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2.利用光波干涉原理，在鏡片的表面鍍上一層薄膜，厚度為1/4 波長(zhǎng)的光學(xué)厚度，使光線不再只被玻璃—空氣界面反射，而是空氣—薄膜、薄膜—玻璃二個(gè)界面反射，因此產(chǎn)生干涉現(xiàn)象，可使反射光減少。若鍍二層的抗反射膜，使反射率更低，但是鍍一層或二層都有缺點(diǎn)：低反射率的波帶不移寬，不能在可見光范圍都達(dá)到低反射率。1961年Cox、Hass和 Thelen三位首先發(fā)表以1/4一1/2一1/4波長(zhǎng)光學(xué)厚度作三層抗反射膜可以得到寬波帶低反射率的抗反射膜。多層抗反射膜除了寬波帶的，也可做到窄波帶的。也就是針對(duì)其一波長(zhǎng)如氨氟雷射632.8nm波長(zhǎng)，要求極高的透射，可使63Z.8nm這一波長(zhǎng)透射率高達(dá)99.8%以上，用之於雷射儀器。但若需要對(duì)某一波長(zhǎng)的光線有看極高的反射率需要用高低不同折射系數(shù)的材料反覆蒸鍍數(shù)十層才可達(dá)到此效果光強(qiáng)分光膜是按照一定的光強(qiáng)比把光束分成兩部分的薄膜，這種薄膜有時(shí)考慮某一波長(zhǎng)，叫做單色分光膜；海安本地光學(xué)膜銷售

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機(jī)基板上的硬件布局。兩個(gè)電子槍源位于基板兩邊，周圍是環(huán)形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個(gè)圓形夾具的行星系統(tǒng)。夾具用于放置被鍍膜的光學(xué)元件。使用行星系統(tǒng)是保證被蒸發(fā)材料在夾具區(qū)域內(nèi)均勻分布的優(yōu)先方法。夾具繞公共軸旋轉(zhuǎn)，同時(shí)繞其自身軸旋轉(zhuǎn)。光控和晶控處于行星驅(qū)動(dòng)機(jī)械裝置的中部，驅(qū)動(dòng)軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵?；准訜嵯到y(tǒng)由4個(gè)石英燈組成，真空室的兩邊各兩個(gè)。啟東名優(yōu)光學(xué)膜服務(wù)電話此外，還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。

對(duì)于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對(duì)于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對(duì)某波長(zhǎng)增反射、對(duì)另一波長(zhǎng)增透射的特殊膜，如激光倍頻技術(shù)中的分光膜等。光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。

需要指出的是，金屬電介質(zhì)反射膜增加了某一波長(zhǎng)（或者某一波區(qū)）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。全電介質(zhì)反射膜是建立在多光束干涉基礎(chǔ)上的。與增透膜相反，在光學(xué)表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜，就可以增加光學(xué)表面的反射率。**簡(jiǎn)單的多層反射膜是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學(xué)厚度為某一波長(zhǎng)的四分之一。在這種條件下，參加疊加的各界面上的反射光矢量，振動(dòng)方向相同。合成振幅隨著薄膜層數(shù)的增加而增加。圖2給出這種反射膜的反射率隨著層數(shù)而變化的情形。光學(xué)濾光膜用來進(jìn)行光譜或其他光性分割，其種類多，結(jié)構(gòu)復(fù)雜。

填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對(duì)于光學(xué)薄膜，填充密度通常為0.75～**部分為0.85～0.95，很少達(dá)到1.0。小于l的填充密度使所蒸發(fā)材料的折射率低于其塊料的折射率。在沉積過程中，每一層的厚度均由光學(xué)或石英晶體監(jiān)控。這兩種技術(shù)各有優(yōu)缺點(diǎn)，這里不作討論。其共同點(diǎn)是材料蒸發(fā)時(shí)它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變，這種折射率升高伴有相應(yīng)的光學(xué)厚度的增加，反過來造成薄膜光譜特性向長(zhǎng)波方向的漂移。為了減小由膜層內(nèi)微孔的體積和數(shù)量所引起的這種光譜漂移，采用高能離子以將其動(dòng)量傳遞給正在蒸發(fā)的材料原子，從而**增加材料原子在基底表面處凝結(jié)期間的遷移率。 [3]原則上說，全電介質(zhì)反射膜的反射率可以無限接近于1，但是薄膜的散射、吸收損耗限制了薄膜反射率的提高。如皋放心選光學(xué)膜廠家供應(yīng)

如果所考慮的光譜區(qū)很寬或通帶透過率的波紋要求很高，膜系結(jié)構(gòu)會(huì)更加復(fù)雜。海安本地光學(xué)膜銷售

熱電阻式、電子槍式和濺射方式。**普通的方式為熱電阻式，是將蒸鍍材料在真空蒸鍍機(jī)內(nèi)置於電阻絲或片上，在高真空的情況下，加熱使材料成為蒸氣，直接鍍於鏡片上。由於有許多高熔點(diǎn)的材料，不易使用此種方式使之熔化、蒸鍍。而以電子槍改進(jìn)此缺點(diǎn)，其方法是以高壓電子束直接打擊材料，由於能量集中可以蒸鍍高熔點(diǎn)的材料。另一方式為濺射方式，是以高壓使惰性氣體離子化，打擊材料使之直接濺射至鏡片，以此方式所作薄漠的附著力比較好海安本地光學(xué)膜銷售

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