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      無掩膜光刻基本參數(shù)
      • 品牌
      • Nanoscribe
      • 型號(hào)
      • 齊全
      • 產(chǎn)地
      • 德國(guó)
      • 廠家
      • Nanoscribe
      無掩膜光刻企業(yè)商機(jī)

      Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。它還可以用于制造微納米級(jí)別的結(jié)構(gòu),如MEMS(微電子機(jī)械系統(tǒng))和納米線等。遼寧工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻

      遼寧工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻,無掩膜光刻

      事實(shí)上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動(dòng):《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作,這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達(dá)到了120nm,超越了衍射極限,同時(shí)還沒有使用諸如近場(chǎng)加工之類的不太通用的解決方案,而是單純的利用了材料的性質(zhì)。遼寧工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作。

      遼寧工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻,無掩膜光刻

      多年來,Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項(xiàng)目,包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項(xiàng)目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊(duì)的項(xiàng)目為期三年,名為Miliquant,由德國(guó)聯(lián)邦教育和研究部(簡(jiǎn)稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動(dòng)駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團(tuán)隊(duì)將開展多項(xiàng)實(shí)驗(yàn),開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。

      Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場(chǎng)的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束。來自德國(guó)亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計(jì)。科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學(xué)的光子學(xué)研究小組(B-PHOT)的科學(xué)家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)(2PP)將光波導(dǎo)漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場(chǎng)幾何形狀的兩個(gè)元件之間的光束進(jìn)行高效和穩(wěn)健耦合這個(gè)難題。這些錐形光束漏斗可調(diào)整SMF的模式場(chǎng),以匹配光子芯片上光波導(dǎo)模式場(chǎng)。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)已經(jīng)運(yùn)用在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中。

      遼寧工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻,無掩膜光刻

      基于低成本和小型化特點(diǎn)的集成光子芯片技術(shù),該項(xiàng)目有望將光學(xué)相干斷層掃描(OCT)從局限的眼科臨床應(yīng)用帶入更廣的眼科護(hù)理移動(dòng)應(yīng)用中來。由維也納醫(yī)科大學(xué)牽頭的HandheldOCT研究項(xiàng)目旨在運(yùn)用成熟的光學(xué)相干斷層掃描成像技術(shù)(OCT),來實(shí)現(xiàn)便攜式現(xiàn)場(chǎng)即時(shí)眼科護(hù)理檢查。預(yù)計(jì)此款正在開發(fā)的具備先進(jìn)技術(shù)和成本效應(yīng)的便攜式集成光子芯片技術(shù)OCT成像設(shè)備將用于診斷和監(jiān)測(cè)多種眼部疾病,例如,老年性黃斑病變、糖尿病性視網(wǎng)膜病變以及青光眼,這些疾病在世界范圍內(nèi)都是導(dǎo)致失明的主要因素。該便攜式設(shè)備將會(huì)在維也納總醫(yī)院進(jìn)行測(cè)試以驗(yàn)證其在眼科診斷的效果。無掩膜光刻技術(shù)運(yùn)用領(lǐng)域廣,分辨高,如需了解更多請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。浙江2GL無掩膜光刻

      Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究。遼寧工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻

      Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點(diǎn)講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。遼寧工業(yè)級(jí)無掩膜光刻無掩光刻

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