Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶(hù)設(shè)施。

在科研領(lǐng)域,Nanoscribe 的系列3D打印設(shè)備幫助推動(dòng)著微納光學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)等等領(lǐng)域的研究和發(fā)展。南京微納3D打印供應(yīng)商

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě)，而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫(xiě)激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過(guò)色散透鏡聚焦的光因波長(zhǎng)不同焦點(diǎn)位置也不盡相同。通過(guò)組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強(qiáng)度和折射率高度相關(guān)，同時(shí)將打印的雙透鏡中的每個(gè)單獨(dú)透鏡可視化。 湖州雙光子微納3D打印價(jià)格想要了解更多雙光子微納3D打印技術(shù)信息，敬請(qǐng)咨詢(xún)Nanoscribe中國(guó)分公司納糯三維科技（上海）有限公司。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量?？偠灾I(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時(shí)還離不開(kāi)工業(yè)級(jí)飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅(jiān)固的花崗巖操作平臺(tái)。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點(diǎn)軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。

為了探索待測(cè)物微納米表面形貌，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過(guò)去幾十年中沒(méi)有明顯的研究進(jìn)展，這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能。如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變，以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí)，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶(hù)共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。  Nanoscribe是世界排名在前的納米制造和精密制造用高精度3D 打印機(jī)制造商。

事實(shí)上，雙光子聚合加工是在2001年開(kāi)始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說(shuō)中的納米牛引起了極大的轟動(dòng)：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作，這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達(dá)到了120nm，超越了衍射極限，同時(shí)還沒(méi)有使用諸如近場(chǎng)加工之類(lèi)的不太通用的解決方案，而是單純的利用了材料的性質(zhì)。    微納米3D打印系統(tǒng)基于新型的面投影微光刻技術(shù)原理設(shè)計(jì)而成，能實(shí)現(xiàn)多材料的微納尺度材料三維打印。無(wú)錫工業(yè)微納3D打印哪個(gè)好

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    微納3D打印技術(shù)的優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：高精度和復(fù)雜性：微納3D打印技術(shù)可以在微米和納米尺度上實(shí)現(xiàn)高精度的打印，能夠制造出具有復(fù)雜幾何形狀和微觀結(jié)構(gòu)的零件。這種能力使得微納3D打印在生物醫(yī)學(xué)、電子、光學(xué)和航空航天等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。特別是在需要高精度和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的器件制造中，微納3D打印技術(shù)展現(xiàn)出了獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。定制化設(shè)計(jì)：微納3D打印技術(shù)可以根據(jù)用戶(hù)需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì)，滿(mǎn)足個(gè)性化需求。設(shè)計(jì)師可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景，靈活調(diào)整打印參數(shù)和材料，實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新設(shè)計(jì)。這種定制化設(shè)計(jì)的能力使得微納3D打印在特殊材料和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的制造中具有很高的靈活性。材料利用率高：與傳統(tǒng)的加工方法相比，微納3D打印技術(shù)的材料利用率更高。在打印過(guò)程中，只有需要的材料才會(huì)被使用，從而避免了不必要的浪費(fèi)。這不僅有助于降低生產(chǎn)成本，還能提高生產(chǎn)效率，減少對(duì)環(huán)境的影響。廣泛的應(yīng)用范圍：微納3D打印技術(shù)適用于多種材料和結(jié)構(gòu)類(lèi)型，可以制造金屬、塑料、陶瓷等多種材料的微納結(jié)構(gòu)。這使得它在微機(jī)電系統(tǒng)、微納光學(xué)器件、微流體器件、生物醫(yī)療和組織工程、新材料等領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用潛力。此外。 南京微納3D打印供應(yīng)商