真空電鍍和真空鍍膜的差異是什么？

浙江喬邦塑業(yè)有限公司2024-11-12

真空電鍍：真空電鍍的過程通常包括基材清洗、去靜電、噴底漆、烘烤底漆、真空鍍膜、噴面漆、烘烤面漆和包裝等步驟。其中，真空鍍膜環(huán)節(jié)是關(guān)鍵，通過控制真空室內(nèi)的壓力、溫度等參數(shù)，使靶材在氬氣等惰性氣體的作用下蒸發(fā)或?yàn)R射，從而在基材表面形成薄膜。 真空鍍膜：真空鍍膜的過程則更為直接，主要包括清洗基材、放入真空室、加熱鍍料使其蒸發(fā)或?yàn)R射、沉積到基材表面形成薄膜等步驟。整個(gè)過程在高度真空的條件下進(jìn)行，確保了鍍層的質(zhì)量和性能。

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