所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室,其結(jié)構(gòu)如圖1和圖2所示,包括:用于提供真空環(huán)境的外腔體10,以及位于所述外腔體10內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔20;所述內(nèi)反應(yīng)腔20的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門23,所述自動(dòng)門23連接自動(dòng)門控制器,工件自所述外腔體10經(jīng)所述自動(dòng)門23進(jìn)入所述內(nèi)反應(yīng)腔20中。本實(shí)施方式提供的真空反應(yīng)腔室,外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔20為嵌套結(jié)構(gòu),其內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔室內(nèi)。該結(jié)構(gòu)中,相當(dāng)于設(shè)置了兩個(gè)腔室,其中外腔體10用于隔絕大氣,提供真空環(huán)境,而內(nèi)反應(yīng)腔20中的區(qū)域?yàn)楣に嚪磻?yīng)區(qū),形成相對(duì)封閉的工藝環(huán)境,相關(guān)工藝反應(yīng)在內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu),可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中,而與工藝反應(yīng)無(wú)直接關(guān)系的機(jī)械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后,位于外腔體10中的工件再經(jīng)自動(dòng)門23進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行工藝反應(yīng),可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,硬質(zhì)鍍膜,有需要可以咨詢!江蘇眼鏡架真空鍍膜機(jī)推薦廠家

真空鍍膜設(shè)備技術(shù)***表現(xiàn)在哪里?真空鍍膜技術(shù)在塑料制品上的應(yīng)用*****,真空鍍膜機(jī)廠表示,塑料具有易成型,成本低,質(zhì)量輕,不腐蝕等特點(diǎn),塑料制品應(yīng)用***,但因其缺點(diǎn)制約了擴(kuò)大應(yīng)用。通過(guò)真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用,使塑料表面金屬化,將有機(jī)材料和無(wú)機(jī)材料結(jié)合起來(lái),**提高了它的物理、化學(xué)性能。真空鍍膜技術(shù)***主要表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:1、使塑料表面有導(dǎo)電性;2、容易清洗,不吸塵。3、改善美觀,表面光滑,金屬光澤彩色化,裝飾性**提高;4、減少吸水率,鍍膜次數(shù)愈多,***愈少,吸水率降**品不易變形,提高耐熱性;5、改善表面硬度,原塑膠表面比金屬軟而易受損害,通過(guò)真空鍍膜技術(shù),硬度及耐磨性**增加;6、可以提高耐候性,一般塑料在室外會(huì)老化的非???,主要原因是紫外線照射所致,而鍍鋁后,鋁對(duì)紫外線反射**強(qiáng),所以耐候性**提高。目前,國(guó)內(nèi)真空鍍膜涂料產(chǎn)品主要有以下兩大系列:(1)氧化聚合型以聚氨酯和酚醛聚氨酯為主。該類涂料在低溫條件下就能干燥,稀釋劑為溶劑油,易揮發(fā),不腐蝕底材,涂層鏡面效果好,耐熱變性能好,主要應(yīng)用于ABS、PS、PP等塑料底材。真空鍍膜涂料**早從日本和大陸引進(jìn),主要品牌有NB63、VH563等。上世紀(jì)九十年代初。江蘇眼鏡架真空鍍膜機(jī)推薦廠家寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,貨架鍍膜,有需要可以咨詢!

真空鍍膜設(shè)備在操作過(guò)程中,膜層不均勻的可能原因主要包括靶材與基片的距離不當(dāng)、磁場(chǎng)設(shè)計(jì)不均勻以及乙炔引入不均勻等。具體內(nèi)容如下:距離問(wèn)題:靶材與待鍍基片之間的距離若未優(yōu)化,會(huì)影響濺射的均勻性。磁場(chǎng)設(shè)計(jì)問(wèn)題:磁控濺射的均勻性在很大程度上依賴于磁場(chǎng)的設(shè)計(jì),如果磁場(chǎng)分布和強(qiáng)度不均,則會(huì)導(dǎo)致膜層均勻度不佳。氣體引入問(wèn)題:如乙炔在反應(yīng)濺射過(guò)程中引入不均,也會(huì)導(dǎo)致沉積膜層的質(zhì)量在基片上存在差異。為了解決這些問(wèn)題,可以考慮以下方案:調(diào)整靶材與基片間的距離:確保兩者間距離適宜,以便改善濺射的均勻性。優(yōu)化磁場(chǎng)設(shè)計(jì):通過(guò)改善和優(yōu)化磁場(chǎng)的分布及強(qiáng)度,提高靶材表面離子轟擊的均勻性,進(jìn)而提升膜層均勻度。旋轉(zhuǎn)基片或靶材:在濺射過(guò)程中,改變它們的相對(duì)位置和角度,使得材料能夠更均勻地分布在基片上。
結(jié)合圖1和圖2所示,頂蓋22遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有動(dòng)觸點(diǎn)224;第二連接套2內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點(diǎn)123,靜觸點(diǎn)123位于寶來(lái)利真空凹槽21與抽氣管3之間;動(dòng)觸點(diǎn)224與外部電源電性連接;靜觸點(diǎn)123與氣缸53電性連接;利用動(dòng)觸點(diǎn)224與靜觸點(diǎn)123的接觸來(lái)控制氣缸53的運(yùn)行,防止氣缸53長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行,節(jié)約能源。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖1所示,鍍膜機(jī)1靠近出氣管11的側(cè)壁上設(shè)有開(kāi)關(guān)13及換向器;開(kāi)關(guān)13分別與換向器及真空泵4電性連接;換向器與電磁鐵122電性連接;利用換向器改變電磁鐵122電流的方向來(lái)改變磁極,進(jìn)行頂蓋22的打開(kāi)與閉合。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖4所示,頂蓋22側(cè)壁上設(shè)有凹孔225;便于在抽氣時(shí)氣體的排出。應(yīng)當(dāng)理解的是,對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可以根據(jù)上述說(shuō)明加以改進(jìn)或變換,而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,有需要可以來(lái)咨詢考察!

膜材料質(zhì)量問(wèn)題:膜材料的質(zhì)量也會(huì)影響膜層的均勻性。使用質(zhì)量不佳的膜材料可能導(dǎo)致膜層出現(xiàn)缺陷或不均勻。因此,應(yīng)選用經(jīng)過(guò)質(zhì)量檢驗(yàn)的膜材料,確保膜層的均勻性和穩(wěn)定性。針對(duì)上述問(wèn)題,可以采取以下措施解決:定期清洗設(shè)備:定期對(duì)真空鍍膜機(jī)內(nèi)部進(jìn)行清洗,去除雜質(zhì)和殘留物,確保設(shè)備內(nèi)部的清潔度。優(yōu)化材料分布:確保目標(biāo)材料在真空鍍膜機(jī)內(nèi)均勻分布,避免局部堆積或缺失。調(diào)整工藝參數(shù):根據(jù)實(shí)際需求調(diào)整真空鍍膜機(jī)的真空度、沉積速度、溫度等參數(shù),以獲得比較好的膜層均勻性。選用質(zhì)量膜材料:選擇質(zhì)量可靠的膜材料供應(yīng)商,確保膜材料的質(zhì)量符合要求。此外,定期進(jìn)行設(shè)備的校準(zhǔn)和維護(hù)也是確保真空鍍膜機(jī)性能和膜層均勻性的重要措施。通過(guò)定期檢查和維護(hù),可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)并解決潛在問(wèn)題,確保真空鍍膜機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和高效生產(chǎn)。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,多層復(fù)合膜,有需要可以咨詢!車載監(jiān)控真空鍍膜機(jī)供應(yīng)商家
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BLL系列真空離子鍍膜機(jī)是當(dāng)今世界上用于表面涂裝PVD膜層的**寶來(lái)利設(shè)備,運(yùn)用PLC及觸摸屏實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化邏輯程序控制操作,設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、外觀優(yōu)雅、性能穩(wěn)定、操作達(dá)到人機(jī)對(duì)話,簡(jiǎn)便,鍍出的膜層牢固且細(xì)密,是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備,其比較大特點(diǎn)是它的**性,真空鍍膜設(shè)備屬于無(wú)三廢、無(wú)污染的清潔生產(chǎn)設(shè)備,無(wú)須**部門審批。由于配有**的電器控制系統(tǒng)及穩(wěn)定的工藝界面,針對(duì)各種金屬進(jìn)行表面鍍膜.例如:鐘表行業(yè)(表帶、表殼、表盤等)、五金行業(yè)(衛(wèi)生潔具、門把手、拉手、門鎖等)、建筑行業(yè)(不銹鋼板、樓梯扶手、立柱等)、精密模具業(yè)(沖棒標(biāo)準(zhǔn)件模具、成型模具等)、工具行業(yè)(鉆頭、硬質(zhì)合金、銑刀、拉刀、刀頭)、汽車工業(yè)(活塞、活塞環(huán)、合金輪轂等)以及鋼筆、眼鏡等等,使其表面得到既美觀又耐磨的功能性磨層.主要鍍制的膜層有:離子金、離子銀、氮化鈦膜、碳化鈦膜、氮化鋯膜、鈦鋁合金膜、氮化鉻以及RP鍍等超硬功能性金屬膜,經(jīng)離子鍍膜加工后的工件,可以提高硬度、耐磨度,抗腐蝕和美化的作用??慑冎祁伾锈伣鹣盗?、鋯金系列、拉絲系列、黑色系列、彩色膜層系列共十多種色系。PVD多弧離子鍍?cè)硎前颜婵栈」夥烹娂夹g(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù)。江蘇眼鏡架真空鍍膜機(jī)推薦廠家
無(wú)論哪種類型的真空鍍膜設(shè)備,其重心組成部分都包括真空室、真空獲得系統(tǒng)、鍍膜源系統(tǒng)、基體支撐與傳動(dòng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、真空測(cè)量與檢漏系統(tǒng)等。這些系統(tǒng)相互配合,共同完成真空鍍膜的全過(guò)程,每個(gè)系統(tǒng)的性能都直接影響設(shè)備的整體性能和膜層質(zhì)量。真空室是真空鍍膜的重心場(chǎng)所,所有的鍍膜過(guò)程都在真空室內(nèi)完成。真空室通常由不銹鋼、鋁合金等強(qiáng)高度、耐腐蝕的材料制成,其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需滿足真空密封、強(qiáng)度、剛度等要求。根據(jù)鍍膜工件的尺寸和生產(chǎn)方式,真空室可分為鐘罩式、矩形腔式、圓筒式等多種結(jié)構(gòu)。鐘罩式真空室結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本較低,適用于間歇式生產(chǎn);矩形腔式和圓筒式真空室則適用于連續(xù)式生產(chǎn)線,能夠?qū)崿F(xiàn)工件的連續(xù)傳輸和鍍膜。真空室的密封...