河北2PP雙光子聚合微納光刻

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。

科學(xué)家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)，實現(xiàn)微流道母版制造和密閉通道系統(tǒng)內(nèi)部的芯片內(nèi)直接打印。河北2PP雙光子聚合微納光刻

事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作，這兩位教授做出了當(dāng)時世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達(dá)到了120nm，超越了衍射極限，同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案，而是單純的利用了材料的性質(zhì)。來自不來梅大學(xué)微型傳感器、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng)，利用雙光子聚合原理（2PP）結(jié)合光刻技術(shù)，將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級二維微流道中河北2PP雙光子聚合微納光刻非接觸式加工：雙光子聚合是一種非接觸式加工技術(shù)，避免了加工過程中的機械損傷。

雙光子聚合技術(shù)作為物質(zhì)在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程的新興技術(shù)，已經(jīng)在許多領(lǐng)域展示出其巨大的潛力和價值。隨著科技的不斷進步和發(fā)展，我們可以預(yù)見到雙光子聚合技術(shù)在未來將會開啟更多的應(yīng)用領(lǐng)域，推動光電產(chǎn)業(yè)的持續(xù)進步和發(fā)展。同時，隨著新材料的不斷涌現(xiàn)和技術(shù)的不斷突破，雙光子聚合技術(shù)的應(yīng)用前景也將更加廣闊。雙光子聚合技術(shù)以其高精度、高分辨率、快速高效、高度靈活性和可擴展性等優(yōu)勢，已經(jīng)在快速3D打印、光子晶體形成、高精度光子器件制造等領(lǐng)域展示出廣泛的應(yīng)用前景。未來，隨著科技的不斷進步和發(fā)展，我們相信雙光子聚合技術(shù)將會在更多領(lǐng)域得到應(yīng)用和推廣，為光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展開啟新的篇章。

作為納米、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關(guān)鍵技術(shù)，雙光子聚合技術(shù)(2PP)能在高速打印的同時確保高精度制作。結(jié)合極高設(shè)計自由度的特點，2PP高精度增材制造推動著未來技術(shù)在例如生命科學(xué)、微流體、材料工程、微機械 和MEMS等科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用的發(fā)展。Nanoscribe作為2PP微納加工市場人物，將繼續(xù)突破3D微納加工的極限?；谕黄菩噪p光子對準(zhǔn)技術(shù)(A2PL@)的Quantum X平臺系列，可以實現(xiàn)在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學(xué)元件，助力光子封裝領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)在所有空間方向的納米級對準(zhǔn)和定位。此外，該系統(tǒng)具備的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL @)是制造具備比較高光學(xué)質(zhì)量的2.5D折射和衍射微光學(xué)器件的好的選擇，專業(yè)人才們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)，實現(xiàn)微流道母版制造和密閉通道系統(tǒng)內(nèi)部的芯片內(nèi)直接打印。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導(dǎo)設(shè)計師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計的灰度圖像。Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)有助力微流控芯片在3D打印技術(shù)上的突破。湖北2PP雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化。河北2PP雙光子聚合微納光刻

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。總而言之，工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝，適用于晶圓級批量加工。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率。歡迎咨詢河北2PP雙光子聚合微納光刻