電鍍?cè)O(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護(hù)性或功能性涂層。 其系統(tǒng)包括: 電解電源:提供0-24V直流電,電流可達(dá)數(shù)千安培,適配不同鍍種需求; 電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設(shè)計(jì),容積0.5-10m3; 電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或...
1.前處理:晶圓清洗、去氧化層、活化表面。
2.裝載:將晶圓固定于旋轉(zhuǎn)載具,浸入鍍液。
3.電鍍:
施加電流,金屬離子在晶圓表面還原沉積。
旋轉(zhuǎn)載具確保鍍液流動(dòng)均勻,消除厚度差異。
4.后處理:鍍層退火、清洗、干燥。
1.高均勻性:
旋轉(zhuǎn)+噴淋設(shè)計(jì)減少“邊緣增厚”現(xiàn)象,鍍層均勻性達(dá)±5%以內(nèi)。
2.精密控制:電流密度精度:±1 mA/cm2;溫度波動(dòng):±0.5℃。
3.潔凈度保障:設(shè)備內(nèi)建HEPA過濾系統(tǒng),滿足Class 1000以下潔凈環(huán)境。
4.高效生產(chǎn):支持多片晶圓同時(shí)處理(如6片/批次),UPH(每小時(shí)產(chǎn)量)可達(dá)50~100片。
1.先進(jìn)封裝:2.5D/3D IC的TSV鍍銅、Fan-Out封裝中的RDL金屬化。
2.功率器件:IGBT、MOSFET背面金屬化(鍍銀、鍍鎳)。
3.傳感器與MEMS:微結(jié)構(gòu)表面鍍金,提升電氣性能與可靠性。 自動(dòng)化電鍍?cè)O(shè)備集成 PLC 控制系統(tǒng),聯(lián)動(dòng)傳輸裝置實(shí)現(xiàn)工序時(shí)間、電壓參數(shù)準(zhǔn)確控制,提升效率。高速電鍍?cè)O(shè)備

主要體現(xiàn)在某些特定的電鍍工藝(如真空電鍍或物相沉積)中,真空機(jī)為電鍍過程提供必要的真空環(huán)境,從而提升鍍層質(zhì)量。以下是兩者的具體關(guān)聯(lián)及協(xié)同作用:
避免氧化與污染:真空環(huán)境可排除空氣中的氧氣、水蒸氣和其他雜質(zhì),防止鍍層氧化或污染,提高金屬鍍層的純度。
增強(qiáng)附著力:在低壓條件下,金屬粒子動(dòng)能更高,能更緊密地附著在基材表面,提升鍍層的結(jié)合強(qiáng)度。
均勻性與致密性:真空環(huán)境減少氣體分子干擾,使金屬沉積更均勻,形成致密、無缺陷的鍍層。
真空電鍍(物相沉積,PVD):工藝過程:通過真空機(jī)將腔室抽至低壓(如10?3至10?? Pa),利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),將金屬材料氣化并沉積到工件表面。典型應(yīng)用:手表、首飾、手機(jī)外殼的金屬鍍層,以及工具、刀具的耐磨涂層。
化學(xué)氣相沉積(CVD):工藝特點(diǎn):在真空或低壓環(huán)境中,通過化學(xué)反應(yīng)在基材表面生成固態(tài)鍍層(如金剛石涂層或氮化鈦),常用于半導(dǎo)體或精密器件。
應(yīng)用領(lǐng)域
電子工業(yè):半導(dǎo)體元件、電路板的金屬化鍍層。
汽車與航天:發(fā)動(dòng)機(jī)部件、渦輪葉片的耐高溫涂層。
消費(fèi)品:眼鏡框、手機(jī)中框的裝飾性鍍膜。 電子元器件電鍍?cè)O(shè)備生產(chǎn)線滾鍍?cè)O(shè)備采用帶孔滾筒裝載小工件,旋轉(zhuǎn)翻滾中完成電鍍,高效處理螺絲、電子元件等批量小件。

硫酸霧等酸性廢氣選酸霧凈化塔;低濃度有機(jī)廢氣用活性炭吸附裝置,中高濃度則考慮催化燃燒裝置;有顆粒物選布袋或靜電除塵器,混合廢氣需組合設(shè)備。
各設(shè)備處理率有別,處理量匹配電鍍規(guī)模,大生產(chǎn)線選大風(fēng)量設(shè)備,小廠選小風(fēng)量的。
涵蓋能耗、耗材及維護(hù)費(fèi),能耗低、耗材更換便宜、維護(hù)簡(jiǎn)單的設(shè)備更優(yōu)。場(chǎng)地有限選緊湊設(shè)備,處理易燃易爆廢氣的要防爆。操作管理上,選自動(dòng)化程度高的。
1.掛鍍生產(chǎn)線:適用于各種形狀和尺寸的零件,尤其是較大型、批量較小的零件,能夠保證零件的電鍍質(zhì)量和均勻性。
應(yīng)用:汽車零部件、機(jī)械零件、五金制品等行業(yè),如汽車輪轂、自行車車架、門把手等的電鍍。
2.滾鍍生產(chǎn)線:該生產(chǎn)線生產(chǎn)效率高,適合于大批量、小尺寸零件的電鍍。
應(yīng)用:常見于電子元件、緊固件、小飾品等行業(yè),如螺絲、螺母、電子引腳、拉鏈等的電鍍。
3.連續(xù)鍍生產(chǎn)線:具有自動(dòng)化程度高、生產(chǎn)速度快、鍍層均勻等優(yōu)點(diǎn),能夠?qū)崿F(xiàn)高效、穩(wěn)定的生產(chǎn)。
應(yīng)用:用于電子、電器行業(yè)的帶狀材料,如電子線路板的電鍍、電線電纜的鍍錫等。
4.塑料電鍍生產(chǎn)線:由于塑料本身不導(dǎo)電,需要先對(duì)塑料零件進(jìn)行特殊的前處理,如化學(xué)鍍等,使其表面形成一層導(dǎo)電層,然后再進(jìn)行常規(guī)的電鍍工藝。塑料電鍍生產(chǎn)線需要增加專門的塑料前處理設(shè)備和工藝。
應(yīng)用:在汽車內(nèi)飾件、電子產(chǎn)品外殼、裝飾品等領(lǐng)域,如汽車儀表盤、手機(jī)外殼、塑料紐扣等的電鍍。
5.貴金屬電鍍生產(chǎn)線:用于電鍍金、銀、鉑等貴金屬,對(duì)電鍍工藝和設(shè)備的要求較高,需要精確控制電鍍參數(shù),以保證貴金屬鍍層的質(zhì)量和純度。
應(yīng)用:用于珠寶首飾、電子工業(yè)、航空航天等領(lǐng)域,如首飾的鍍金、電子芯片的鍍金絲等。 脈沖電鍍電源設(shè)備通過周期性通斷電流,減少鍍層孔隙率,提升結(jié)晶細(xì)致度,適用于精密零件電鍍。

1.鍍槽:是電鍍加工的設(shè)備,用于盛放電鍍液,為電鍍提供反應(yīng)場(chǎng)所。根據(jù)電鍍工藝和工件的不同,鍍槽的材質(zhì)、形狀和尺寸也各不相同,常見的有聚丙烯、聚四氟乙烯等材質(zhì)制成的鍍槽。
2.整流器:其作用是將交流電轉(zhuǎn)換為直流電,為電鍍過程提供穩(wěn)定的電流。電鍍過程需要精確控制電流的大小和穩(wěn)定性,以確保電鍍層的質(zhì)量和性能。
3.過濾機(jī):用于過濾電鍍液中的雜質(zhì)、顆粒和懸浮物,保持電鍍液的清潔度。過濾機(jī)通常采用濾芯式或?yàn)V袋式過濾,可根據(jù)電鍍液的性質(zhì)和過濾精度要求選擇不同的過濾材料。
4.加熱和冷卻裝置:加熱裝置通常采用電加熱或蒸汽加熱的方式,而冷卻裝置則多采用冷水機(jī)或冷卻塔進(jìn)行冷卻。
5.攪拌設(shè)備:包括機(jī)械攪拌和空氣攪拌等方式。
6.掛具:用于懸掛和固定待電鍍的工件,使工件能夠在電鍍槽中與電鍍液充分接觸,并保證電流均勻地通過工件。7.行車:主要用于在電鍍車間內(nèi)吊運(yùn)工件、原材料和成品等重物。
8.廢氣處理設(shè)備:電鍍過程中會(huì)產(chǎn)生各種有害氣體,如酸霧、堿霧和重金屬廢氣等。廢氣處理設(shè)備通常采用噴淋塔、活性炭吸附裝置、催化燃燒裝置等,對(duì)廢氣進(jìn)行凈化處理,達(dá)標(biāo)后排放。 鍍銅設(shè)備的陽極磷銅板定期活化處理,維持表面活性,穩(wěn)定銅離子濃度,保障鍍層沉積速率。重慶電鍍?cè)O(shè)備產(chǎn)業(yè)
貴金屬電鍍?cè)O(shè)備配備高精度電源與凈化系統(tǒng),嚴(yán)格控制金、銀鍍層純度,滿足珠寶及電子芯片的高要求。高速電鍍?cè)O(shè)備
需結(jié)合工藝需求、生產(chǎn)規(guī)模、預(yù)算及環(huán)保要求,以下建議:
1.工藝類型根據(jù)鍍層種類選擇設(shè)備,例如鍍鉻需耐高溫鍍槽,鍍金需高精度整流器。前處理/后處理流程決定是否需要超聲波清洗機(jī)、甩干機(jī)等配。
2.生產(chǎn)規(guī)模中小批量:優(yōu)先選擇模塊化設(shè)備(如可擴(kuò)展的鍍槽、單機(jī)過濾機(jī)),降低初期投入。大規(guī)模量產(chǎn):考慮自動(dòng)化生產(chǎn)線(如機(jī)器人上下料、PLC集中控制系統(tǒng)),提升效率。
3.鍍層質(zhì)量要求高精度產(chǎn)品(如電子元件):需配備在線檢測(cè)設(shè)備(如X射線測(cè)厚儀)、恒溫恒濕控制系統(tǒng)。普通五金件:可選基礎(chǔ)檢測(cè)設(shè)備(如磁性測(cè)厚儀)。
1.鍍槽材質(zhì):酸性選聚丙烯(PP),高溫強(qiáng)堿選聚四氟乙烯(PTFE)。尺寸:根據(jù)工件大小和產(chǎn)能計(jì)算槽體容積,預(yù)留10%-20%余量避免溢出。
2.整流器優(yōu)先選擇高頻開關(guān)電源(節(jié)能30%以上),輸出電流需覆蓋最大負(fù)載的120%。復(fù)雜工藝(如脈沖電鍍)需配置可編程整流器。
3.過濾系統(tǒng)精密電鍍(如PCB):采用多級(jí)過濾(濾芯+超濾膜),精度≤1μm。常規(guī)電鍍:選用袋式過濾機(jī),精度5-25μm即可。
4.環(huán)保設(shè)備廢氣處理:酸霧量大時(shí)選噴淋塔+活性炭吸附廢水處理:重金屬廢水需配備離子交換或反滲透(RO)系統(tǒng) 高速電鍍?cè)O(shè)備
電鍍?cè)O(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護(hù)性或功能性涂層。 其系統(tǒng)包括: 電解電源:提供0-24V直流電,電流可達(dá)數(shù)千安培,適配不同鍍種需求; 電解槽:耐腐蝕材質(zhì)(如PP/PVDF),雙層防漏設(shè)計(jì),容積0.5-10m3; 電極系統(tǒng):陽極采用可溶性金屬或...
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