丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司成立于2002年,是一家專門從事各種真空應(yīng)用設(shè)備制造,集研發(fā),生產(chǎn)和銷售于一體的民營(yíng)高科技企業(yè)。公司目前擁有在職員工100余人,其中高.中級(jí)以上技術(shù)職稱人員50余人,公司還聘請(qǐng)了國(guó)內(nèi)真空行業(yè)寶來(lái)利真空寶來(lái)利,教授和高級(jí)工程師,專門指導(dǎo)和負(fù)責(zé)公司新產(chǎn)品的研發(fā)與設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)新概念,新技術(shù)應(yīng)用鍍膜設(shè)備,確保公司真空設(shè)備產(chǎn)品高水平。公司擁有生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)豐富,包括機(jī)加工,鉗工,鈑金,焊接,電氣,真空設(shè)備安裝調(diào)試和真空鍍膜工藝等齊全的技術(shù)團(tuán)隊(duì),保證設(shè)備生產(chǎn)品質(zhì),高效率。公司還擁有一支的售后服務(wù)隊(duì)伍,解決設(shè)備在使用過(guò)程中遇到的各類疑難問(wèn)題,免除客戶的后顧之憂。多年以來(lái),本公司所生產(chǎn)的真空應(yīng)用設(shè)備和工藝交鑰匙工程,為多家鍍膜生產(chǎn)企業(yè)的發(fā)展提供了有力的技術(shù)支持,得到了廣大客戶的高度信譽(yù)。特別近幾年來(lái),隨著真空鍍膜技術(shù)的進(jìn)步,公司重點(diǎn)發(fā)展連續(xù)式磁控鍍膜生產(chǎn)線()及離子鍍膜技術(shù),包括非平衡磁控,中頻磁控濺射,電弧蒸發(fā)源,離子源輔助鍍膜和多種技術(shù)功能的組合,同時(shí)結(jié)合公司多年真空應(yīng)用技術(shù)的積累,設(shè)備設(shè)計(jì)與加工工藝精益求精,開發(fā)新一帶的工藝解決方案和鍍膜設(shè)備,鍍膜水平得到極大的進(jìn)步,至今。品質(zhì)真空鍍膜機(jī)膜層硬度高,請(qǐng)選丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司,有需要可以來(lái)咨詢考察!上海光學(xué)鏡片真空鍍膜機(jī)制造商

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)。背景技術(shù):真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材,基片與靶材同在真空腔中,濺射類鍍膜,可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái),并且**終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)),**終形成薄膜。目前市場(chǎng)上類似的磁控濺射真空鍍膜機(jī)在長(zhǎng)時(shí)間使用后,會(huì)在鍍膜機(jī)腔體的內(nèi)壁粘黏有靶材和雜質(zhì),通常需要裝卸內(nèi)部的轉(zhuǎn)動(dòng)架,用人工的方式對(duì)腔體內(nèi)壁進(jìn)行定時(shí)維護(hù),手動(dòng)清理擦拭,費(fèi)時(shí)費(fèi)力,清理效率低,為了解決上述問(wèn)題,我們提出一種磁控濺射真空鍍膜機(jī)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供一種磁控濺射真空鍍膜機(jī),以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種磁控濺射真空鍍膜機(jī),包括控制箱,所述控制箱的上表面后側(cè)固定安裝后罐體,所述后罐體的前表面鉸接有前罐體,所述后罐體的前表面上側(cè)固定安裝有驅(qū)動(dòng)裝置,所述驅(qū)動(dòng)裝置,所述驅(qū)動(dòng)裝置的下側(cè)安裝有清理裝置,所述清理裝置包括u形架。眼鏡片真空鍍膜機(jī)參考價(jià)品質(zhì)真空鍍膜機(jī)膜層致密,請(qǐng)選丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司,有需要可以來(lái)咨詢考察!

提升了清理效率。附圖說(shuō)明圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意俯視圖。圖中:1控制箱、2前罐體、3后罐體、4清理裝置、41通孔、42噴頭、43刮板、44u形架、5驅(qū)動(dòng)裝置、51半圓槽、52半圓板、53轉(zhuǎn)軸通孔、54減速電機(jī)、55防護(hù)罩、6泵、7集料盒、71出料口、72外螺管、73收集盒、8清洗箱。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例**是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。請(qǐng)參閱圖1、圖2,本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案:一種磁控濺射真空鍍膜機(jī),包括控制箱1,控制箱1的上表面后側(cè)固定安裝后罐體3,后罐體3的前表面鉸接有前罐體2,后罐體3的前表面上側(cè)固定安裝有驅(qū)動(dòng)裝置5,驅(qū)動(dòng)裝置5,驅(qū)動(dòng)裝置5的下側(cè)安裝有清理裝置4,清理裝置4包括u形架44,u形架44的下端通過(guò)軸承轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在后罐體3的內(nèi)部下側(cè),u形架44的外側(cè)固定安裝有刮板43,刮板43的外側(cè)與后罐體3、前罐體2的內(nèi)表面緊密貼合,后罐體3和前罐體2的上表面外側(cè)均勻開設(shè)有通孔41。
所描述的實(shí)施例寶來(lái)利寶來(lái)利是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。請(qǐng)參閱圖1-5,本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案:一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,包括腔體1、基板2和坩堝3,腔體1內(nèi)壁底部的兩側(cè)分別固定連接有加熱器和冷凝器,坩堝3放置在加熱板14的頂部,腔體1左側(cè)的底部固定連接有抽風(fēng)機(jī)21,并且抽風(fēng)機(jī)21進(jìn)風(fēng)口的一端連通有風(fēng)管22,風(fēng)管22遠(yuǎn)離抽風(fēng)機(jī)21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部,腔體1左側(cè)的頂部固定連接有電機(jī)16,電機(jī)16通過(guò)導(dǎo)線與控制開關(guān)及外部電源連接,并且電機(jī)16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17,雙向螺紋桿17表面的兩側(cè)且位于腔體1的內(nèi)部均螺紋連接有活動(dòng)塊18,兩個(gè)活動(dòng)塊18的底部均固定連接有限位板19,兩個(gè)限位板19相對(duì)的一側(cè)均開設(shè)有與基板2相適配的限位槽,并且兩個(gè)活動(dòng)塊18的頂部均通過(guò)第二滑軌20與腔體1內(nèi)壁的頂部滑動(dòng)連接,雙向螺紋桿17遠(yuǎn)離電機(jī)16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部,雙向螺紋桿17位于腔體1內(nèi)部的一端與腔體1內(nèi)壁的右側(cè)通過(guò)軸承轉(zhuǎn)動(dòng)連接,腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來(lái)咨詢!

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因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi),降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同時(shí),由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少,可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度,使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。附圖說(shuō)明此處的附圖被并入說(shuō)明書中并構(gòu)成本說(shuō)明書的一部分,示出了符合本實(shí)用新型的實(shí)施例,并與說(shuō)明書一起用于解釋本實(shí)用新型的原理。為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為圖1所示結(jié)構(gòu)中的剖視結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為設(shè)置于第二底板底部的溫控管的結(jié)構(gòu)示意圖。圖標(biāo):10-外腔體;11-寶來(lái)利真空底板;12-寶來(lái)利真空側(cè)壁;13-傳送裝置;20-內(nèi)反應(yīng)腔;21-第二底板;22-第二側(cè)壁;23-自動(dòng)門;30-密封蓋板;40-溫控管;41-恒溫控制器。具體實(shí)施方式為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和***更加清楚,下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然。上海光學(xué)鏡片真空鍍膜機(jī)制造商
無(wú)論哪種類型的真空鍍膜設(shè)備,其重心組成部分都包括真空室、真空獲得系統(tǒng)、鍍膜源系統(tǒng)、基體支撐與傳動(dòng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、真空測(cè)量與檢漏系統(tǒng)等。這些系統(tǒng)相互配合,共同完成真空鍍膜的全過(guò)程,每個(gè)系統(tǒng)的性能都直接影響設(shè)備的整體性能和膜層質(zhì)量。真空室是真空鍍膜的重心場(chǎng)所,所有的鍍膜過(guò)程都在真空室內(nèi)完成。真空室通常由不銹鋼、鋁合金等強(qiáng)高度、耐腐蝕的材料制成,其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需滿足真空密封、強(qiáng)度、剛度等要求。根據(jù)鍍膜工件的尺寸和生產(chǎn)方式,真空室可分為鐘罩式、矩形腔式、圓筒式等多種結(jié)構(gòu)。鐘罩式真空室結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本較低,適用于間歇式生產(chǎn);矩形腔式和圓筒式真空室則適用于連續(xù)式生產(chǎn)線,能夠?qū)崿F(xiàn)工件的連續(xù)傳輸和鍍膜。真空室的密封...