還可以根據(jù)這些附圖獲得其他附圖:圖1為本實(shí)施例中一種真空鍍膜設(shè)備的主視示意圖;圖2為本實(shí)施例中圖1中a處的放大示意圖;圖3為本實(shí)施例中圖1中b處的放大示意圖;圖4為本實(shí)施例中頂蓋的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式為了使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和***更加清楚,下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的描述,顯然,所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型的部分實(shí)施例,而不是全部實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的如圖1和圖2所示,構(gòu)造一種真空鍍膜設(shè)備,包括鍍膜機(jī)1;鍍膜機(jī)1底部設(shè)有出氣管11;出氣管11上設(shè)有寶來利真空連接套12;寶來利真空連接套12上設(shè)有第二連接套2;第二連接套2中設(shè)有頂蓋22,頂蓋22與寶來利真空連接套12之間通過磁吸連接;第二連接套2遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有抽氣管3;抽氣管3遠(yuǎn)離第二連接套2一側(cè)設(shè)有真空泵4;抽氣管3內(nèi)靠近真空泵4一側(cè)設(shè)有寶來利真空過濾網(wǎng)41;抽氣管3遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有沉降組件;在抽真空時(shí),按下開關(guān)13,啟動(dòng)真空泵4,電磁鐵122通電產(chǎn)生與磁片223相同的磁性,利用磁鐵的原理。 寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,光亮、美觀,有需要可以咨詢!900真空鍍膜設(shè)備是什么

結(jié)合圖1和圖2所示,頂蓋22遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有動(dòng)觸點(diǎn)224;第二連接套2內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點(diǎn)123,靜觸點(diǎn)123位于寶來利真空凹槽21與抽氣管3之間;動(dòng)觸點(diǎn)224與外部電源電性連接;靜觸點(diǎn)123與氣缸53電性連接;利用動(dòng)觸點(diǎn)224與靜觸點(diǎn)123的接觸來控制氣缸53的運(yùn)行,防止氣缸53長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行,節(jié)約能源。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖1所示,鍍膜機(jī)1靠近出氣管11的側(cè)壁上設(shè)有開關(guān)13及換向器;開關(guān)13分別與換向器及真空泵4電性連接;換向器與電磁鐵122電性連接;利用換向器改變電磁鐵122電流的方向來改變磁極,進(jìn)行頂蓋22的打開與閉合。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖4所示,頂蓋22側(cè)壁上設(shè)有凹孔225;便于在抽氣時(shí)氣體的排出。應(yīng)當(dāng)理解的是,對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)上述說明加以改進(jìn)或變換,而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。 硬質(zhì)涂層真空鍍膜設(shè)備是什么寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,七彩氧化鈦,有需要可以咨詢!

電磁鐵122頂出磁片223,頂蓋22離開出氣管11口,空氣及粉塵從出氣管11排出,當(dāng)頂蓋22的動(dòng)觸點(diǎn)224與靜觸點(diǎn)123接觸時(shí),氣缸53通電,伸出伸縮軸,利用空氣壓力將擠壓管52中的水噴出,粉塵遇水沉降落入沉降管51底部,鍍膜機(jī)1內(nèi)達(dá)到相應(yīng)的真空度時(shí),反方向按下開關(guān)13,電磁鐵122在換向器的作用下電流改變,磁極改變,產(chǎn)生與磁片223相反的磁極,電磁鐵122與磁片223相吸,此時(shí)真空泵4斷電,動(dòng)、靜觸點(diǎn)斷開,氣缸53斷電,頂蓋22緊緊地蓋在出氣管11口上。上述實(shí)施例中,開關(guān)13為雙向開關(guān),往一方向按下時(shí),真空泵4與電磁鐵122均通電,往另一方向按下時(shí),真空泵4斷電,電磁鐵122在換向器的作用下電流方向發(fā)生改變,產(chǎn)生相反的磁極。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖2可得,寶來利真空連接套12遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有寶來利真空安裝位121;寶來利真空安裝位121位于出氣管11兩側(cè);寶來利真空安裝位121內(nèi)固定有電磁鐵122;頂蓋22靠近鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有第二安裝位222;第二安裝位222與寶來利真空安裝位121位置相對(duì)應(yīng);第二安裝位222內(nèi)固定有磁片223;電磁鐵122與磁片223分別通過膠水固定在寶來利真空安裝位121以及第二安裝位222中;利用磁鐵“同極相斥、異極相吸”的原理,控制頂蓋22的關(guān)閉和打開。
在操作真空鍍膜機(jī)時(shí),確保安全是至關(guān)重要的。以下是一些在操作真空鍍膜機(jī)過程中需要注意的關(guān)鍵安全事項(xiàng):設(shè)備啟動(dòng)與關(guān)閉:在開啟真空鍍膜機(jī)之前,應(yīng)確保所有安全防護(hù)裝置完好無(wú)損且處于正常工作狀態(tài)。啟動(dòng)后,應(yīng)密切關(guān)注設(shè)備運(yùn)行狀態(tài),如有異常應(yīng)立即停機(jī)處理。操作結(jié)束后,務(wù)必按照規(guī)定的程序關(guān)閉真空鍍膜機(jī),包括切斷電源、水源等。真空環(huán)境操作:真空鍍膜機(jī)通常在真空環(huán)境下工作,因此操作時(shí)應(yīng)避免在設(shè)備運(yùn)行時(shí)打開或拆卸設(shè)備部件,以防止真空環(huán)境被破壞或有毒有害氣體泄漏。同時(shí),要確保真空室的密封性良好,防止外界雜質(zhì)進(jìn)入。高溫與高壓:鍍膜過程中可能會(huì)涉及高溫和高壓操作,因此操作人員必須嚴(yán)格遵守操作規(guī)程,不得隨意調(diào)整溫度和壓力。同時(shí),要保持與加熱元件和高壓部件的安全距離,防止?fàn)C傷和壓傷。寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,鈦鋁,有需要可以咨詢!

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這樣就可以及時(shí)打開密封門,將基板取出準(zhǔn)備下一次鍍膜,能夠有效防止鍍膜材料噴濺,且省去坩堝降溫的時(shí)間,提高了工作效率。(2)、該高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,通過腔體左側(cè)的頂部固定連接有電機(jī),并且電機(jī)輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿,雙向螺紋桿表面的兩側(cè)且位于腔體的內(nèi)部均螺紋連接有活動(dòng)塊,兩個(gè)活動(dòng)塊的底部均固定連接有限位板,電機(jī)工作能夠調(diào)整兩個(gè)限位板之間的距離,使限位板能夠固定不同大小的基板,擴(kuò)大了適用范圍,適用性更強(qiáng),提高了實(shí)用性。附圖說明圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)的立體圖;圖2為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)的剖視圖;圖3為本實(shí)用新型圖2中a處的局部放大圖;圖4為本實(shí)用新型寶來利真空密封蓋結(jié)構(gòu)的立體圖;圖5為本實(shí)用新型第二密封蓋結(jié)構(gòu)的立體圖。圖中:1腔體、2基板、3坩堝、4支撐腿、5密封門、6支撐板、7防護(hù)框、8寶來利真空滑軌、9活動(dòng)板、10寶來利真空伸縮桿、11第二伸縮桿、12寶來利真空密封蓋、13第二密封蓋、14加熱板、15降溫板、16電機(jī)、17雙向螺紋桿、18活動(dòng)塊、19限位板、20第二滑軌、21抽風(fēng)機(jī)、22風(fēng)管。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然。 900真空鍍膜設(shè)備是什么
基體支撐與傳動(dòng)系統(tǒng)的作用是固定和傳輸工件(基體),確保工件能夠均勻地接受鍍膜粒子的沉積。根據(jù)生產(chǎn)方式的不同,基體支撐與傳動(dòng)系統(tǒng)可分為間歇式和連續(xù)式兩種。間歇式系統(tǒng)通常采用旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)、行星架等結(jié)構(gòu),使工件在鍍膜過程中均勻旋轉(zhuǎn),保證膜層厚度均勻;連續(xù)式系統(tǒng)則采用傳送帶、滾輪、鏈條等傳動(dòng)機(jī)構(gòu),實(shí)現(xiàn)工件的連續(xù)進(jìn)料、鍍膜和出料,適用于規(guī)?;a(chǎn)。此外,該系統(tǒng)通常還配備有基體加熱裝置和冷卻裝置,用于調(diào)整基體溫度,優(yōu)化膜層的生長(zhǎng)過程。膜厚均勻性是關(guān)鍵指標(biāo),設(shè)備通過旋轉(zhuǎn)基片或掃描蒸發(fā)源優(yōu)化成膜效果。浙江光學(xué)鏡片真空鍍膜設(shè)備制造商化學(xué)氣相沉積(CVD)原理:在化學(xué)氣相沉積過程中,需要將含有薄膜組成元素的氣態(tài)前驅(qū)...