺菌、鈣皂分散、易生物降解等特點。該品主要用于洗發(fā)香波,使頭發(fā)更為柔順,易于梳理,泡沫細膩,富有光澤,還可用于餐具、盥洗室、建筑外墻等硬表面清洗劑中賦予產(chǎn)品以增稠、減少刺激和增效作用。它與傳統(tǒng)的6501相比,具有用量省、效率高、潤濕力強、去垢力強的特點。它還具有良好的手感和柔軟性能。
具有商業(yè)價值的陽離子表面活性劑大多是有機氮化合物的衍生物,其正離子電荷由氮原子攜帶,也有一些新型陽離子表面活性劑的正離子電荷由磷、硫、碘和砷等原子攜帶。按照陽離子表面活性劑的化學結(jié)構(gòu),主要可分為胺鹽型、季銨鹽型、雜環(huán)型和啰鹽型等四類。胺鹽型陽離子表面活性劑是伯胺鹽、仲胺鹽和叔胺鹽表面活性劑的總稱。它們的性質(zhì)極其相似,且很多產(chǎn)品是伯胺與仲胺的混合物。這類表面活性劑主要是脂肪胺與無機酸形成的鹽,只溶于酸性溶液中。而在堿性條件下,胺鹽容易與堿作用生成游離胺而使其溶解度降低,因此使用范圍受到一定的限制。陽離子表面活性劑分子中所含的雜環(huán)主要是含氮的嗎啉環(huán)、吡啶環(huán)、咪唑環(huán)、哌嗪環(huán)和喹啉環(huán)等。

兩性表面活性劑是在同一分子中既含有陰離子親水基又含有陽離子親水基的表面活性劑。較大特征在于它既能給出質(zhì)子又能接受質(zhì)子。在使用過程中具有以下特點:對織物有優(yōu)異的柔軟平滑性和抗靜電性;有一定的殺菌性和抑霉性;有良好的乳化性和分散性。它是一種溫和性的表面活性劑。兩性表面活性劑分子與單一的陰離子型、陽離子型不同,在分子的一端同時存在有酸性基和堿性基。酸性基大都是羧基、磺酸基或磷酸基,堿性基則為胺基或季銨基,能與陰離子、非離子型表面活性劑混配,能耐酸、堿、鹽以及堿土金屬鹽。離子型表面活性劑,又稱離子型乳化劑。工業(yè)表活生產(chǎn)廠家
陰離子表面活性劑包括一般的肥皂(高級脂肪酸的金屬鹽)、硫酸鹽、磺酸鹽和磷酸酯鹽等類型。防霧滴表活現(xiàn)貨供應
現(xiàn)已經(jīng)合成的低聚表面活性劑有二聚體、三聚體和四聚體等,其中較引人注目的是二聚體,二聚表面活性劑較早被合成于1971年,后因其結(jié)構(gòu)上的特點而被形象地命名為Gemini(英文是雙子星之意)表面活性劑。表面活性劑Gemini(或稱dimeric)提高了表面活性。與當前為提高表面活性而進行的大量嘗試,如添加鹽類、提高溫度或?qū)㈥庪x子表面活性劑與陰離子表面活性劑混合相比較,Gemini表面活性劑是概念上的突破,因而被譽為新一代的表面括性劑。離子相當緊密的連接,致使其碳氫鏈間更容易產(chǎn)生強相互作用,即加強了碳氫鏈間的疏水結(jié)合力,而且離子頭基間的排斥傾向受制于化學鍵力而被較大削弱,這就是Gemlrd表面活性劑和單鏈單頭基表面括性劑相比較,具有高表面括性的根本原因。防霧滴表活現(xiàn)貨供應
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