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      Nanoscribe基本參數(shù)
      • 品牌
      • Nanoscribe
      • 型號(hào)
      • 齊全
      • 產(chǎn)地
      • 德國(guó)
      Nanoscribe企業(yè)商機(jī)

      **是全世界一個(gè)主要死亡原因,2020年有近1000萬(wàn)人死于**[1]。而其中膠質(zhì)母細(xì)胞瘤是一種極具破壞性的腦**,其*細(xì)胞增殖非??烨揖哂?*性。為了研究、***和破壞腦腫瘤細(xì)胞,研究人員正在研究使用質(zhì)子放射***,該***手段已被證明在不同**類型中比x射線放射***更有效和微創(chuàng)的技術(shù)。然而,質(zhì)子放射***的成本很高,這使得在動(dòng)物和人類身上進(jìn)行的試驗(yàn)也變得非常昂貴,幾乎無(wú)法進(jìn)行。質(zhì)子放射***的高成本也導(dǎo)致缺乏從細(xì)胞水平了解質(zhì)子對(duì)膠質(zhì)母細(xì)胞瘤影響的臨床研究。體外模型為評(píng)估*細(xì)胞對(duì)藥物和輻射的反應(yīng)提供了一個(gè)平臺(tái)。然而,由于無(wú)法模擬體內(nèi)自然發(fā)生的3D環(huán)境,傳統(tǒng)2D單層細(xì)胞培養(yǎng)存在很大局限性。為了尋找更真實(shí)的模擬環(huán)境,代爾夫特理工大學(xué)(DelftUniversityofTechnology)的科學(xué)家們利用Nanoscribe的3D微納加工系統(tǒng)制作了3D工程細(xì)胞微環(huán)境,并且***次在質(zhì)子束放射實(shí)驗(yàn)中研究了所培養(yǎng)的膠質(zhì)母細(xì)胞瘤細(xì)胞3D打印支架,以探究其對(duì)輻射的反應(yīng)。令人印象深刻的是,該實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,與2D單層細(xì)胞相比,3D工程細(xì)胞培養(yǎng)中的DNA損傷得到了***降低。更多有關(guān)增材制造的咨詢,歡迎致電納糯三維??蒲蠳anoscribePPGT2

      科研NanoscribePPGT2,Nanoscribe

      Nanoscribe首屆線上用戶大會(huì)于九月順利召開(kāi),在微流控研究中,通常在針對(duì)微流控器件和芯片的快速成型制作中會(huì)結(jié)合不同制造方法。亞琛工業(yè)大學(xué)(RWTHUniversityofAachen)和不來(lái)梅大學(xué)(UniversityofBremen)的研究小組提出將三維結(jié)構(gòu)的芯片結(jié)構(gòu)打印到預(yù)制微納通道中。生命科學(xué)研究的驅(qū)動(dòng)力是三維打印模擬人類細(xì)胞形狀和大小的支架,以推動(dòng)細(xì)胞培養(yǎng)和組織工程學(xué)。丹麥技術(shù)大學(xué)(DTU)和德國(guó)于利希研究中心的研究團(tuán)隊(duì)展示了他們的成就,并強(qiáng)調(diào)了光刻膠如IP-L780和Nanoscribe新型柔性打印材料IP-PDMS的重要性。在微納光學(xué)和光子學(xué)研究中,布魯塞爾自由大學(xué)的研究人員提出了用于光纖到光纖和光纖到芯片連接的錐形光纖和低損耗波導(dǎo)等解決方案科研NanoscribePPGT2光固化光刻技術(shù),咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。

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      光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,PIC)與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測(cè)器、光衰減器、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,例如數(shù)據(jù)通訊,激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動(dòng)駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動(dòng)感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),尤其是微型光子組件應(yīng)用,可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。

      Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭       更多有關(guān)高精度三維光刻的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。

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      Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭憑借著獨(dú)有的3D微納加工技術(shù),Nanoscribe參與了各種研究項(xiàng)目,以開(kāi)發(fā)基于集成光子學(xué)新技術(shù)。浙江雙光子Nanoscribe設(shè)備

      更多有關(guān)3D微納加工的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維??蒲蠳anoscribePPGT2

      QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要,這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義??偠灾?,該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個(gè)科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性(如生命科學(xué)、材料工程、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械和微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等)。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動(dòng)了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹(shù)脂自動(dòng)分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造??蒲蠳anoscribePPGT2

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