多年來(lái)，Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目，包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目。如今，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開(kāi)發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年，名為Miliquant，由德國(guó)聯(lián)邦教育和研究部（簡(jiǎn)稱BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開(kāi)展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn)，開(kāi)發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作，還需要開(kāi)發(fā)可靠的組件，以及組裝和制造的新方法。Nanoscribe的Photonic Professional系列打印系統(tǒng)制作的微流控元件可以完全嵌入進(jìn)預(yù)制的二維微流道系統(tǒng)。湖南高精度Nanoscribe中國(guó)

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。   四川2PPNanoscribe三維微納米加工系統(tǒng)微米級(jí)分辨率，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者，Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動(dòng)，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰，結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù)，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對(duì)信息的了解和需求。Nanoscribe中國(guó)子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國(guó)客戶無(wú)需顧慮語(yǔ)言障礙，更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用

Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過(guò)3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè)，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí)，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。Nanoscribe技術(shù)是一種高精度的三維打印技術(shù)。

IP樹(shù)脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457?mm。 影響增材制造技術(shù)的因素你了解嗎？歡迎咨詢Nanoscribe在中國(guó)的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。湖北2GLNanoscribeQuantum X

Nanoscribe是一家**的增材制造技術(shù)公司，專注于高精度的微納米級(jí)3D打印技術(shù)。湖南高精度Nanoscribe中國(guó)

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件，比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測(cè)器、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應(yīng)用，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性。

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