電鍍?cè)O(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護(hù)性或功能性涂層。 其系統(tǒng)包括: 電解電源:提供0-24V直流電,電流可達(dá)數(shù)千安培,適配不同鍍種需求; 電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設(shè)計(jì),容積0.5-10m3; 電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或...
龍門式自動(dòng)線通過龍門機(jī)械手(橫跨電鍍槽上方的移動(dòng)框架)和懸掛系統(tǒng),將工件按預(yù)設(shè)程序在不同工藝槽(如除油、電鍍、水洗等)間自動(dòng)轉(zhuǎn)移,全程由PLC(可編程邏輯控制器)控制,實(shí)現(xiàn)無人化連續(xù)生產(chǎn)。
組成
1.龍門機(jī)械
手采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng),雙立柱+橫梁結(jié)構(gòu),負(fù)載能力可達(dá)200-1000kg行程精度:±0.1mm(機(jī)型可達(dá)±0.05mm)移動(dòng)速度:水平0.5-2m/s,升降0.2-0.5m/s
2.軌道系統(tǒng)
精密導(dǎo)軌+齒輪齒條傳動(dòng),支持多工位并行作業(yè)防腐蝕設(shè)計(jì)(不銹鋼或鍍層保護(hù)),適應(yīng)酸堿環(huán)境
3.掛具系統(tǒng)
定制化夾具,適配不同工件形狀(如支架、吊籃)導(dǎo)電觸點(diǎn)采用銀/銅復(fù)合材料,接觸電阻<0.05Ω
4.控制系統(tǒng)
PLC+觸摸屏(HMI),預(yù)設(shè)上百種工藝配方實(shí)時(shí)監(jiān)控電流、溫度、pH值,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)追溯
智能電鍍?cè)O(shè)備的云端監(jiān)控平臺(tái),實(shí)時(shí)采集全生產(chǎn)線數(shù)據(jù),通過大數(shù)據(jù)分析優(yōu)化工藝參數(shù)與能耗。江西電鍍?cè)O(shè)備周邊設(shè)備

集氣罩:根據(jù)前處理設(shè)備形狀、廢氣散發(fā)特點(diǎn)定制,如槽邊側(cè)向集氣罩等,可高效收集廢氣,常見材質(zhì)有 PP 等耐腐蝕材料 。
通風(fēng)管道:多選用耐腐蝕的 PP 材質(zhì),用于連接抽風(fēng)設(shè)備各部件,將廢氣輸送至處理設(shè)備,其設(shè)計(jì)需考慮廢氣流量、阻力等因素 。
引風(fēng)機(jī):常安裝在輸送通道出風(fēng)口處,為廢氣的抽取和輸送提供動(dòng)力 ,可根據(jù)實(shí)際需求選擇不同規(guī)格和性能的引風(fēng)機(jī)。
此外,一些抽風(fēng)裝置還可能配備過濾處理箱、活性炭吸附網(wǎng)板等,用于對(duì)廢氣進(jìn)行初步過濾、吸附,減少大顆粒雜質(zhì)等對(duì)風(fēng)機(jī)的損害 。 國產(chǎn)電鍍?cè)O(shè)備是什么滾鍍?cè)O(shè)備采用帶孔滾筒裝載小工件,旋轉(zhuǎn)翻滾中完成電鍍,高效處理螺絲、電子元件等批量小件。

掛鍍工藝:晶圓固定在掛具上,浸入電鍍液,通過精細(xì)控制電流、電壓及溶液成分,在表面沉積均勻金屬層。
電鍍槽:耐腐蝕材質(zhì),配備溫控、循環(huán)過濾系統(tǒng),維持鍍液均勻性
掛具與陽極:鈦或鉑金陽極,掛具設(shè)計(jì)適配晶圓尺寸,確保電場(chǎng)分布均勻
自動(dòng)化傳輸:機(jī)械臂自動(dòng)上下料,減少人工污染風(fēng)險(xiǎn)
控制系統(tǒng):PLC/計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)調(diào)控電流密度、電鍍時(shí)間、pH值等參數(shù)
高均勻性:通過脈沖電鍍或水平電鍍技術(shù)(如ECP),減少邊緣效應(yīng),實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)鍍層均勻性
低缺陷率:鍍液雜質(zhì)控制(<0.1ppm)與膜厚在線監(jiān)測(cè),降低孔洞、結(jié)節(jié)等缺陷
高產(chǎn)能:支持多晶圓并行處理
銅互連:在邏輯芯片中沉積多層銅導(dǎo)線,替代傳統(tǒng)鋁工藝以降低電阻
TSV填充:為3D封裝提供垂直導(dǎo)電通道,實(shí)現(xiàn)芯片堆疊
凸塊電鍍:在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊,用于Flip-Chip鍵合
RDL(重布線層):沉積銅層實(shí)現(xiàn)芯片I/O端口的重新布局
半導(dǎo)體掛鍍?cè)O(shè)備通過精密電化學(xué)控制與自動(dòng)化技術(shù),解決了納米級(jí)金屬沉積的均勻性與可靠性難題,是先進(jìn)芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關(guān)聯(lián)芯片的導(dǎo)電性、散熱及良率
是為電阻、電容等微型電子元件設(shè)計(jì)的自動(dòng)化電鍍裝置,通過三滾筒協(xié)同作業(yè)與全流程智能控制,實(shí)現(xiàn)高效、高精度鍍層加工。要點(diǎn):
三滾筒系統(tǒng):
三個(gè)滾筒可同步處理不同工藝或元件(如電阻鍍錫、電容鍍銀),或聯(lián)動(dòng)提升產(chǎn)能。滾筒采用PP/PVC等耐腐蝕材質(zhì),內(nèi)部防碰撞分區(qū)設(shè)計(jì),減少微小元件(如貼片電阻0201)的損傷風(fēng)險(xiǎn)
全自動(dòng)控制:
集成PLC/工業(yè)電腦系統(tǒng),自動(dòng)完成上料、電鍍、清洗、烘干流程。通過傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控鍍液溫度、pH值及電流密度,動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)參數(shù)
電鍍優(yōu)化:
多級(jí)過濾與溫控裝置確保鍍液穩(wěn)定性;多點(diǎn)陰極導(dǎo)電技術(shù)適配電阻引腳、電容電極的復(fù)雜接觸需求
高效靈活:三滾筒并行作業(yè),產(chǎn)能較單筒提升50%以上,可同時(shí)處理多規(guī)格元件或多鍍種
鍍層高一致性:滾筒勻速旋轉(zhuǎn)結(jié)合智能調(diào)控,確保微小元件表面鍍層均勻
低損耗率:防摩擦結(jié)構(gòu)+精細(xì)轉(zhuǎn)速控制,元件破損率低于0.1%
典型場(chǎng)景:
電阻類:金屬膜電阻端頭鍍錫、高精度電阻鍍金
電容類:鋁電解電容電極鍍銅、MLCC電容鍍鎳抗氧化
關(guān)鍵注意:
按元件尺寸匹配滾筒孔徑,防止漏料
定期檢測(cè)鍍液金屬離子濃度,避免雜質(zhì)影響鍍層導(dǎo)電性
維護(hù)自動(dòng)傳輸系統(tǒng),減少卡料風(fēng)險(xiǎn)。 貴金屬電鍍?cè)O(shè)備配備高精度電源與凈化系統(tǒng),嚴(yán)格控制金、銀鍍層純度,滿足珠寶及電子芯片的高要求。

滾鍍機(jī)的工作原理
將小工件裝入帶孔的滾筒(聚氯乙烯或不銹鋼材質(zhì)),滾筒浸入電解液后緩慢旋轉(zhuǎn)(5~15 轉(zhuǎn) / 分鐘),通過滾筒壁的孔洞使電解液流通,同時(shí)工件在滾筒內(nèi)翻滾,確保鍍層均勻附著。
優(yōu)勢(shì):
高效率:單次可處理數(shù)千件小工件,產(chǎn)能遠(yuǎn)超掛鍍(適合單件或少量)。
低成本:減少人工掛卸成本,滾筒導(dǎo)電桿統(tǒng)一通電,能耗相對(duì)較低。
均勻性:工件在滾筒內(nèi)動(dòng)態(tài)接觸電解液,避免屏蔽效應(yīng)(掛鍍中工件相互遮擋導(dǎo)致鍍層不均)。
與生產(chǎn)線其他環(huán)節(jié)的配合
前處理:需先通過除油、酸洗去除工件表面油污和氧化皮,否則影響鍍層結(jié)合力(滾鍍機(jī)不具備前處理功能,依賴生產(chǎn)線前段設(shè)備)。
后處理:滾鍍完成后,工件隨滾筒吊出,進(jìn)入水洗槽、鈍化槽或封閉槽(如鍍鋅后的藍(lán)白鈍化),終干燥(生產(chǎn)線后段設(shè)備完成)。
自動(dòng)化控制:滾鍍機(jī)的轉(zhuǎn)速、電鍍時(shí)間、電流電壓等參數(shù)由生產(chǎn)線 PLC 系統(tǒng)統(tǒng)一控制,與傳輸裝置(如行車)聯(lián)動(dòng),實(shí)現(xiàn) “上料→前處理→滾鍍→后處理→下料” 全流程自動(dòng)化。 噴淋式電鍍?cè)O(shè)備利用高壓噴頭將電解液均勻噴灑在工件表面,加速離子交換,提高電鍍效率,形狀復(fù)雜的工件。江西電鍍?cè)O(shè)備周邊設(shè)備
陽極裝置分可溶性(如鋅板、銅板)與不溶性(如鉛板),維持電解液金屬離子濃度,保障電鍍反應(yīng)持續(xù)穩(wěn)定。江西電鍍?cè)O(shè)備周邊設(shè)備
是專為電感類電子元件(如線圈、磁芯、電感器等)設(shè)計(jì)的電鍍加工設(shè)備,其特點(diǎn)是采用雙滾筒結(jié)構(gòu),結(jié)合滾鍍工藝,以實(shí)現(xiàn)小型電感元件的高效、均勻鍍層處理。
雙滾筒設(shè)計(jì):兩個(gè)滾筒可同時(shí)或交替運(yùn)行,一桶裝卸時(shí)另一桶持續(xù)工作,減少停機(jī)時(shí)間,提升產(chǎn)能。
滾筒優(yōu)化:采用絕緣耐腐蝕材質(zhì)(如PP),開孔設(shè)計(jì)促進(jìn)鍍液流通,防纏繞結(jié)構(gòu)適配電感元件的細(xì)小特性。
滾鍍工藝:元件在滾筒內(nèi)翻滾,通過電流作用均勻沉積鍍層(如鎳、錫、銀),雙桶可調(diào)控轉(zhuǎn)速、電流等參數(shù)。
高效連續(xù)生產(chǎn):雙桶交替作業(yè)支持大規(guī)模電鍍,尤其適合貼片電感(SMD)、磁環(huán)等小件批量處理。
鍍層均勻穩(wěn)定:滾筒旋轉(zhuǎn)避免元件堆積死角,結(jié)合陰極導(dǎo)電設(shè)計(jì),確保復(fù)雜形狀表面鍍覆一致性。
低損傷高適配:柔和翻滾減少碰撞損耗,可適配防腐、可焊、導(dǎo)電等多種鍍層工藝需求。
典型場(chǎng)景:貼片電感、繞線電感、磁芯等鍍鎳(抗氧化)、鍍錫(焊接)或鍍銀(高導(dǎo))處理。
關(guān)鍵注意:需匹配元件尺寸選擇滾筒孔徑,定期維護(hù)鍍液成分及導(dǎo)電觸點(diǎn),避免漏料或鍍層缺陷。 江西電鍍?cè)O(shè)備周邊設(shè)備
電鍍?cè)O(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護(hù)性或功能性涂層。 其系統(tǒng)包括: 電解電源:提供0-24V直流電,電流可達(dá)數(shù)千安培,適配不同鍍種需求; 電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設(shè)計(jì),容積0.5-10m3; 電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或...
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