北京德國(guó)灰度光刻無(wú)掩光刻

近年來(lái)，利用雙光子聚合對(duì)聚合物類(lèi)傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟，其高精度、高度可設(shè)計(jì)性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前。與此同時(shí)，如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化，也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點(diǎn)。在現(xiàn)階段，對(duì)于3D飛秒激光打印技術(shù)而言，具體來(lái)說(shuō)就是利用其加工的高度可設(shè)計(jì)性來(lái)實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化，并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件，從而達(dá)到理想的應(yīng)用目的。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見(jiàn)組件，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類(lèi)結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)，這樣的1組微透鏡陣列無(wú)法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上，會(huì)產(chǎn)生場(chǎng)曲。相比于傳統(tǒng)的二進(jìn)制光刻技術(shù)，灰度光刻技術(shù)可以更高效地利用光刻膠，降低成本。北京德國(guó)灰度光刻無(wú)掩光刻

   Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司，開(kāi)發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號(hào)是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開(kāi)發(fā)出一種技術(shù)，對(duì)智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過(guò)基于雙光子聚合（2PP）的3D打印機(jī)投入市場(chǎng)，他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案，致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級(jí)3D打印光學(xué)，甚至利用他們的技術(shù)來(lái)開(kāi)發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備，例如用于類(lèi)固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法，“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性，我們的客戶(hù)正在微加工的前沿工作。廣東德國(guó)灰度光刻激光直寫(xiě)灰度光刻技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)高分辨率的微納米結(jié)構(gòu)制造，滿(mǎn)足日益增長(zhǎng)的微電子和光電子器件對(duì)精確結(jié)構(gòu)的需求。

這款灰度光刻設(shè)備還具備智能化的特點(diǎn)。它配備了先進(jìn)的自動(dòng)化控制系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)節(jié)和監(jiān)控，減少了人工操作的需求，提高了生產(chǎn)線(xiàn)的穩(wěn)定性和可靠性。同時(shí)，設(shè)備還具備故障自診斷和遠(yuǎn)程監(jiān)控功能，及時(shí)發(fā)現(xiàn)和解決問(wèn)題，減少了生產(chǎn)線(xiàn)的停機(jī)時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備還具備良好的適應(yīng)性和可擴(kuò)展性。它可以適應(yīng)不同材料和工藝的加工需求，為我們的生產(chǎn)線(xiàn)提供了更大的靈活性。同時(shí)，設(shè)備還支持模塊化設(shè)計(jì)，可以根據(jù)需要進(jìn)行擴(kuò)展和升級(jí)，滿(mǎn)足我們未來(lái)的生產(chǎn)需求。這款全新的灰度光刻設(shè)備為我們的生產(chǎn)線(xiàn)帶來(lái)了巨大的改變。它的精度、穩(wěn)定性和高效性使我們能夠更好地滿(mǎn)足客戶(hù)的需求，提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。我們相信，有了這款設(shè)備的加入，我們的公司將迎來(lái)更加美好的未來(lái)。

Nanoscribe稱(chēng)QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。，灰度光刻可以***縮短制造時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。

這種設(shè)計(jì)策略不僅可用于改進(jìn)現(xiàn)有的傳感器，該項(xiàng)目還旨在展示具有動(dòng)態(tài)移動(dòng)部件的新型傳感器概念的可行性。在第二種設(shè)計(jì)中，研究人員在一根光纖的端面3D打印了一個(gè)微型轉(zhuǎn)子。從轉(zhuǎn)子上反射出的光脈沖可以被讀取，因此該傳感器可以被用于分析流速。

FabryPérot傳感器進(jìn)行溫度和折射率感應(yīng)的測(cè)試裝置圖。圖片：資料來(lái)源見(jiàn)本文下方。通過(guò)動(dòng)態(tài)可旋轉(zhuǎn)的3D微納加工概念，研究人員展示了智能設(shè)計(jì)如何改進(jìn)現(xiàn)有的傳感器，并為整個(gè)新的微型化傳感器概念鋪平道路的能力。 Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。浙江進(jìn)口灰度光刻微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀。北京德國(guó)灰度光刻無(wú)掩光刻

2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。北京德國(guó)灰度光刻無(wú)掩光刻