基于雙光子聚合（2PP）原理的雙光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技術(shù)，具備體素動態(tài)控制能力。在掃描激光焦點橫跨掃描平面時，調(diào)制曝光劑量會改變光敏樹脂內(nèi)的體素大小，從而實現(xiàn)對聚合體素尺寸的精細(xì)可控變化。這是激光功率調(diào)制和高速振鏡掃描與精確的橫向載物臺運(yùn)動同步的結(jié)果。為此，將灰度圖像轉(zhuǎn)換為曝光級別的空間變化，從而在一個平面上打印不同的體素高度。 2GL有什么優(yōu)勢？ 雙光子灰度光刻 技術(shù)（2GL®）使用激光束調(diào)制和高速振鏡的高頻同步進(jìn)行單體素調(diào)節(jié)，從而實現(xiàn)光學(xué)質(zhì)量表面結(jié)構(gòu)。通過高精度定位單元和自校準(zhǔn)程序，可在拼接相鄰打印區(qū)域時以出色準(zhǔn)確性進(jìn)行打印，以制造大型結(jié)構(gòu)。2GL動態(tài)調(diào)整打印場邊界處的激光劑量，以補(bǔ)償光敏聚合物的化學(xué)誘導(dǎo)收縮和定位缺陷。通過這種功能組合，可以在幾平方厘米的區(qū)域內(nèi)打印出真正的無縫結(jié)構(gòu)，消除所有拼接痕跡。更多有關(guān)高精度三維光刻的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。廣東德國Nanoscribe無掩膜光刻

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。

湖北雙光子Nanoscribe微光學(xué)這項技術(shù)具有快速、精確和可定制的特點。

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現(xiàn)具有特定光子，機(jī)械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。

    傳統(tǒng)3D打印難以實現(xiàn)對于復(fù)雜設(shè)計或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會明顯增加對于平滑、曲線或精細(xì)結(jié)構(gòu)的打印時間。雙光子聚合技術(shù)（2PP）則可以解決這個難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）可實現(xiàn)體素調(diào)節(jié)，從而明顯減少打印層數(shù)。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實現(xiàn)的。并且，這項技術(shù)已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®，該技術(shù)具備實現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì)，并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)級表面的任意3D打印設(shè)計的真實完美形狀。 Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級別的精確打印，為科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用提供了全新的可能性。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。 Nanoscribe的3D打印設(shè)備具有高設(shè)計自由度和高精度的特點。浙江雙光子聚合NanoscribeQX

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Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。   廣東德國Nanoscribe無掩膜光刻