那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計算石墨化度G[1]:式中:0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,nm;0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,nm。為實際石墨試樣(002)晶面間距,nm。實例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位,需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn)。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,用硅作為內(nèi)標(biāo)物,加入待測石墨樣品中,在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點,應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展,進一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。利用布魯克樣品臺,能精確地操縱樣品。根據(jù)所需自由度和樣品尺寸選合適的卡口安裝式樣品臺和落地式樣品臺。廣州物相定量分析XRD衍射儀推薦咨詢

制劑中微量API的晶型檢測引言藥物制劑生產(chǎn)過程中除需添加各種輔料外,往往還需要經(jīng)過溶解、研磨、干燥(溫度)、壓片等工藝過程,在此過程中API的晶型有可能發(fā)生改變,進而可能影響到藥物的療效。國內(nèi)外FDA規(guī)定多晶型藥物在研制、生產(chǎn)、貯存過程中必須保證其晶型的一致性,固體制劑中使用的晶型物質(zhì)應(yīng)該與API晶型一致。因此藥物制劑中的晶型分析是非常重要的。由于輔料的存在對藥物制劑中API的晶型分析增加了干擾,特別是API含量非常少的制劑樣品,檢測更加困難。XRPD是API晶型分析的有效手段之一,配合高性能的先進檢測器,為制劑中微量API的晶型檢測提供了有利工具。北京實驗室檢測XRD衍射儀無論面對何種應(yīng)用,DIFFRAC.DAVINCI都會指引用戶選擇較好的儀器配置。

D2PHASER所具備的數(shù)據(jù)質(zhì)量和數(shù)據(jù)采集速度遠(yuǎn)超目前人們對臺式XRD系統(tǒng)的認(rèn)知。緊湊輕便的外形和易于使用的設(shè)計,十分便于移動,您無需準(zhǔn)備復(fù)雜的基礎(chǔ)框架、大而笨重的工作臺,也無需供應(yīng)商前來安裝和調(diào)整,只需準(zhǔn)備標(biāo)準(zhǔn)的電源插座,然后花費幾分鐘的時間,即可完成從拆包到獲得分析結(jié)果的過程。D2PHASERXE-T版D2PHASER配備了獨特的LYNXEYEXE-T探測器,已然成為同類更好的選擇!小于380eV的能量分辨率使其支持的數(shù)字單色器模式,可有效去除——不必要的輻射,如樣品熒光,Kβ輻射以及軔致輻射——背景散射,而不會明顯降低檢測速度。
殘余應(yīng)力分析::在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進行測量,對鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進行分析。使用了2D檢測器的μXRD:使用DIFFRAC.EVA,測定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過積分2D圖像,進行1D掃描,來進行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。定性相分析:候選材料鑒別(PMI)為常見,這是因為其對原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無法通過元素分析技術(shù)實現(xiàn)。高通量篩選(HTS):在DIFFRAC.EVA中,進行半定量分析,以現(xiàn)實孔板上不同相的濃度。非環(huán)境XRD:在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測量同步,然后可以在DIFFRAC.EVR中顯示結(jié)果。小角X射線散射(SAXS):在DIFFRAC.SAXS中,對EIGER2R500K通過2D模式手機的NISTSRM80119nm金納米顆粒進行粒度分析。在DIFFRAC.LEPTOS中,對多層樣品進行XRR分析,測定其薄膜厚度、晶格失配和混合晶體濃度。

D8ADVANCEECO可提供高亮度1kW線焦點X射線源,其能耗極低,無需外設(shè)水冷,對實驗室基礎(chǔ)設(shè)施亦無特殊要求。您只需準(zhǔn)備家用壁式插座即可。因此,您將能簡單快捷地完成安裝和定位。D8ADVANCEECO將在分析性能不打折扣的前提下,將擁有成本和立式XRD儀器的生態(tài)足跡降至。插件分析:無需外設(shè)水冷:每年可節(jié)約高達(dá)1.700m3的自來水耗電減少50%左右需單相電源,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對所有類型的樣品進行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶,都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的:配置儀器時,免工具、免準(zhǔn)直,同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE??稍跀?shù)秒內(nèi),輕松從先焦點切換到點焦點,從而擴大應(yīng)用范圍,同事縮短重新匹配的時間。南京微區(qū)檢測分析
從過程開發(fā)到質(zhì)量控制,D8 DISCOVER可以對亞毫米至300mm大小的樣品進行結(jié)構(gòu)表征。廣州物相定量分析XRD衍射儀推薦咨詢
RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測試,X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米,這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度,導(dǎo)致薄膜的信號會受到襯底的影響(圖1)。另外,如果衍射簡單較高,那么X射線只能輻射到部分樣品,無法利用整個樣品的體積,衍射信號弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明:GID需要硬件配置;常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,不適合單晶外延膜。廣州物相定量分析XRD衍射儀推薦咨詢
不論您的預(yù)算如何,D8ADVANCEECO系列都能通過儀器配置為您帶來好的性能。由于降低了對水和電力等資源的需求,其運營成本降低。出色的儀器質(zhì)量為可靠性提供了保證,同時布魯克還為之提供組件質(zhì)量保證。無外部供水成本1kW高效發(fā)生器降低電力成本,無外部冷卻器耗電延長了X射線管的使用壽命X射線管質(zhì)量保證:D8ADVANCEECO可用的所有高亮度X射線源均享有3年保修測角儀質(zhì)量保證:測角儀采用免維護的堅固設(shè)計,可為您帶來機械強度和較長的使用壽命,因此能夠為您提供好的數(shù)據(jù)質(zhì)量。其中,布魯克提供10年保修。儀器準(zhǔn)直保證探測器質(zhì)量保證在DIFFRAC.LEPTOS中,對多層樣品進行XRR分析,測定其薄膜厚度...