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電磁鐵122頂出磁片223,頂蓋22離開(kāi)出氣管11口,空氣及粉塵從出氣管11排出,當(dāng)頂蓋22的動(dòng)觸點(diǎn)224與靜觸點(diǎn)123接觸時(shí),氣缸53通電,伸出伸縮軸,利用空氣壓力將擠壓管52中的水噴出,粉塵遇水沉降落入沉降管51底部,鍍膜機(jī)1內(nèi)達(dá)到相應(yīng)的真空度時(shí),反方向按下開(kāi)關(guān)13,電磁鐵122在換向器的作用下電流改變,磁極改變,產(chǎn)生與磁片223相反的磁極,電磁鐵122與磁片223相吸,此時(shí)真空泵4斷電,動(dòng)、靜觸點(diǎn)斷開(kāi),氣缸53斷電,頂蓋22緊緊地蓋在出氣管11口上。上述實(shí)施例中,開(kāi)關(guān)13為雙向開(kāi)關(guān),往一方向按下時(shí),真空泵4與電磁鐵122均通電,往另一方向按下時(shí),真空泵4斷電,電磁鐵122在換向器的作用下電流方向發(fā)生改變,產(chǎn)生相反的磁極。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖2可得,寶來(lái)利真空連接套12遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有寶來(lái)利真空安裝位121;寶來(lái)利真空安裝位121位于出氣管11兩側(cè);寶來(lái)利真空安裝位121內(nèi)固定有電磁鐵122;頂蓋22靠近鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有第二安裝位222;第二安裝位222與寶來(lái)利真空安裝位121位置相對(duì)應(yīng);第二安裝位222內(nèi)固定有磁片223;電磁鐵122與磁片223分別通過(guò)膠水固定在寶來(lái)利真空安裝位121以及第二安裝位222中;利用磁鐵“同極相斥、異極相吸”的原理,控制頂蓋22的關(guān)閉和打開(kāi)。江蘇模具真空鍍膜機(jī)規(guī)格寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,檔次高,有需要可以咨詢(xún)!

以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔;所述內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門(mén),所述自動(dòng)門(mén)連接自動(dòng)門(mén)控制器,工件自所述外腔體經(jīng)所述自動(dòng)門(mén)進(jìn)入所述內(nèi)反應(yīng)腔中。進(jìn)一步地,所述外腔體包括寶來(lái)利真空底板和沿所述寶來(lái)利真空底板周向設(shè)置的寶來(lái)利真空側(cè)壁;所述內(nèi)反應(yīng)腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設(shè)置的第二側(cè)壁;所述寶來(lái)利真空底板與所述第二底板相互分離設(shè)置,所述寶來(lái)利真空側(cè)壁與所述第二側(cè)壁相互分離設(shè)置;所述寶來(lái)利真空側(cè)壁與蓋設(shè)于所述寶來(lái)利真空側(cè)壁上的密封蓋板密閉連接,所述第二側(cè)壁與所述密封蓋板相互分離設(shè)置。進(jìn)一步地,所述自動(dòng)門(mén)設(shè)置于所述第二側(cè)壁上,所述外腔體內(nèi)設(shè)有傳送裝置,所述工件自所述傳送裝置經(jīng)所述自動(dòng)門(mén)傳遞至所述內(nèi)反應(yīng)腔中。進(jìn)一步地,所述第二底板和/或所述第二側(cè)壁上設(shè)有用于對(duì)所述內(nèi)反應(yīng)腔進(jìn)行控溫的溫控裝置。進(jìn)一步地,所述溫控裝置包括溫控管,所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進(jìn)一步地,所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進(jìn)一步地,所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管;所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進(jìn)一步地,所述溫控管纏繞于所述第二側(cè)壁的外部,且所述溫控管鋪設(shè)于所述第二底板的底部。
結(jié)合圖1和圖2所示,頂蓋22遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有動(dòng)觸點(diǎn)224;第二連接套2內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點(diǎn)123,靜觸點(diǎn)123位于寶來(lái)利真空凹槽21與抽氣管3之間;動(dòng)觸點(diǎn)224與外部電源電性連接;靜觸點(diǎn)123與氣缸53電性連接;利用動(dòng)觸點(diǎn)224與靜觸點(diǎn)123的接觸來(lái)控制氣缸53的運(yùn)行,防止氣缸53長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行,節(jié)約能源。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖1所示,鍍膜機(jī)1靠近出氣管11的側(cè)壁上設(shè)有開(kāi)關(guān)13及換向器;開(kāi)關(guān)13分別與換向器及真空泵4電性連接;換向器與電磁鐵122電性連接;利用換向器改變電磁鐵122電流的方向來(lái)改變磁極,進(jìn)行頂蓋22的打開(kāi)與閉合。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖4所示,頂蓋22側(cè)壁上設(shè)有凹孔225;便于在抽氣時(shí)氣體的排出。應(yīng)當(dāng)理解的是,對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可以根據(jù)上述說(shuō)明加以改進(jìn)或變換,而所有這些改進(jìn)和變換都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求的保護(hù)范圍。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,高爾夫球具鍍膜,有需要可以咨詢(xún)!

因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi),降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同時(shí),由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少,可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度,使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。附圖說(shuō)明此處的附圖被并入說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成本說(shuō)明書(shū)的一部分,示出了符合本實(shí)用新型的實(shí)施例,并與說(shuō)明書(shū)一起用于解釋本實(shí)用新型的原理。為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為圖1所示結(jié)構(gòu)中的剖視結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為設(shè)置于第二底板底部的溫控管的結(jié)構(gòu)示意圖。圖標(biāo):10-外腔體;11-寶來(lái)利真空底板;12-寶來(lái)利真空側(cè)壁;13-傳送裝置;20-內(nèi)反應(yīng)腔;21-第二底板;22-第二側(cè)壁;23-自動(dòng)門(mén);30-密封蓋板;40-溫控管;41-恒溫控制器。具體實(shí)施方式為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和***更加清楚,下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然。寶來(lái)利真空鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,黑色碳化鈦,有需要可以咨詢(xún)!浙江手機(jī)屏真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)廠家
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如圖3所示,所述溫控裝置包括溫控管40,所述溫控管40連接位于外腔體10外的恒溫控制器41。溫控管40的引入口及引出口與外部的恒溫控制器41連接,恒溫控制器41可用于恒溫制冷也可用于恒溫加熱,保證內(nèi)反應(yīng)腔20中的溫度可以持續(xù)恒定,從而使工藝反應(yīng)區(qū)域內(nèi)的工藝環(huán)境溫度更穩(wěn)定。經(jīng)過(guò)在真空鍍膜設(shè)備上的實(shí)際應(yīng)用驗(yàn)證,該真空腔體對(duì)于工藝成膜質(zhì)量及鍍膜均勻性均有十分有效的改善和提升。其中,溫控管40包括加熱管和/或冷卻管。一般情況下,在工藝反應(yīng)過(guò)程中,通常需要升溫以完成相關(guān)的工藝反應(yīng),因此,溫控管40包括必要的加熱管,而冷卻管可以根據(jù)實(shí)際的工藝需要選選擇性地添加即可。例如,若在工藝反應(yīng)過(guò)程中,需要進(jìn)行快速降溫,此時(shí)可以設(shè)置冷卻管。所述加熱管非限制性地例如可以為電加熱管、水加熱管或油加熱管。冷卻管例如可以為水冷卻管或油冷卻管。為了增加溫控效果,第二側(cè)壁22和第二底板21處均設(shè)有溫控管40。其中,所述溫控管40纏繞于所述第二側(cè)壁22的外部,且所述溫控管40鋪設(shè)于所述第二底板21的底部。除上述纏繞方式外,還可以用埋設(shè)的方式鋪設(shè)加熱管,例如,所述第二底板21內(nèi)和所述第二側(cè)壁22內(nèi)均設(shè)有用于穿設(shè)溫控管40的通道,所述溫控管40埋設(shè)于所述通道內(nèi)。上海靶材真空鍍膜機(jī)供應(yīng)商家
無(wú)論哪種類(lèi)型的真空鍍膜設(shè)備,其重心組成部分都包括真空室、真空獲得系統(tǒng)、鍍膜源系統(tǒng)、基體支撐與傳動(dòng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、真空測(cè)量與檢漏系統(tǒng)等。這些系統(tǒng)相互配合,共同完成真空鍍膜的全過(guò)程,每個(gè)系統(tǒng)的性能都直接影響設(shè)備的整體性能和膜層質(zhì)量。真空室是真空鍍膜的重心場(chǎng)所,所有的鍍膜過(guò)程都在真空室內(nèi)完成。真空室通常由不銹鋼、鋁合金等強(qiáng)高度、耐腐蝕的材料制成,其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需滿(mǎn)足真空密封、強(qiáng)度、剛度等要求。根據(jù)鍍膜工件的尺寸和生產(chǎn)方式,真空室可分為鐘罩式、矩形腔式、圓筒式等多種結(jié)構(gòu)。鐘罩式真空室結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本較低,適用于間歇式生產(chǎn);矩形腔式和圓筒式真空室則適用于連續(xù)式生產(chǎn)線(xiàn),能夠?qū)崿F(xiàn)工件的連續(xù)傳輸和鍍膜。真空室的密封...