電鍍設(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護(hù)性或功能性涂層。 其系統(tǒng)包括: 電解電源:提供0-24V直流電,電流可達(dá)數(shù)千安培,適配不同鍍種需求; 電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設(shè)計(jì),容積0.5-10m3; 電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或...
1.磷化(Phosphating)是一種化學(xué)表面處理技術(shù),利用磷酸鹽溶液與金屬(如鋼鐵、鋅、鋁等)發(fā)生反應(yīng),生成一層致密的磷酸鹽晶體膜(如磷酸鐵、磷酸鋅)
2.全自動(dòng)磷化線通過自動(dòng)化設(shè)備實(shí)現(xiàn)磷化工藝全流程無人化操作,覆蓋預(yù)處理、磷化、后處理等環(huán)節(jié)。
1.預(yù)處理單元
脫脂槽:去除金屬表面油污
酸洗槽:氧化皮和銹跡
水洗槽:沖洗殘留化學(xué)藥劑
2.磷化處理單元
磷化槽:主反應(yīng)區(qū),金屬浸泡或噴淋磷化液,生成轉(zhuǎn)化膜
溫度與濃度控制:通過傳感器和自動(dòng)加藥系統(tǒng)維持工藝參數(shù)穩(wěn)定
3.后處理單元
封閉/鈍化槽:增強(qiáng)磷化膜耐腐蝕性
烘干系統(tǒng):熱風(fēng)或紅外烘干,避免水痕殘留
4.自動(dòng)化系統(tǒng)
輸送裝置:傳送帶、機(jī)械臂或懸掛鏈,精細(xì)控制工件移動(dòng)
PLC控制:集成溫控、液位監(jiān)測、流程時(shí)序管理
數(shù)據(jù)監(jiān)控:實(shí)時(shí)記錄工藝參數(shù),支持遠(yuǎn)程操作與故障診斷
上料 → 脫脂 → 水洗 → 酸洗 → 水洗 → 表調(diào)(調(diào)整表面活性)→ 磷化 → 水洗 → 鈍化 → 烘干 → 下料。
模塊化電鍍設(shè)備支持槽體自由組合,可快速切換掛鍍、滾鍍模式,靈活適配多品種小批量生產(chǎn)需求。浙江機(jī)械電鍍設(shè)備

是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備,主要用于在半導(dǎo)體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝,實(shí)現(xiàn)高精度、高一致性的金屬覆蓋,滿足集成電路封裝、先進(jìn)封裝及微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求
與傳統(tǒng)滾鍍不同,半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性。
1.金屬互連:在晶圓上形成銅導(dǎo)線。
2.凸塊制備:沉積錫、銅、金等材料,用于芯片與基板的電氣連接。
3.阻擋層/種子層鍍覆:鍍鈦、鉭等材料,防止金屬擴(kuò)散并增強(qiáng)附著力。
1.電鍍槽:
材質(zhì):耐腐蝕材料,避免污染鍍液
鍍液循環(huán)系統(tǒng):維持鍍液成分均勻,過濾顆粒雜質(zhì)
2.旋轉(zhuǎn)載具:
晶圓固定裝置:真空吸附或機(jī)械夾持,確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)
轉(zhuǎn)速控制:通過伺服電機(jī)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速,優(yōu)化鍍層均勻性
3.陽極系統(tǒng):
可溶性/不溶性陽極:銅、鉑等材料,依鍍層需求選擇
陽極位置調(diào)節(jié):控制電場分布,減少邊緣效應(yīng)
4.供液與噴淋系統(tǒng):
多點(diǎn)噴淋頭:均勻分配鍍液至晶圓表面,避免氣泡滯留
流量控制:精確調(diào)節(jié)鍍液流速,匹配不同工藝需求
5.控制系統(tǒng):
PLC/工控機(jī):集成溫度、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測與反饋。
配方管理:存儲(chǔ)不同鍍層的工藝參數(shù) 經(jīng)濟(jì)型電鍍設(shè)備設(shè)備維護(hù)系統(tǒng)集成故障診斷模塊,通過傳感器數(shù)據(jù)預(yù)判過濾機(jī)堵塞、加熱管老化等問題,減少停機(jī)時(shí)間。

是專為電感類電子元件(如線圈、磁芯、電感器等)設(shè)計(jì)的電鍍加工設(shè)備,其特點(diǎn)是采用雙滾筒結(jié)構(gòu),結(jié)合滾鍍工藝,以實(shí)現(xiàn)小型電感元件的高效、均勻鍍層處理。
雙滾筒設(shè)計(jì):兩個(gè)滾筒可同時(shí)或交替運(yùn)行,一桶裝卸時(shí)另一桶持續(xù)工作,減少停機(jī)時(shí)間,提升產(chǎn)能。
滾筒優(yōu)化:采用絕緣耐腐蝕材質(zhì)(如PP),開孔設(shè)計(jì)促進(jìn)鍍液流通,防纏繞結(jié)構(gòu)適配電感元件的細(xì)小特性。
滾鍍工藝:元件在滾筒內(nèi)翻滾,通過電流作用均勻沉積鍍層(如鎳、錫、銀),雙桶可調(diào)控轉(zhuǎn)速、電流等參數(shù)。
高效連續(xù)生產(chǎn):雙桶交替作業(yè)支持大規(guī)模電鍍,尤其適合貼片電感(SMD)、磁環(huán)等小件批量處理。
鍍層均勻穩(wěn)定:滾筒旋轉(zhuǎn)避免元件堆積死角,結(jié)合陰極導(dǎo)電設(shè)計(jì),確保復(fù)雜形狀表面鍍覆一致性。
低損傷高適配:柔和翻滾減少碰撞損耗,可適配防腐、可焊、導(dǎo)電等多種鍍層工藝需求。
典型場景:貼片電感、繞線電感、磁芯等鍍鎳(抗氧化)、鍍錫(焊接)或鍍銀(高導(dǎo))處理。
關(guān)鍵注意:需匹配元件尺寸選擇滾筒孔徑,定期維護(hù)鍍液成分及導(dǎo)電觸點(diǎn),避免漏料或鍍層缺陷。
玻璃鋼離心風(fēng)機(jī)是采用玻璃纖維增強(qiáng)塑料(FRP)制造的離心式通風(fēng)設(shè)備,由玻璃鋼葉輪、機(jī)殼及金屬支架構(gòu)成。工作時(shí)電機(jī)驅(qū)動(dòng)葉輪高速旋轉(zhuǎn),通過離心力將氣體甩出機(jī)殼,葉輪中心形成負(fù)壓持續(xù)吸入氣體,實(shí)現(xiàn)高效輸送。其特點(diǎn)包括:1. 耐酸堿鹽腐蝕,適用于化工、污水處理等腐蝕性環(huán)境;2. 重量輕強(qiáng)度高,便于運(yùn)輸安裝且結(jié)構(gòu)穩(wěn)定;3. 低噪音設(shè)計(jì),適合對環(huán)境要求高的場所;4. 可定制化適配不同風(fēng)量風(fēng)壓需求。廣泛應(yīng)用于工業(yè)廢氣處理(如化工廢氣、冶金粉塵)、環(huán)保工程(污水處理廠除臭、垃圾站換氣)及民用通風(fēng)(商場空調(diào)、住宅排油煙)等領(lǐng)域,兼具耐候性與經(jīng)濟(jì)性噴淋式電鍍設(shè)備利用高壓噴頭將電解液均勻噴灑在工件表面,加速離子交換,提高電鍍效率,形狀復(fù)雜的工件。

掛鍍工藝:晶圓固定在掛具上,浸入電鍍液,通過精細(xì)控制電流、電壓及溶液成分,在表面沉積均勻金屬層。
電鍍槽:耐腐蝕材質(zhì),配備溫控、循環(huán)過濾系統(tǒng),維持鍍液均勻性
掛具與陽極:鈦或鉑金陽極,掛具設(shè)計(jì)適配晶圓尺寸,確保電場分布均勻
自動(dòng)化傳輸:機(jī)械臂自動(dòng)上下料,減少人工污染風(fēng)險(xiǎn)
控制系統(tǒng):PLC/計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)調(diào)控電流密度、電鍍時(shí)間、pH值等參數(shù)
高均勻性:通過脈沖電鍍或水平電鍍技術(shù)(如ECP),減少邊緣效應(yīng),實(shí)現(xiàn)亞微米級鍍層均勻性
低缺陷率:鍍液雜質(zhì)控制(<0.1ppm)與膜厚在線監(jiān)測,降低孔洞、結(jié)節(jié)等缺陷
高產(chǎn)能:支持多晶圓并行處理
銅互連:在邏輯芯片中沉積多層銅導(dǎo)線,替代傳統(tǒng)鋁工藝以降低電阻
TSV填充:為3D封裝提供垂直導(dǎo)電通道,實(shí)現(xiàn)芯片堆疊
凸塊電鍍:在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊,用于Flip-Chip鍵合
RDL(重布線層):沉積銅層實(shí)現(xiàn)芯片I/O端口的重新布局
半導(dǎo)體掛鍍設(shè)備通過精密電化學(xué)控制與自動(dòng)化技術(shù),解決了納米級金屬沉積的均勻性與可靠性難題,是先進(jìn)芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關(guān)聯(lián)芯片的導(dǎo)電性、散熱及良率 電鍍廢水的重金屬回收設(shè)備采用離子交換樹脂,高效吸附鎳、銅離子,實(shí)現(xiàn)資源循環(huán)利用。廣東深圳貴金屬電鍍設(shè)備
掛具設(shè)計(jì)作為電鍍設(shè)備附件,采用導(dǎo)電性能優(yōu)異的銅合金或不銹鋼,減少接觸電阻以保障電流均勻傳導(dǎo)。浙江機(jī)械電鍍設(shè)備
1.鍍槽:是電鍍加工的設(shè)備,用于盛放電鍍液,為電鍍提供反應(yīng)場所。根據(jù)電鍍工藝和工件的不同,鍍槽的材質(zhì)、形狀和尺寸也各不相同,常見的有聚丙烯、聚四氟乙烯等材質(zhì)制成的鍍槽。
2.整流器:其作用是將交流電轉(zhuǎn)換為直流電,為電鍍過程提供穩(wěn)定的電流。電鍍過程需要精確控制電流的大小和穩(wěn)定性,以確保電鍍層的質(zhì)量和性能。
3.過濾機(jī):用于過濾電鍍液中的雜質(zhì)、顆粒和懸浮物,保持電鍍液的清潔度。過濾機(jī)通常采用濾芯式或?yàn)V袋式過濾,可根據(jù)電鍍液的性質(zhì)和過濾精度要求選擇不同的過濾材料。
4.加熱和冷卻裝置:加熱裝置通常采用電加熱或蒸汽加熱的方式,而冷卻裝置則多采用冷水機(jī)或冷卻塔進(jìn)行冷卻。
5.攪拌設(shè)備:包括機(jī)械攪拌和空氣攪拌等方式。
6.掛具:用于懸掛和固定待電鍍的工件,使工件能夠在電鍍槽中與電鍍液充分接觸,并保證電流均勻地通過工件。7.行車:主要用于在電鍍車間內(nèi)吊運(yùn)工件、原材料和成品等重物。
8.廢氣處理設(shè)備:電鍍過程中會(huì)產(chǎn)生各種有害氣體,如酸霧、堿霧和重金屬廢氣等。廢氣處理設(shè)備通常采用噴淋塔、活性炭吸附裝置、催化燃燒裝置等,對廢氣進(jìn)行凈化處理,達(dá)標(biāo)后排放。 浙江機(jī)械電鍍設(shè)備
電鍍設(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護(hù)性或功能性涂層。 其系統(tǒng)包括: 電解電源:提供0-24V直流電,電流可達(dá)數(shù)千安培,適配不同鍍種需求; 電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設(shè)計(jì),容積0.5-10m3; 電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或...
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