作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強了全球銷售活動，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰，結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。 更多有關(guān)3D微納加工的咨詢。湖北微納光刻NanoscribePhotonic Professional GT
3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現(xiàn)具有特定光子，機械，生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。 德國微納Nanoscribe系統(tǒng)更多有關(guān)微納3D打印產(chǎn)品和技術(shù)咨詢，歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司。
加入Nanoscribe的用戶行列!作為高精密增材制造領(lǐng)域的先驅(qū)和市場領(lǐng)導(dǎo)我們是您在微加工系統(tǒng)、軟件和解決方案方面的可靠合作伙伴。我們成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工分離出來的單獨子公司，是一個充滿活力、屢獲殊榮的公司，并于2021年6月成為BICO集團的一部分。憑借成熟穩(wěn)定的系統(tǒng)、直觀的一步加工工作流程和一體化解決方案，我們的3000多名系統(tǒng)用戶正在致力于研究改變未來的應(yīng)用。Nanoscribe的用戶群體中，有科學(xué)研究和工業(yè)的創(chuàng)新者，包括生命科學(xué)、微光學(xué)、光子學(xué)、材料工程、微流體、微力學(xué)和MEMS。他們優(yōu)越的創(chuàng)新現(xiàn)已發(fā)表在1300多份同行評議期刊上。
對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu)，是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)快速原型制作，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。
德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細(xì)結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué)、材料工程、微流體、微光學(xué)、微機械和微機電系統(tǒng) (MEMS) 應(yīng)用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu)，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn)?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學(xué)器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?！?/strong>
Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級別的精確打印，為科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用提供了全新的可能性。進口NanoscribePhotonic Professional GT
Nanoscribe是德國高精度增材制造系統(tǒng)的先驅(qū)。湖北微納光刻NanoscribePhotonic Professional GT
Nanoscribe稱，Quantum X是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photon grayscale lithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作湖北微納光刻NanoscribePhotonic Professional GT
