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      灰度光刻基本參數
      • 品牌
      • Nanoscribe
      • 型號
      • 齊全
      • 類型
      • 雙光子微納光刻系統(tǒng)
      • 規(guī)格
      • QuantumX
      • 廠家
      • Nanoscribe
      • 產地
      • 德國
      灰度光刻企業(yè)商機

      雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件(DOEs),可以直接作為衍射光學元件(DOEs),可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產母版工具。.結合用戶友好的工作流程和自動匹配校準程序,只需幾個步驟就能實現完:美的具有亞微米形狀精度的結構打印,適用于廣泛的應用場景和公共平臺用戶的理想選擇實現對光刻膠表面深度的精確控制,從而制備出更加復雜和精細的微納結構。北京超高速灰度光刻微納加工系統(tǒng)

      北京超高速灰度光刻微納加工系統(tǒng),灰度光刻

      雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現多級衍射光學元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產母版工具。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學元件,并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。北京超高速灰度光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解灰度光刻的特點和應用。

      北京超高速灰度光刻微納加工系統(tǒng),灰度光刻

      德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX,并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應用于折射和衍射微光學。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業(yè)需求。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到準同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。

      Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。歡迎咨詢,灰度光刻可以明顯縮短制造時間,提高生產效率。

      北京超高速灰度光刻微納加工系統(tǒng),灰度光刻

      近年來,利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟,其高精度、高度可設計性和維度可控性已經在平行技術中排名在前。與此同時,如何更有效地將微納結構功能化,也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點。在現階段,對于3D飛秒激光打印技術而言,具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現微納結構的功能化和芯片化,并使這些結構能夠更好地集成器件,從而達到理想的應用目的。微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件,具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構,這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上,會產生場曲。在商業(yè)生產中,為了消除場曲這種光學像差,只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進行校正,從而增加了器件復雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。如果了解雙光子灰度光刻技術,敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。Nanoscribe灰度光刻3D微納加工

      更多灰度光刻技術詳情,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。北京超高速灰度光刻微納加工系統(tǒng)

      Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產商,擁有多項**技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產商,擁有多項專項技術,為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點,結合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結構,適用于生命科學領域的應用,如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。北京超高速灰度光刻微納加工系統(tǒng)

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