那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來(lái)表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]:式中:0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,nm;0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,nm。為實(shí)際石墨試樣(002)晶面間距,nm。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位,需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn)。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,用硅作為內(nèi)標(biāo)物,加入待測(cè)石墨樣品中,在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展,進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。LYNXEYE XE-T主要用于0D、1D和2D數(shù)據(jù)采集,具有始終有效的出色能量鑒別能力,同時(shí)不會(huì)損失二級(jí)單色器信號(hào)。上海微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)

汽車和航空航天:配備了UMC樣品臺(tái)的D8D的一大優(yōu)勢(shì)就是可以對(duì)大型機(jī)械零件進(jìn)行殘余應(yīng)力和結(jié)構(gòu)分析以及殘余奧氏體或高溫合金表征。半導(dǎo)體與微電子:從過(guò)程開(kāi)發(fā)到質(zhì)量控制,D8D可以對(duì)亞毫米至300mm大小的樣品進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征。制藥業(yè)篩選:新結(jié)構(gòu)測(cè)定以及多晶篩選是藥物開(kāi)發(fā)的關(guān)鍵步驟,對(duì)此,D8D具有高通量篩選功能。儲(chǔ)能/電池:使用D8D,您將能在原位循環(huán)條件下測(cè)試電池材料,直接了當(dāng)?shù)墨@取不斷變化的儲(chǔ)能材料的晶體結(jié)構(gòu)和相組方面的信息。物相定量分析XRD衍射儀推薦咨詢孔板和沉積樣品在反射和透射中的高通量篩選。

EIGER2R具有多模式功能(0D-1D-2D、快照和掃描模式),覆蓋了從粉末研究到材料研究的多種測(cè)量方法。EIGER2并非傳統(tǒng)意義上的萬(wàn)金油,而是所有分析應(yīng)用領(lǐng)域的**。其可實(shí)現(xiàn)無(wú)吸收測(cè)量的動(dòng)態(tài)范圍、用于超快粉末測(cè)量和快速倒易空間掃描的1D大尺寸以及超過(guò)500k像素的2D大覆蓋范圍,都為多模式探測(cè)器樹(shù)立了新標(biāo)準(zhǔn)。EIGER2采用了DECTRIS公司研發(fā)的光束探測(cè)器技術(shù),整合了布魯克的軟件和硬件,可為您帶來(lái)無(wú)縫易用的解決方案。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。
殘余應(yīng)力分析::在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量,對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析。使用了2D檢測(cè)器的μXRD:使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像,進(jìn)行1D掃描,來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。定性相分析:候選材料鑒別(PMI)為常見(jiàn),這是因?yàn)槠鋵?duì)原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無(wú)法通過(guò)元素分析技術(shù)實(shí)現(xiàn)。高通量篩選(HTS):在DIFFRAC.EVA中,進(jìn)行半定量分析,以現(xiàn)實(shí)孔板上不同相的濃度。非環(huán)境XRD:在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測(cè)量同步,然后可以在DIFFRAC.EVR中顯示結(jié)果。小角X射線散射(SAXS):在DIFFRAC.SAXS中,對(duì)EIGER2R500K通過(guò)2D模式手機(jī)的NISTSRM80119nm金納米顆粒進(jìn)行粒度分析。利用布魯克樣品臺(tái),能精確地操縱樣品。根據(jù)所需自由度和樣品尺寸選合適的卡口安裝式樣品臺(tái)和落地式樣品臺(tái)。

BRAGG2D——監(jiān)控樣品制備的質(zhì)量樣品制備過(guò)程中的系統(tǒng)誤差,是分析誤差的重要來(lái)源。使用BraggBrentano幾何的2D衍射圖像,將樣品制備問(wèn)題可視化,如粒徑或擇優(yōu)取向。避免就統(tǒng)計(jì)而言沒(méi)有代表性的測(cè)量結(jié)果。運(yùn)營(yíng)成本低不消耗水硅條帶探測(cè)器技術(shù),無(wú)需使用探測(cè)器氣體近乎無(wú)限的光管使用壽命可重復(fù)使用的樣品支持器低功耗(650W)布魯克與水泥業(yè)密切合作,不斷改進(jìn)其分析解決方案。在D2PHASER方面,我們針對(duì)水泥業(yè)提供了一個(gè)軟件包,其中包括針對(duì)10多種原材料、熟料和不同水泥類型制定的、供工廠應(yīng)用的測(cè)量和數(shù)據(jù)評(píng)估方法,可有效控制窯爐以及工廠的礦物學(xué)。與水泥軟件包相結(jié)合的D2PHASER非常適合小規(guī)模運(yùn)營(yíng)。對(duì)于每天需要測(cè)量大量樣品的大型工廠,請(qǐng)參見(jiàn)D8ENDEAVOR。在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量,對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析。物相定量分析XRD衍射儀推薦咨詢
D8D對(duì)地質(zhì)構(gòu)造研究,借助μXRD,哪怕是很小的包裹體定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定都不在話下。上海微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)
石墨化度分析引言石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展,進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。石墨化度碳原子形成密排六方石墨晶體結(jié)構(gòu)的程度,其晶格尺寸愈接近理想石墨的點(diǎn)陣參數(shù),石墨化度就愈高。上海微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)
束蘊(yùn)儀器(上海)有限公司是以提供布魯克顯微CT1272,布魯克XRD衍射儀D8,布魯克顯微CT2214,布魯克XRD衍射儀D2內(nèi)的多項(xiàng)綜合服務(wù),為消費(fèi)者多方位提供布魯克顯微CT1272,布魯克XRD衍射儀D8,布魯克顯微CT2214,布魯克XRD衍射儀D2,公司位于新橋鎮(zhèn)千帆路288弄G60科創(chuàng)云廊3號(hào)樓602-1室,成立于2016-09-23,迄今已經(jīng)成長(zhǎng)為儀器儀表行業(yè)內(nèi)同類型企業(yè)的佼佼者。公司承擔(dān)并建設(shè)完成儀器儀表多項(xiàng)重點(diǎn)項(xiàng)目,取得了明顯的社會(huì)和經(jīng)濟(jì)效益。將憑借高精尖的系列產(chǎn)品與解決方案,加速推進(jìn)全國(guó)儀器儀表產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力的發(fā)展。
不論您的預(yù)算如何,D8ADVANCEECO系列都能通過(guò)儀器配置為您帶來(lái)好的性能。由于降低了對(duì)水和電力等資源的需求,其運(yùn)營(yíng)成本降低。出色的儀器質(zhì)量為可靠性提供了保證,同時(shí)布魯克還為之提供組件質(zhì)量保證。無(wú)外部供水成本1kW高效發(fā)生器降低電力成本,無(wú)外部冷卻器耗電延長(zhǎng)了X射線管的使用壽命X射線管質(zhì)量保證:D8ADVANCEECO可用的所有高亮度X射線源均享有3年保修測(cè)角儀質(zhì)量保證:測(cè)角儀采用免維護(hù)的堅(jiān)固設(shè)計(jì),可為您帶來(lái)機(jī)械強(qiáng)度和較長(zhǎng)的使用壽命,因此能夠?yàn)槟峁┖玫臄?shù)據(jù)質(zhì)量。其中,布魯克提供10年保修。儀器準(zhǔn)直保證探測(cè)器質(zhì)量保證在DIFFRAC.LEPTOS中,對(duì)多層樣品進(jìn)行XRR分析,測(cè)定其薄膜厚度...