企業(yè)商機(jī)
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我們建議攝影入門(mén)用戶(hù)在攝影學(xué)習(xí)階段,除了相機(jī)上已經(jīng)配備的套裝鏡頭之外,不必再購(gòu)買(mǎi)任何鏡頭。以后成為“高手”時(shí),再考慮較長(zhǎng)焦距的鏡頭。即使到那時(shí),除非對(duì)遠(yuǎn)攝鏡頭具有特殊的需求,并且資金也不成問(wèn)題,否則我...
EUV光刻技術(shù)的發(fā)展能否趕得上集成電路制造技術(shù)的要求?這仍然是一個(gè)問(wèn)題。當(dāng)然,EUV光刻技術(shù)的進(jìn)步也是巨大的。截止2016年,用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的EUV光刻機(jī),已經(jīng)被安裝在晶圓廠,并投入使用 [1]...
鏡頭的改變:在相同物距 和光圈的情況下,使用不同焦距的鏡頭可改變景深,鏡頭焦距越短,**深越大,對(duì)于超廣角鏡(8---15毫米),景深非常大,以致無(wú)需調(diào)焦,因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭*...
1、廣角鏡頭拍攝的景物,近處大、遠(yuǎn)處小,******效果夸張。被攝體越靠近鏡頭夸張?jiān)矫黠@。所以,拍攝人像時(shí),人物不能靠相機(jī)太近,否則很容易拍出“肥鼻鼠耳”的變形照片。當(dāng)然,利用這種效果拍攝的藝術(shù)作品除...
早在80年代,極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開(kāi)始理論的研究和初步的實(shí) 驗(yàn),該技術(shù) 的光源是波 長(zhǎng) 為11~14 nm的極端遠(yuǎn)紫外光,其原理主要是利用曝光光源極短的波長(zhǎng)達(dá)到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)...
2024年9月工信部發(fā)布的技術(shù)指標(biāo)顯示,國(guó)產(chǎn)浸沒(méi)式光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn):1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術(shù)適配能力研發(fā)過(guò)程中需突破:超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級(jí)污染控制...
在拍攝廣闊的大場(chǎng)面時(shí),攝影者一般都依靠廣角鏡頭焦距短,表現(xiàn)的景物景深長(zhǎng)的特點(diǎn),將從近到遠(yuǎn)的整個(gè)景物都納入清晰表現(xiàn)的范圍。此外,用廣角鏡頭拍攝時(shí),如果同時(shí)采用較小的光圈,則景物的景深就會(huì)變得更長(zhǎng)。例如,...
廣角鏡頭***用于大場(chǎng)面風(fēng)景攝影作品的拍攝。 能增加攝影畫(huà)面的空間縱深感; 景深較長(zhǎng),能保證被攝主體的前后景物在畫(huà)面上均可清晰的再現(xiàn)。所以,現(xiàn)代絕大多數(shù)的袖珍式自動(dòng)照相機(jī)(俗稱(chēng)傻瓜照相機(jī))采用38-3...
西塞羅的著作《論共和國(guó)》,一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對(duì)話錄,提及兩個(gè)現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽(yáng)系儀的儀器,可以預(yù)測(cè)日月和五顆行星在天球的位置。這兩個(gè)儀器都是由阿基米德制造,在阿基米德于西元前212年的敘...
四是,鏡頭的焦距越長(zhǎng),相機(jī)就必須把握得越穩(wěn)定,以避免影像模糊。經(jīng)驗(yàn)準(zhǔn)則是只有當(dāng)快門(mén)速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時(shí)才能夠手持鏡頭進(jìn)行拍攝,也稱(chēng)為“安全快門(mén)”。也就是說(shuō),當(dāng)快門(mén)速度低于1/100秒時(shí)就...
長(zhǎng)焦距鏡頭是指比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的焦距長(zhǎng)的攝影鏡頭。長(zhǎng)焦距鏡頭分為普通遠(yuǎn)攝鏡頭和超遠(yuǎn)攝鏡頭兩類(lèi)。普通遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距長(zhǎng)度接近標(biāo)準(zhǔn)鏡頭,而超遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距卻遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。以135照相機(jī)為例,其鏡頭焦距從85毫...
由于193nm沉浸式工藝的延伸性非常強(qiáng),同時(shí)EUV技術(shù)耗資巨大進(jìn)展緩慢。EUV(極紫外線光刻技術(shù))是下一代光刻技術(shù)(<32nm節(jié)點(diǎn)的光刻技術(shù))。它是采用波長(zhǎng)為13.4nm的軟x射線進(jìn)行光刻的技術(shù)。EU...
2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時(shí),很容易遮擋鏡頭視角的周?chē)瓜駡?chǎng)發(fā)暗,而這一情況,在取景時(shí)不容易察覺(jué),但在照片上卻很明顯。因此,運(yùn)用附件時(shí), 一定要從說(shuō)明書(shū)上了解清楚它們的使用范圍。如果說(shuō)明書(shū)中沒(méi)有...
2.該機(jī)械有一個(gè)刻上至少2000個(gè)字母的蓋子,因此安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃的人員經(jīng)常認(rèn)為這是儀器說(shuō)明書(shū)。這**是為了便于攜帶和個(gè)人使用。3.“說(shuō)明書(shū)”的存在**該裝置是科學(xué)家和工程師設(shè)計(jì)作為非專(zhuān)業(yè)的旅行...
廣角鏡頭的基本特點(diǎn)是,鏡頭視角大,視野寬闊。從某一視點(diǎn)觀察到的景物范圍要比人眼在同一視點(diǎn)所看到的大得多;景深長(zhǎng),可以表現(xiàn)出相當(dāng)大的清晰范圍;能強(qiáng)調(diào)畫(huà)面的******效果,善于夸張前景和表現(xiàn)景物的遠(yuǎn)近感...
對(duì)于新影像的進(jìn)一步研究促使萊特提出新看法。首先他將普萊斯的模式進(jìn)一步發(fā)展,認(rèn)為該儀器相當(dāng)于一個(gè)天象儀。萊特的天象儀不只可模擬日月運(yùn)動(dòng),還可顯示內(nèi)側(cè)行星(水星和金星)和外側(cè)行星(火星、木星和土星)的運(yùn)動(dòng)...
自動(dòng)精密沖床是一種用于金屬?zèng)_壓成型的工業(yè)設(shè)備,主要應(yīng)用于汽車(chē)、電子、五金制造等領(lǐng)域,可適配自動(dòng)化送料系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高效生產(chǎn)。其機(jī)身采用鋼板焊接結(jié)構(gòu)并經(jīng)過(guò)熱處理,具有高剛性和穩(wěn)定性。設(shè)備**部件包含曲軸、齒輪...
目 前EUV技 術(shù) 采 用 的 曝 光 波 長(zhǎng) 為13.5nm,由于其具有如此短的波長(zhǎng),所有光刻中不需要再使用光學(xué)鄰近效應(yīng)校正(OPC)技術(shù),因而它可以把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)。2009年...
集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個(gè)數(shù)量...
浸沒(méi)式光刻機(jī)是通過(guò)在物鏡與晶圓之間注入超純水,等效縮短光源波長(zhǎng)并提升數(shù)值孔徑,從而實(shí)現(xiàn)更高分辨率的半導(dǎo)體制造**設(shè)備。2024年9月工信部文件顯示,國(guó)產(chǎn)氟化氬浸沒(méi)式光刻機(jī)套刻精度已達(dá)到≤8nm水平。該...
商用級(jí)的數(shù)碼相機(jī)中多使用與普通35 mm相機(jī)相同的普通廣角鏡頭,由于其在景深深,拍攝范圍廣等優(yōu)點(diǎn),因而在選擇數(shù)碼相機(jī)時(shí),同樣性能的數(shù)碼相機(jī),能夠具有廣角和遠(yuǎn)距的數(shù)碼相機(jī)將會(huì)性能更好一些。按結(jié)構(gòu)固定光圈...
機(jī)械手關(guān)節(jié)減速機(jī)是一種通過(guò)電機(jī)驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化角度調(diào)整的精密傳動(dòng)裝置,具有重復(fù)定位精度≤5秒的特點(diǎn),適配AC伺服或步進(jìn)馬達(dá)。其穩(wěn)重承載能力和高精度特性使其廣泛應(yīng)用于精密加工機(jī)床、航太工業(yè)、半導(dǎo)體設(shè)備、印...
在曝光過(guò)程中,需要對(duì)不同的參數(shù)和可能缺陷進(jìn)行跟蹤和控制,會(huì)用到檢測(cè)控制芯片/控片(Monitor Chip)。根據(jù)不同的檢測(cè)控制對(duì)象,可以分為以下幾種:a、顆粒控片(Particle MC):用于芯片...
涂底方法:a、氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積,200~250C,30秒鐘;優(yōu)點(diǎn):涂底均勻、避免顆粒污染;b、旋轉(zhuǎn)涂底。缺點(diǎn):顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的:使表面具有疏水性,增強(qiáng)基...
半導(dǎo)體器件和集成電路對(duì)光刻曝光技術(shù)提出了越來(lái)越高的要求,在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學(xué)的極限。光刻曝光的常用波長(zhǎng)是3650~4358 埃,預(yù)計(jì)實(shí)用分辨率約為1微米。幾何光學(xué)的原理,...
視角范圍大,可以涵蓋大范圍景物。所謂視角范圍大,即在同一視點(diǎn)(與被攝物的距離保持不變)用廣角、標(biāo)準(zhǔn)和遠(yuǎn)攝三種不同焦距的攝影鏡頭取景,結(jié)果是前者要比后者在上下左右拍攝到更多的景物。當(dāng)攝影者在沒(méi)有退路的情...
● 儀表盤(pán)面為MPa刻度值直接讀取● 精度等級(jí)0.25% 0.4%● 雙層鏡面表盤(pán)● 設(shè)有度盤(pán)調(diào)零裝置● 鐵噴塑表殼● 銅合金內(nèi)機(jī)部件● 測(cè)量范圍-0.1至60MPa 外型尺寸示意圖精密壓力表的測(cè)量范...
為把193i技術(shù)進(jìn)一步推進(jìn)到32和22nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn)上,光刻**一直在尋找新的技術(shù),在沒(méi)有更好的新光刻技術(shù)出現(xiàn)前,兩次曝光技術(shù)(或者叫兩次成型技術(shù),DPT)成為人們關(guān) 注 的 熱 點(diǎn)。ArF浸沒(méi)式兩次...
光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器,其比較大基片尺寸為6英寸,可實(shí)現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過(guò)精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移,為集成電路...
鏡頭的改變:在相同物距 和光圈的情況下,使用不同焦距的鏡頭可改變景深,鏡頭焦距越短,**深越大,對(duì)于超廣角鏡(8---15毫米),景深非常大,以致無(wú)需調(diào)焦,因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭*...
2026.01.22 張家港購(gòu)買(mǎi)光刻系統(tǒng)選擇
2026.01.22 江蘇比較好的光刻系統(tǒng)批量定制
2026.01.22 吳江區(qū)供應(yīng)精密調(diào)整裝置批量定制
2026.01.22 江蘇省電光刻系統(tǒng)量大從優(yōu)
2026.01.22 吳江區(qū)省電光刻系統(tǒng)選擇
2026.01.22 姑蘇區(qū)省電光刻系統(tǒng)按需定制
2026.01.22 常熟本地精密調(diào)整裝置工廠直銷(xiāo)
2026.01.22 江蘇比較好的精密調(diào)整裝置多少錢(qián)
2026.01.22 南通省電光刻系統(tǒng)選擇
2026.01.22 太倉(cāng)購(gòu)買(mǎi)光刻系統(tǒng)選擇
2026.01.21 蘇州省電光刻系統(tǒng)五星服務(wù)
2026.01.21 常熟供應(yīng)精密調(diào)整裝置批量定制
2026.01.21 江蘇供應(yīng)精密調(diào)整裝置量大從優(yōu)
2026.01.21 工業(yè)園區(qū)銷(xiāo)售精密調(diào)整裝置工廠直銷(xiāo)
2026.01.21 徐州常見(jiàn)精密調(diào)整裝置批量定制
2026.01.21 吳中區(qū)銷(xiāo)售光刻系統(tǒng)多少錢(qián)
2026.01.21 連云港銷(xiāo)售精密調(diào)整裝置工廠直銷(xiāo)
2026.01.21 相城區(qū)比較好的光學(xué)鏡頭規(guī)格尺寸
2026.01.21 常熟供應(yīng)光刻系統(tǒng)批量定制
2026.01.21 淮安耐用精密調(diào)整裝置按需定制