半導(dǎo)體設(shè)備潤(rùn)滑油的特殊要求有哪些？

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深圳市合誠(chéng)潤(rùn)滑材料有限公司2025-12-16

半導(dǎo)體設(shè)備（如光刻機(jī)、蝕刻機(jī)、離子注入機(jī)）的精密傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、真空系統(tǒng)對(duì)潤(rùn)滑油的要求極為苛刻，需滿足高潔凈度、低揮發(fā)性、無(wú)顆粒、無(wú)金屬雜質(zhì)、耐真空等特殊要求，普通潤(rùn)滑油的揮發(fā)物與顆粒會(huì)污染芯片，影響半導(dǎo)體制造良率。深圳市合誠(chéng)潤(rùn)滑材料有限公司的半導(dǎo)體設(shè)備潤(rùn)滑油，首先具備超高潔凈度，生產(chǎn)于十級(jí)潔凈車間，經(jīng)過(guò)超精密過(guò)濾（過(guò)濾精度≤0.1μm），顆粒含量（≥0.3μm）≤10 個(gè) /ml，達(dá)到 NAS 1 級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，無(wú)任何微小雜質(zhì)；其次是低揮發(fā)性，在 150℃、24 小時(shí)條件下蒸發(fā)損失≤0.1%，避免揮發(fā)物在真空系統(tǒng)中凝結(jié)，污染芯片與設(shè)備部件；第三是無(wú)金屬雜質(zhì)，采用非金屬基礎(chǔ)油與添加劑，不含鐵、銅、鋅等金屬元素，不會(huì)產(chǎn)生金屬離子污染；第四是耐真空性能優(yōu)異，在 10??Pa 高真空環(huán)境下性能穩(wěn)定，不分解、不逸散；第五是與半導(dǎo)體材料（如硅、光刻膠）兼容性優(yōu)異，不會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。該產(chǎn)品還通過(guò)了 SEMI（半導(dǎo)體設(shè)備與材料國(guó)際協(xié)會(huì)）認(rèn)證，適配半導(dǎo)體制造全流程設(shè)備的精密潤(rùn)滑需求，為芯片制造的高良率、高可靠性提供主要保障，體現(xiàn)合誠(chéng)在特種潤(rùn)滑油領(lǐng)域的技術(shù)突破。