XRF分析中的常見誤差來源有哪些？如何減小這些誤差呢？

體效應(yīng)（Matrix Effects）是另一個(gè)關(guān)鍵的誤差來源，包括吸收效應(yīng)和增強(qiáng)應(yīng)。 樣品中其他元素的存在會(huì)吸收或增強(qiáng)待測元素發(fā)出的特征X射線，從而導(dǎo)致強(qiáng)度與濃度之間的非線性關(guān)系。例如，一種高濃度元素可能會(huì)強(qiáng)烈吸收另一種元素的射線，使其測量值偏低；或者其發(fā)射的射線恰好激發(fā)另一種元素，使其測量值虛高。為了克服基體效應(yīng)，有效的方法是使用經(jīng)過認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)（CRM）來建立校準(zhǔn)曲線?，F(xiàn)代儀器軟件也內(nèi)置了強(qiáng)大的數(shù)學(xué)校正模型（如基本參數(shù)法FP和經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法），可以通過數(shù)學(xué)計(jì)算來補(bǔ)償這些效應(yīng)，從而獲得更準(zhǔn)確的結(jié)果。

樣品表面狀態(tài)和幾何位置的重現(xiàn)性對精度至關(guān)重要。 樣品表面的光滑度、平整度以及每次放置的位置和方向必須保持一致。凹凸不平的表面會(huì)不規(guī)則地散射X射線，影響探測器的接收效率。同樣，分析窗口與樣品之間的距離（工作距離）和角度的微小變化都會(huì)導(dǎo)致X射線強(qiáng)度的測量波動(dòng)。為減小此類誤差，在制備樣品時(shí)應(yīng)盡可能保證表面光滑平整（如拋光金屬塊、壓制粉末片）。上機(jī)測試時(shí)，需使用專門的樣品杯確保每次放置的位置和高度完全一致，對于不規(guī)則樣品，可采用旋轉(zhuǎn)杯來消除顆粒效應(yīng)和位置不一致帶來的影響。博測材料能夠?yàn)槟臉悠愤M(jìn)行前處理，較大程度的保證數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性，值得您的信賴。