浙江高精度無掩膜光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe帶領全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商，擁有多項專項技術，為全球客戶提供整套硬件，軟件，打印材料和解決方案一站式服務。它的雙光子聚合技術具有極高設計自由度和超高精度的特點，結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料，開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu)，適用于生命科學領域的應用，如設計和定制微型生物醫(yī)學設備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術，您可以實現(xiàn)亞細胞結(jié)構(gòu)的三維成像，適用于細胞研究和芯片實驗室應用（lab-on-a-chip）Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng)的技術中心是Nanoscribe特別研發(fā)的雙光子灰度光刻技術（2GL?）。浙江高精度無掩膜光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。北京2PP無掩膜光刻設備了解更多無掩膜光刻的技術和產(chǎn)品信息，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領域的先驅(qū)和市場領導我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨子公司，是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司，并于2021年6月成為BICO集團的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng)、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案，我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來的應用。Nanoscribe的用戶群體中，有科學研究和工業(yè)的創(chuàng)新者，包括生命科學、微光學、光子學、材料工程、微流體、微力學和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現(xiàn)已發(fā)表在1300多份同行評議期刊上。

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設備，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率適用于微米和納米級別的加工要求。這是因為它使用數(shù)字圖案，可以獲得更高的分辨率和更精確的圖案。

3D微納加工技術應用于材料工程領域。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現(xiàn)具有特定光子，機械，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。采用先進技術，實現(xiàn)高精度無掩膜光刻寫，滿足您的精細加工需求。遼寧進口無掩膜光刻3D微納加工

無掩膜光刻技術運用領域廣，分辨高，如需了解更多請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。浙江高精度無掩膜光刻無掩膜激光直寫

為了探索待測物微納米表面形貌，探針掃描成像技術一直是理論研究和實驗項目。然而，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過去幾十年中沒有明顯的研究進展，這也限制了基于力傳感反饋的測量性能。如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術是實現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。浙江高精度無掩膜光刻無掩膜激光直寫