電鍍?cè)O(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護(hù)性或功能性涂層。 其系統(tǒng)包括: 電解電源:提供0-24V直流電,電流可達(dá)數(shù)千安培,適配不同鍍種需求; 電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設(shè)計(jì),容積0.5-10m3; 電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或...
硫酸霧等酸性廢氣選酸霧凈化塔;低濃度有機(jī)廢氣用活性炭吸附裝置,中高濃度則考慮催化燃燒裝置;有顆粒物選布袋或靜電除塵器,混合廢氣需組合設(shè)備。
各設(shè)備處理率有別,處理量匹配電鍍規(guī)模,大生產(chǎn)線選大風(fēng)量設(shè)備,小廠選小風(fēng)量的。
涵蓋能耗、耗材及維護(hù)費(fèi),能耗低、耗材更換便宜、維護(hù)簡(jiǎn)單的設(shè)備更優(yōu)。場(chǎng)地有限選緊湊設(shè)備,處理易燃易爆廢氣的要防爆。操作管理上,選自動(dòng)化程度高的。
鍍鉻設(shè)備需配置鉛合金陽極與陽極袋,防止雜質(zhì)污染電解液,確保硬鉻鍍層的高硬度與耐磨性。上海陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備

一、設(shè)備概述:
適用于電鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、鍍銅、鍍鎘等有色金屬;鍍金、鍍銀等貴重金屬的精密電鍍。
降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長(zhǎng)速度,促使晶核細(xì)化。
改善結(jié)合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。
改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負(fù)電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,掛鍍生產(chǎn)線設(shè)備,減緩形態(tài)復(fù)雜零件的突出部位由于沉積離子過度消耗而帶來的“燒焦”“樹枝狀”沉積的缺陷,對(duì)于獲得一個(gè)給定特性鍍層的厚度可減少到原來1/3~1/2,節(jié)省原材料。
降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力,改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等,容易得到無裂紋的鍍層,減少添加劑。
有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。
改善陽極的溶解,不需陽極活化劑。
改進(jìn)鍍層的機(jī)械物理性能,如提高密度,降低表面電阻和體電阻,提高韌性、耐磨性、抗蝕性,而且可以控制鍍層硬度。 江蘇電鍍?cè)O(shè)備廠家直銷陽極裝置分可溶性(如鋅板、銅板)與不溶性(如鉛板),維持電解液金屬離子濃度,保障電鍍反應(yīng)持續(xù)穩(wěn)定。

工藝優(yōu)化與鍍液研發(fā):可探索電鍍工藝參數(shù)(如鍍液成分、電流密度、溫度等)對(duì)鍍層質(zhì)量的影響,通過調(diào)控參數(shù)分析鍍層的厚度、均勻性、光澤度等指標(biāo),為工業(yè)化生產(chǎn)篩選比較好工藝方案。同時(shí),支持新型鍍液配方的小試實(shí)驗(yàn),評(píng)估鍍層的耐腐蝕性、耐磨性等性能,助力環(huán)保型、功能性鍍液的開發(fā)與改良。
精細(xì)制備小批量樣品:在科研場(chǎng)景中,能精確控制電鍍過程,為材料科學(xué)、表面工程等領(lǐng)域提供少量高質(zhì)量樣品,用于微觀結(jié)構(gòu)分析、成分分布檢測(cè)等基礎(chǔ)研究;在產(chǎn)品開發(fā)階段,可快速制備電鍍?cè)嚇?,幫助企業(yè)驗(yàn)證新產(chǎn)品的外觀與性能,提前優(yōu)化設(shè)計(jì),降低大規(guī)模生產(chǎn)的試錯(cuò)成本。
教學(xué)實(shí)踐與科普展示:作為教育工具,支持學(xué)生親身體驗(yàn)電鍍?cè)砼c操作流程,通過調(diào)節(jié)參數(shù)觀察實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象,培養(yǎng)實(shí)踐動(dòng)手能力與科學(xué)思維;在科普活動(dòng)中,以直觀的電鍍過程演示,向公眾展示表面處理技術(shù)的魅力,激發(fā)對(duì)材料科學(xué)的興趣。其緊湊設(shè)計(jì)與靈活可控性,使其成為連接理論研究與實(shí)際應(yīng)用的關(guān)鍵橋梁,兼具科研價(jià)值、生產(chǎn)指導(dǎo)意義與教育功能。編輯分享
是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備,主要用于在半導(dǎo)體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝,實(shí)現(xiàn)高精度、高一致性的金屬覆蓋,滿足集成電路封裝、先進(jìn)封裝及微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求
與傳統(tǒng)滾鍍不同,半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性。
1.金屬互連:在晶圓上形成銅導(dǎo)線。
2.凸塊制備:沉積錫、銅、金等材料,用于芯片與基板的電氣連接。
3.阻擋層/種子層鍍覆:鍍鈦、鉭等材料,防止金屬擴(kuò)散并增強(qiáng)附著力。
1.電鍍槽:
材質(zhì):耐腐蝕材料,避免污染鍍液
鍍液循環(huán)系統(tǒng):維持鍍液成分均勻,過濾顆粒雜質(zhì)
2.旋轉(zhuǎn)載具:
晶圓固定裝置:真空吸附或機(jī)械夾持,確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)
轉(zhuǎn)速控制:通過伺服電機(jī)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速,優(yōu)化鍍層均勻性
3.陽極系統(tǒng):
可溶性/不溶性陽極:銅、鉑等材料,依鍍層需求選擇
陽極位置調(diào)節(jié):控制電場(chǎng)分布,減少邊緣效應(yīng)
4.供液與噴淋系統(tǒng):
多點(diǎn)噴淋頭:均勻分配鍍液至晶圓表面,避免氣泡滯留
流量控制:精確調(diào)節(jié)鍍液流速,匹配不同工藝需求
5.控制系統(tǒng):
PLC/工控機(jī):集成溫度、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測(cè)與反饋。
配方管理:存儲(chǔ)不同鍍層的工藝參數(shù) 在線監(jiān)測(cè)設(shè)備搭載 AI 算法,實(shí)時(shí)分析鍍層缺陷(如麻點(diǎn)、漏鍍),自動(dòng)調(diào)整電流參數(shù)提升良品率。

按電鍍工藝藥劑添加
分化學(xué)鎳自動(dòng)加藥設(shè)備:通過先進(jìn)傳感器和控制系統(tǒng),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)化學(xué)鎳溶液濃度、pH值、溫度等參數(shù),依預(yù)設(shè)工藝要求自動(dòng)調(diào)整添加劑加入量,保障溶液穩(wěn)定性,提高電鍍產(chǎn)品一致性與質(zhì)量。還具備高效節(jié)能特點(diǎn),減少化學(xué)品浪費(fèi)與環(huán)境污染,同時(shí)減輕工人勞動(dòng)強(qiáng)度。
電鍍藥水全自動(dòng)添加系統(tǒng):如秒準(zhǔn)MAZ-XR300A18,基于莫塞萊定律和比爾-朗伯定律,利用軟X射線和可見光譜對(duì)電鍍液中金屬離子(如Ni2?、Sn2?等)和非金屬組分(如磷酸、氫氧化鈉等添加劑)進(jìn)行定性、定量分析。具備自清洗功能,支持多通道采樣,可全組分在線分析,適用于高溫強(qiáng)腐蝕性環(huán)境,安全性高。
pH自動(dòng)加藥機(jī):用于維持電鍍液pH值穩(wěn)定。電鍍過程中,pH值變化會(huì)影響鍍層質(zhì)量,該設(shè)備通過pH傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),當(dāng)pH值偏離設(shè)定范圍,自動(dòng)控制加酸或加堿泵添加相應(yīng)藥劑,使pH值保持在合適區(qū)間。
光亮劑自動(dòng)加藥機(jī):光亮劑能提升電鍍層光亮程度和表面質(zhì)量。此設(shè)備依據(jù)電鍍液中光亮劑濃度變化,自動(dòng)添加光亮劑,保證鍍層外觀質(zhì)量穩(wěn)定,避免因光亮劑不足或過量導(dǎo)致鍍層發(fā)暗、出現(xiàn)條紋等問題。 檢測(cè)設(shè)備配備 X 射線測(cè)厚儀與 pH 傳感器,在線監(jiān)測(cè)鍍層厚度及藥液參數(shù),實(shí)時(shí)反饋并修正工藝偏差。上海陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備
電鍍電源設(shè)備提供穩(wěn)定直流電流,支持恒流恒壓調(diào)節(jié),直接影響鍍層厚度與質(zhì)量均勻性。上海陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備
1.磷化(Phosphating)是一種化學(xué)表面處理技術(shù),利用磷酸鹽溶液與金屬(如鋼鐵、鋅、鋁等)發(fā)生反應(yīng),生成一層致密的磷酸鹽晶體膜(如磷酸鐵、磷酸鋅)
2.全自動(dòng)磷化線通過自動(dòng)化設(shè)備實(shí)現(xiàn)磷化工藝全流程無人化操作,覆蓋預(yù)處理、磷化、后處理等環(huán)節(jié)。
1.預(yù)處理單元
脫脂槽:去除金屬表面油污
酸洗槽:氧化皮和銹跡
水洗槽:沖洗殘留化學(xué)藥劑
2.磷化處理單元
磷化槽:主反應(yīng)區(qū),金屬浸泡或噴淋磷化液,生成轉(zhuǎn)化膜
溫度與濃度控制:通過傳感器和自動(dòng)加藥系統(tǒng)維持工藝參數(shù)穩(wěn)定
3.后處理單元
封閉/鈍化槽:增強(qiáng)磷化膜耐腐蝕性
烘干系統(tǒng):熱風(fēng)或紅外烘干,避免水痕殘留
4.自動(dòng)化系統(tǒng)
輸送裝置:傳送帶、機(jī)械臂或懸掛鏈,精細(xì)控制工件移動(dòng)
PLC控制:集成溫控、液位監(jiān)測(cè)、流程時(shí)序管理
數(shù)據(jù)監(jiān)控:實(shí)時(shí)記錄工藝參數(shù),支持遠(yuǎn)程操作與故障診斷
上料 → 脫脂 → 水洗 → 酸洗 → 水洗 → 表調(diào)(調(diào)整表面活性)→ 磷化 → 水洗 → 鈍化 → 烘干 → 下料。
上海陶瓷元器件鍍金電鍍?cè)O(shè)備
電鍍?cè)O(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護(hù)性或功能性涂層。 其系統(tǒng)包括: 電解電源:提供0-24V直流電,電流可達(dá)數(shù)千安培,適配不同鍍種需求; 電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設(shè)計(jì),容積0.5-10m3; 電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或...
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