QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。而且Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的應(yīng)用。黑龍江灰度光刻3D光刻

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復(fù)制工作,并通過納米壓印技術(shù)進行復(fù)制?;叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)(如下圖4所示,八邊金字塔結(jié)構(gòu))。微透鏡陣列也是類似,可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。黑龍江灰度光刻3D光刻在半導(dǎo)體封裝中,灰度光刻可用于制作高精度導(dǎo)電線路或絕緣層的漸變結(jié)構(gòu)。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng),雙光子聚合技術(shù)是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù),其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,并可達到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。
雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,刻蝕和對準工藝,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,可以直接作為原型使用,也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級衍射光學(xué)元件,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲?;叶裙饪碳夹g(shù)可以實現(xiàn)高分辨率的微納米結(jié)構(gòu)制造。

這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,名為3D無掩模光刻。無論您是進行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,極大地節(jié)省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力,讓您專注于更重要的事情。立即購買,體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧!Quantum X是全球頭一臺灰度光刻激光直寫系統(tǒng)。黑龍江灰度光刻3D光刻
光互聯(lián)器件依賴灰度光刻,一次性次成型復(fù)雜光路結(jié)構(gòu),減少裝配誤差與損耗。黑龍江灰度光刻3D光刻
微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似,但是原理不同,我們常見的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術(shù),利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu),不光是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)(如下圖5所示),該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設(shè)計獲得想要的結(jié)構(gòu),對于雙光子聚合的微結(jié)構(gòu),我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具,但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結(jié)構(gòu)可以直接進行后續(xù)的復(fù)制工作,并通過納米壓印技術(shù)進行復(fù)制?;叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,黑龍江灰度光刻3D光刻