北京高分辨率灰度光刻系統(tǒng)

來(lái)自德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計(jì)?？茖W(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結(jié)合軟灰度光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后，在密閉的微流道中通過(guò)芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開(kāi)了新的大門(mén)。斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學(xué)器件寬度只有125微米，可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進(jìn)行內(nèi)窺鏡檢查Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點(diǎn)和應(yīng)用。北京高分辨率灰度光刻系統(tǒng)

NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級(jí)精確對(duì)準(zhǔn)。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®在實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時(shí)兼顧打印速度，適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面。整個(gè)打印過(guò)程在最高速度掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無(wú)需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無(wú)瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀。吉林高精度灰度光刻技術(shù)雙光子灰度光刻（2GL ?）系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。

近年來(lái)，利用雙光子聚合對(duì)聚合物類(lèi)傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟，其高精度、高度可設(shè)計(jì)性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前。與此同時(shí)，如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化，也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點(diǎn)。在現(xiàn)階段，對(duì)于3D飛秒激光打印技術(shù)而言，具體來(lái)說(shuō)就是利用其加工的高度可設(shè)計(jì)性來(lái)實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化，并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件，從而達(dá)到理想的應(yīng)用目的。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見(jiàn)組件，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類(lèi)結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)，這樣的1組微透鏡陣列無(wú)法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上，會(huì)產(chǎn)生場(chǎng)曲。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場(chǎng)曲這種光學(xué)像差，只能在后續(xù)光路中引入場(chǎng)鏡組來(lái)進(jìn)行校正，從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來(lái)加工微凹透鏡陣列即可通過(guò)設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場(chǎng)曲。

超高速灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用不僅局限于傳統(tǒng)領(lǐng)域，還可以拓展到新興領(lǐng)域。例如，在新能源領(lǐng)域，它可以用于制造高效的太陽(yáng)能電池板；在人工智能領(lǐng)域，它可以用于制造更快、更強(qiáng)大的計(jì)算芯片。這些應(yīng)用將進(jìn)一步推動(dòng)科技的發(fā)展，為人類(lèi)創(chuàng)造更美好的未來(lái)。超高速灰度光刻技術(shù)的發(fā)展離不開(kāi)科研人員的不懈努力和創(chuàng)新精神。他們通過(guò)不斷突破科技邊界，攻克了一個(gè)又一個(gè)難題，從而實(shí)現(xiàn)了這一技術(shù)的突破。他們的付出為我們帶來(lái)了更多的機(jī)遇和挑戰(zhàn)，也為科技進(jìn)步做出了巨大貢獻(xiàn)。超高速灰度光刻技術(shù)的問(wèn)世，標(biāo)志著科技進(jìn)步的新里程碑。我們相信，在這項(xiàng)技術(shù)的推動(dòng)下，未來(lái)將會(huì)有更多的創(chuàng)新和突破。讓我們共同期待超高速灰度光刻技術(shù)帶來(lái)的美好未來(lái)！更多德國(guó)雙光子灰度光刻技術(shù)內(nèi)容，敬請(qǐng)咨詢(xún)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變，以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí)，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶(hù)共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室?；陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作。北京高分辨率灰度光刻系統(tǒng)

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Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō)，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案北京高分辨率灰度光刻系統(tǒng)