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半導(dǎo)體制程用碳化硅吸盤,平面度能達(dá)到什么精度?

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江蘇三責(zé)新材料科技股份有限公司2025-12-18

碳化硅凸點(diǎn)吸盤經(jīng)高精度加工后，平面度可達(dá)0.3–0.5μm，環(huán)狀吸盤平面度小于1μm，滿足光刻、檢測(cè)等制程對(duì)晶圓承載面平整度的嚴(yán)苛要求。江蘇三責(zé)新材料科技股份有限公司為半導(dǎo)體設(shè)備提供高精度碳化硅吸盤，支持ASML、尼康、精測(cè)等機(jī)臺(tái)應(yīng)用，具體參數(shù)可訪問官網(wǎng)查詢。

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簡(jiǎn)介：三責(zé)新材成立于2014年，專注于高性能碳化硅陶瓷的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，擁有多個(gè)制造基地和研發(fā)中心。

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