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      灰度光刻基本參數(shù)
      • 品牌
      • Nanoscribe
      • 型號
      • 齊全
      • 類型
      • 雙光子微納光刻系統(tǒng)
      • 規(guī)格
      • QuantumX
      • 廠家
      • Nanoscribe
      • 產地
      • 德國
      灰度光刻企業(yè)商機

      Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。更多灰度光刻知識,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。廣東2PP灰度光刻微納加工系統(tǒng)

      廣東2PP灰度光刻微納加工系統(tǒng),灰度光刻

      我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現(xiàn)微透鏡陣列結構,灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構)。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意,灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,約為Ra=100nm,前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印這種方法與灰度光刻有點類似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合,利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構,不僅只是微透鏡陣列結構(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構,后續(xù)可以通過LIGA工藝獲得金屬模具,并通過納米壓印技術進行復制。廣東2PP灰度光刻微納加工系統(tǒng)Quantum X是全球頭一臺灰度光刻激光直寫系統(tǒng)。

      廣東2PP灰度光刻微納加工系統(tǒng),灰度光刻

      Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。

      QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統(tǒng)在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具,同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實現(xiàn)推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X適用于制造微光學衍射以及折射元件。

      廣東2PP灰度光刻微納加工系統(tǒng),灰度光刻

      Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產商,擁有多項**技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明?;叶裙饪碳夹g具有廣泛的應用領域。上海高精度灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

      如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。廣東2PP灰度光刻微納加工系統(tǒng)

      Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產品組合實現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。廣東2PP灰度光刻微納加工系統(tǒng)

      與灰度光刻相關的**
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