晶間腐蝕涌入,主要由于晶粒表面和內(nèi)部間化學(xué)成分的差異以及晶界雜質(zhì)或內(nèi)應(yīng)力的存在。晶間腐蝕破壞晶粒間的結(jié)合,降低金屬的機(jī)械強(qiáng)度。而且腐蝕發(fā)生后金屬和合金的表面仍保持一定的金屬光澤,看不出被破壞的跡象,但晶粒間結(jié)合力明顯減弱,力學(xué)性能惡化, 不能經(jīng)受敲擊,所以是一種很危險(xiǎn)的腐蝕。通常出現(xiàn)于黃銅、硬鋁合金和一些不銹鋼、鎳基合金中。不銹鋼焊縫的晶間腐蝕是化學(xué)工業(yè)的一個(gè)重大問(wèn)題。不銹鋼在腐蝕介質(zhì)作用下,在晶粒之間產(chǎn)生的一種腐蝕現(xiàn)象稱為晶間腐蝕。低倍加熱腐蝕觸摸屏操控顯示,簡(jiǎn)單直觀。貴州電解腐蝕源頭廠家

晶間腐蝕檢驗(yàn)方法:晶間腐蝕后有通常有兩種方法檢測(cè),一種是彎曲法,也就是對(duì)折法,就是試樣進(jìn)行晶間腐蝕檢驗(yàn)后在彎曲試驗(yàn)機(jī)上進(jìn)行彎曲180°,用放大鏡觀察彎曲表面,根據(jù)表面是夠有裂紋來(lái)判斷是否有晶間腐蝕發(fā)生,另一種是金相法,根據(jù)晶間腐蝕后試樣進(jìn)行磨拋+化學(xué)腐蝕,通過(guò)金相顯微鏡觀察腐蝕深度,通過(guò)晶間腐蝕深度來(lái)判斷是否發(fā)生晶間腐蝕;其實(shí)還有第三種辦法,就是有經(jīng)驗(yàn)的師傅還可以通過(guò)聽(tīng)聲法來(lái)判斷,這個(gè)主觀影響較大,不建議使用;金相試樣橫向和縱向都是允許的,因?yàn)槭桥袛嘣嚇痈g的深度,所以橫向還是縱向影響不大的。貴州電解腐蝕源頭廠家電解拋光腐蝕,電流、電壓精度高,精確到小數(shù)點(diǎn)后兩位。

晶間腐蝕常用的試驗(yàn)方法:硫酸-硫酸鐵法適用于檢驗(yàn)鎳基合金、不銹鋼因碳化物析出引起的晶間腐蝕。奧氏體不銹鋼在此溶液中的腐蝕電位處于鈍化區(qū)。試驗(yàn)結(jié)果采用腐蝕率和固溶試樣腐蝕率比較來(lái)評(píng)定;草酸浸蝕法主要用作檢驗(yàn)奧氏體不銹鋼晶間腐蝕的篩選試驗(yàn)。電解浸蝕時(shí)腐蝕電位處于過(guò)鈍化區(qū)。浸蝕后用金相顯微鏡觀察浸蝕組織分類評(píng)定;鹽酸法適用于檢驗(yàn)?zāi)承└咩f鎳基合金的晶間腐蝕。試驗(yàn)結(jié)果以腐蝕率評(píng)定;氯化鈉-過(guò)氧化氫法適用于檢驗(yàn)含銅鋁合金的晶間腐蝕。試488驗(yàn)結(jié)果采用金相顯微鏡測(cè)量晶間腐蝕深度評(píng)定;氯化鈉-鹽酸法適用于檢驗(yàn)鋁鎂合金的晶間腐蝕。試驗(yàn)結(jié)果的評(píng)定同上;電化學(xué)動(dòng)電位再活化法(EPR法)。在特定溶液中將試樣鈍化后再活化,測(cè)定動(dòng)電位掃描極化曲線,以再活化電量評(píng)定晶間腐蝕敏感性。此法具有快速的特點(diǎn)。
電解拋光腐蝕,貴金屬及其合金電解浸蝕劑和電解拋光液表
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浸蝕劑名稱及成分 |
使用方法 |
適用范圍 |
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氯化鉀過(guò)飽和 過(guò)溶液 400亳升 鹽酸 幾滴 |
直流電電流密度0.07~0.09安/厘米2 陽(yáng)極:不銹鋼 電解+機(jī)械聯(lián)合拋光法, 時(shí)間2~3分鐘 |
純金的電解拋光和電解浸蝕。 |
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硫脲 8~10克 硫酸 12亳升 乙酸 40亳升 |
直流電: 10~15伏 溫度: 常溫 時(shí)間: 10~60秒 |
金基合金的電解浸蝕。
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硫代硫酸鈉 20克 水 400亳升 |
直流電:0.8~1安/厘米2 陽(yáng)極:不銹鋼 電解+機(jī)械拋光法,時(shí)間0.5~1.5分鐘 |
銀及其合金的電解拋光。調(diào)節(jié)電流密度可用于銀基合金的電解浸蝕 |

電解拋光腐蝕,顯示鋼的顯微組織的電解浸蝕劑及電解拋光液表
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浸蝕劑名稱及成分 |
使用方法 |
適用范圍 |
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混合酸水溶液: 磷酸 90亳升 硝酸 8亳升 水 2亳升 |
使用冰溶液。 |
適用于拋光和浸蝕Fe—A1合金(A1含量至16%) |
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硝酸水溶液: 硝酸 50亳升 水 50亳升 |
室溫,使用電壓1.5伏,2分鐘使用通風(fēng)櫥 |
顯示奧氏體或鐵素體不銹鋼的晶界。 |
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鹽酸酒精溶液: 鹽酸 10亳升 無(wú)水酒精 90亳升 |
10~30秒 電壓6伏 |
顯示σ鐵和鉻鋼及CrNi鋼的一組織。 |
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硫酸水溶液: 硫酸 5亳升 水 95亳升 |
室溫,使用電壓, 電流密度0.1~0.5安/厘米2,浸蝕時(shí)間5~15秒。 |
適用于Fe-Cr-Ni合金。 |
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晶間腐蝕,有漏電和短路保護(hù)。貴州電解腐蝕源頭廠家
電解拋光腐蝕原理,關(guān)于電解拋光原理的爭(zhēng)論很多,被公認(rèn)的主要為薄膜理論。薄膜理論解釋的電解拋光過(guò)程是:電解拋光時(shí),靠近試樣陽(yáng)極表面的電解液,在試樣上隨著表面的凸凹不平形成了一層薄厚不均勻的黏性薄膜,這種薄膜在工件的凸起處較薄,凹處較厚,此薄膜具有很高的電阻,因凸起處薄膜薄而電阻小,電流密度高而溶解快;凹處薄膜厚而電阻大,電流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不斷變化,粗糙表面逐漸被平整,然后形成光亮平滑的拋光面。電解拋光過(guò)程的關(guān)鍵是形成穩(wěn)定的薄膜,而薄膜的穩(wěn)定與拋光材料的性質(zhì)、電解液的種類、拋光時(shí)的電壓大小和電流密度都密切相關(guān)。根據(jù)實(shí)驗(yàn)得出的電壓和電流的關(guān)系曲線稱為電解拋光特性曲線,根據(jù)它可以決定合適的電解拋光規(guī)范。貴州電解腐蝕源頭廠家
無(wú)錫歐馳檢測(cè)技術(shù)有限公司是一家生產(chǎn)型類企業(yè),積極探索行業(yè)發(fā)展,努力實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新。無(wú)錫歐馳是一家有限責(zé)任公司(自然)企業(yè),一直“以人為本,服務(wù)于社會(huì)”的經(jīng)營(yíng)理念;“誠(chéng)守信譽(yù),持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司始終堅(jiān)持客戶需求優(yōu)先的原則,致力于提供高質(zhì)量的切割機(jī)、鑲嵌機(jī)、磨拋機(jī),低倍腐蝕儀、晶間腐蝕儀,電解拋光腐蝕儀、金相耗材,金相顯微鏡、通風(fēng)系統(tǒng)。無(wú)錫歐馳順應(yīng)時(shí)代發(fā)展和市場(chǎng)需求,通過(guò)**技術(shù),力圖保證高規(guī)格高質(zhì)量的切割機(jī)、鑲嵌機(jī)、磨拋機(jī),低倍腐蝕儀、晶間腐蝕儀,電解拋光腐蝕儀、金相耗材,金相顯微鏡、通風(fēng)系統(tǒng)。
電解腐蝕儀,是利用電解原理對(duì)材料進(jìn)行腐蝕加工或分析的設(shè)備,其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)需兼顧電解反應(yīng)的適用性、安全性及操作便利性。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)關(guān)鍵要點(diǎn)耐蝕性優(yōu)先:所有與電解液接觸的部件(槽體、電極、管路)必須選用對(duì)應(yīng)耐蝕材料,避免因腐蝕導(dǎo)致設(shè)備損壞或污染電解液。電流均勻性:陰極形狀、電極間距、電解液流速需優(yōu)化設(shè)計(jì),確保工件表面電流密度一致,避免局部腐蝕過(guò)度或不足??删S護(hù)性:管路接口、電極夾具等易損部件需便于拆卸更換,電解槽底部設(shè)排污口,定期清理沉淀雜質(zhì)。 低倍組織熱酸蝕腐蝕檢查鋼材原材料缺陷和鍛造流線。嘉興金屬拋光腐蝕按鈕操作晶間腐蝕,晶間腐蝕是一種局部腐蝕,主要發(fā)生在金屬材料的晶粒間界區(qū),沿著晶界發(fā)展...