根據(jù)電磁學(xué)的基本理論里,提到對于不同介質(zhì)的透射與反射。若是由介質(zhì) n1垂直入射至 n2反射率=[ (n2-n1) / (n1+n2) ]^2穿透率=4n1n2 / (n1+n2)^2范例講解:若是空氣的折射率是 1.0 ,鍍膜的折射率nc (例如:1.5) ,玻璃的折射率n (例如:1.8)(1)由空氣直接進入玻璃穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84%(2)由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 / ( 1.5+1.8 )2]=95.2%可見有鍍膜的玻璃會增加透光度。此外由此公式,我們可以計算光線穿透鏡片的兩面,發(fā)現(xiàn)即使一片完美的透鏡(折射率1.8),其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜(折射率1.5),則透光度可達91%??梢姽鈱W(xué)鍍膜的重要性。它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。崇川區(qū)本地光學(xué)膜供應(yīng)商

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊,周圍是環(huán)形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間,光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部,真空室里有含6個圓形夾具的行星系統(tǒng)。夾具用于放置被鍍膜的光學(xué)元件。使用行星系統(tǒng)是保證被蒸發(fā)材料在夾具區(qū)域內(nèi)均勻分布的優(yōu)先方法。夾具繞公共軸旋轉(zhuǎn),同時繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光控和晶控處于行星驅(qū)動機械裝置的中部,驅(qū)動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵。基底加熱系統(tǒng)由4個石英燈組成,真空室的兩邊各兩個。啟東放心選光學(xué)膜批量定制可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。

帶通濾光片只允許光譜帶中的一段通過,而其他部分全部被濾掉,按照它們結(jié)構(gòu)的不同可分為法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片。法布里-珀羅型濾光片的結(jié)構(gòu)與法-珀標(biāo)準(zhǔn)具(見法布里-珀**涉儀)相同,因為由它獲得的透過光譜帶都比較窄,所以又叫窄帶干涉濾光片。這種濾光片的透過率對薄膜的損耗非常敏感,所以制備透過率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。多腔濾光片又叫矩形濾光片,它可以做窄帶帶通濾光片,又可以做寬帶帶通濾光片,制備波區(qū)較寬,透過率高,波紋小的多腔濾光片同樣是困難的
**簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時,在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定(見光在分界面上的折射和反射)。光學(xué)薄膜的特點是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因為:制備時,薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫散射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復(fù)雜的時間效應(yīng)。光學(xué)增透膜沉積在光學(xué)元件表面,用以減少表面反射,增加光學(xué)系統(tǒng)透射,又稱減反射膜。

反射膜光學(xué)薄膜它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。一般金屬都具有較大的消光系數(shù),當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時,進入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減,使得進入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少,而反射光能增加。消光系數(shù)越大,光振幅衰減越迅速,進入金屬內(nèi)部的光能越少,反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大,光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。海門區(qū)放心選光學(xué)膜服務(wù)電話
常用的是前4種。光學(xué)反射膜用以增加鏡面反射率,常用來反光、折光和共振腔器件。崇川區(qū)本地光學(xué)膜供應(yīng)商
薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā),或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量,傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能,通常為50eV量級。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。薄膜的光學(xué)性質(zhì),如折射率、吸收和激光損傷閾值,主要依賴于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低,則薄膜會含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時,這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3崇川區(qū)本地光學(xué)膜供應(yīng)商
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