電解腐蝕，控制表面質(zhì)量的一致性電解拋光儀可以通過精確控制電解參數(shù)，如電流密度、電壓、電解時(shí)間等來保證樣品表面質(zhì)量的一致性。這對于需要批量處理金相樣品的情況非常重要。在工業(yè)質(zhì)量控制和材料研究中，經(jīng)常需要對多個(gè)相同材料的樣品進(jìn)行分析。使用電解拋光儀，只要設(shè)定好合適的電解參數(shù)，就可以確保每個(gè)樣品都能獲得相近的表面質(zhì)量，便于后續(xù)的觀察和比較。例如，在對一批鋁合金材料進(jìn)行金相分析時(shí)，通過電解拋光儀可以使每個(gè)樣品的表面都達(dá)到相同的光潔度標(biāo)準(zhǔn)，從而提高了分析結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。電解拋光腐蝕，電流、電壓精度高，精確到小數(shù)點(diǎn)后兩位。重慶金屬拋光腐蝕性價(jià)比高

晶間腐蝕儀器應(yīng)用于不銹鋼的晶間腐蝕的設(shè)備，用于檢驗(yàn)各種類型的不銹鋼、鋁合金等材料在特定的溫度和腐蝕試劑下晶間腐蝕的狀況，從而判定材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理，是金屬局部腐蝕的一種，沿著金屬晶粒間的分界面向內(nèi)部擴(kuò)展的腐蝕，晶間腐蝕會破壞晶粒間的結(jié)合，大幅降低金屬的機(jī)械強(qiáng)度。腐蝕發(fā)生后，金屬和合金的表面雖然仍保持一定的金屬光澤，看不出被破壞的跡象，但晶粒間結(jié)合力逐漸減弱，力學(xué)性能惡化。由此可見，晶間腐蝕是一種很危險(xiǎn)的腐蝕。本儀器是用于評價(jià)材料的晶間腐蝕性能的儀器。湖南腐蝕性價(jià)比高電解拋光腐蝕，用戶的計(jì)算機(jī)可直接讀取所有歷史數(shù)據(jù)，可對所有數(shù)據(jù)進(jìn)行分析、存檔、打印處理。

晶間腐蝕涌入，主要由于晶粒表面和內(nèi)部間化學(xué)成分的差異以及晶界雜質(zhì)或內(nèi)應(yīng)力的存在。晶間腐蝕破壞晶粒間的結(jié)合，降低金屬的機(jī)械強(qiáng)度。而且腐蝕發(fā)生后金屬和合金的表面仍保持一定的金屬光澤，看不出被破壞的跡象，但晶粒間結(jié)合力明顯減弱，力學(xué)性能惡化, 不能經(jīng)受敲擊，所以是一種很危險(xiǎn)的腐蝕。通常出現(xiàn)于黃銅、硬鋁合金和一些不銹鋼、鎳基合金中。不銹鋼焊縫的晶間腐蝕是化學(xué)工業(yè)的一個(gè)重大問題。不銹鋼在腐蝕介質(zhì)作用下，在晶粒之間產(chǎn)生的一種腐蝕現(xiàn)象稱為晶間腐蝕。

電解拋光腐蝕原理，關(guān)于電解拋光原理的爭論很多，被公認(rèn)的主要為薄膜理論。薄膜理論解釋的電解拋光過程是:電解拋光時(shí)，靠近試樣陽極表面的電解液，在試樣上隨著表面的凸凹不平形成了一層薄厚不均勻的黏性薄膜，這種薄膜在工件的凸起處較薄，凹處較厚，此薄膜具有很高的電阻，因凸起處薄膜薄而電阻小，電流密度高而溶解快;凹處薄膜厚而電阻大，電流密度低而溶解慢，由于溶解速度的不同，凹凸不斷變化，粗糙表面逐漸被平整，然后形成光亮平滑的拋光面。電解拋光過程的關(guān)鍵是形成穩(wěn)定的薄膜，而薄膜的穩(wěn)定與拋光材料的性質(zhì)、電解液的種類、拋光時(shí)的電壓大小和電流密度都密切相關(guān)。根據(jù)實(shí)驗(yàn)得出的電壓和電流的關(guān)系曲線稱為電解拋光特性曲線，根據(jù)它可以決定合適的電解拋光規(guī)范。晶間腐蝕，可判定材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理。

晶間腐蝕試驗(yàn) (intergranular corrosion test)，在特定介質(zhì)條件下檢驗(yàn)金屬材料晶間腐蝕敏感性的加速金屬腐蝕試驗(yàn)方法，目的是為了了解材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理。其原理是采用可使金屬的腐蝕電位處在恒電位陽極極化曲線特定區(qū)間的各種試驗(yàn)溶液，然后利用金屬的晶粒和晶界在該電位區(qū)間腐蝕電流的明顯的差異加速顯示晶間腐蝕，不銹鋼、鋁合金等的晶間腐蝕試驗(yàn)方法在許多國家均已標(biāo)準(zhǔn)化。各標(biāo)準(zhǔn)對試驗(yàn)細(xì)節(jié)均有詳細(xì)規(guī)定。低倍組織熱酸蝕腐蝕觸摸屏操控顯示，簡單直觀。陜西試驗(yàn)設(shè)備腐蝕操作簡單

低倍加熱腐蝕采用三層樣品隔離放置方式，樣品取放方便且增加了工作空間，改善腐蝕性。重慶金屬拋光腐蝕性價(jià)比高

電解拋光腐蝕參考資料