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      Nanoscribe基本參數(shù)
      • 品牌
      • Nanoscribe
      • 型號
      • 齊全
      • 產(chǎn)地
      • 德國
      Nanoscribe企業(yè)商機

      **是全世界一個主要死亡原因,2020年有近1000萬人死于**[1]。而其中膠質(zhì)母細胞瘤是一種極具破壞性的腦**,其*細胞增殖非常快且具有**性。為了研究、***和破壞腦腫瘤細胞,研究人員正在研究使用質(zhì)子放射***,該***手段已被證明在不同**類型中比x射線放射***更有效和微創(chuàng)的技術(shù)。然而,質(zhì)子放射***的成本很高,這使得在動物和人類身上進行的試驗也變得非常昂貴,幾乎無法進行。質(zhì)子放射***的高成本也導(dǎo)致缺乏從細胞水平了解質(zhì)子對膠質(zhì)母細胞瘤影響的臨床研究。體外模型為評估*細胞對藥物和輻射的反應(yīng)提供了一個平臺。然而,由于無法模擬體內(nèi)自然發(fā)生的3D環(huán)境,傳統(tǒng)2D單層細胞培養(yǎng)存在很大局限性。為了尋找更真實的模擬環(huán)境,代爾夫特理工大學(xué)(DelftUniversityofTechnology)的科學(xué)家們利用Nanoscribe的3D微納加工系統(tǒng)制作了3D工程細胞微環(huán)境,并且***次在質(zhì)子束放射實驗中研究了所培養(yǎng)的膠質(zhì)母細胞瘤細胞3D打印支架,以探究其對輻射的反應(yīng)。令人印象深刻的是,該實驗結(jié)果顯示,與2D單層細胞相比,3D工程細胞培養(yǎng)中的DNA損傷得到了***降低。Nanoscribe的打印設(shè)備具有高度3D設(shè)計自由度的特點且具備人性化的操作系統(tǒng)。四川TPPNanoscribePPGT

      四川TPPNanoscribePPGT,Nanoscribe

      Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示)。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān),同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。浙江TPPNanoscribe多少錢通過使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng),科學(xué)家們實現(xiàn)了直接在硅基光子芯片上制作中空3D光波導(dǎo)的微觀結(jié)構(gòu)。

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      QuantumXshape平臺系統(tǒng)共有四套打印套件,為您提供不同規(guī)模制作可能性:從小特征尺寸(SF),中特征尺寸(MF)到大特征尺寸(LF)和如今的超大特征尺寸(XLF)。XLF打印套件所配備的全新5倍空氣物鏡以及4000μm寫場直徑,為我們提供了更多新應(yīng)用可能性。完美實現(xiàn)在一步操作中打印>10mm高度的毫米或厘米級大小的零件。由于18.5毫米的較大工作距離,因此對包裝密度沒有限制。該系統(tǒng)可實現(xiàn)50x50mm2的全定位打印面積,一次打印至多30立方厘米的體積,或在一個批次處理過程中在大面積上打印多個較小的對象。

      QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?;陔p光子聚合技術(shù),該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格,從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制。使用Nanoscribe的3D打印系統(tǒng),德國科學(xué)家們一起研發(fā)了由管道相連接的多組柱狀體3D復(fù)雜微結(jié)構(gòu)支架。

      四川TPPNanoscribePPGT,Nanoscribe

      3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求。更多有關(guān)3D打印的咨詢,歡迎致電納糯三維。江蘇TPPNanoscribe技術(shù)

      Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備具有極大設(shè)計自由度的特點。四川TPPNanoscribePPGT

      Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯(lián)邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團隊將開展多項實驗,開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。四川TPPNanoscribePPGT

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