QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。。無(wú)掩膜光刻技術(shù)助力創(chuàng)新。高精度無(wú)掩膜光刻工藝
科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)，發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實(shí)現(xiàn)了簡(jiǎn)單一步操作即可同時(shí)控制幾何形狀和折射率來(lái)打印自由曲面光學(xué)元件。憑借這種全新的制造工藝，科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特別小的可聚焦可見(jiàn)光的龍勃透鏡（15μm直徑）。相似于人類(lèi)眼睛晶狀體的梯度，這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加，使其具有獨(dú)特的聚光特性。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點(diǎn)是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫(xiě)，而是在孔型支架內(nèi)。通過(guò)調(diào)整直寫(xiě)激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過(guò)激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級(jí)別的空間分辨率同時(shí)，對(duì)折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過(guò)0.3。2GL無(wú)掩膜光刻PPGT無(wú)掩膜光刻技術(shù)的生產(chǎn)效率高。由于該技術(shù)可以并行復(fù)制，因此可以提高生產(chǎn)效率，降低生產(chǎn)成本。
QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計(jì)自由度，簡(jiǎn)易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn)；200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專(zhuān)門(mén)使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。
借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過(guò)創(chuàng)新的設(shè)計(jì)重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級(jí)分辨率和靈活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度達(dá)到上限的微納3D打印機(jī)。該設(shè)備將雙光子聚合的極高精度技術(shù)特點(diǎn)與跨尺度的微觀3D打印完美結(jié)合，適合用于納米、微米、中尺度以及厘米級(jí)別的快速成型。PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用無(wú)掩膜光刻技術(shù)正成為微電子行業(yè)的重要支柱。
售后支持和服務(wù)擁有超過(guò)14年的微加工技術(shù)經(jīng)驗(yàn)，我們的技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)努力在短的時(shí)間內(nèi)為客戶(hù)提供好的支持。在德國(guó)總部，中國(guó)分公司和美國(guó)分公司，以及通過(guò)Nanoscribe認(rèn)證的經(jīng)銷(xiāo)商提供的銷(xiāo)售服務(wù)和技術(shù)支持。我們的跨學(xué)科和多語(yǔ)言技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)為客戶(hù)提供各方面的支持:裝機(jī)、維護(hù)和維修現(xiàn)場(chǎng)和線(xiàn)上的培訓(xùn)課程通過(guò)NanoGuide綜合自助服務(wù)平臺(tái)自助查詢(xún)電話(huà)、電子郵件和設(shè)備自帶遠(yuǎn)程支持功能基礎(chǔ)操作技巧之外的高階技術(shù)和應(yīng)用支持延長(zhǎng)維修保修合同、升級(jí)服務(wù)、移機(jī)服務(wù)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)非常高的加工精度和分辨率，適用于微米和納米級(jí)別的加工要求。海南雙光子無(wú)掩膜光刻3D打印
無(wú)掩膜光刻技術(shù)在制造新型電子元件和結(jié)構(gòu)方面具有很大的潛力。高精度無(wú)掩膜光刻工藝
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無(wú)掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿(mǎn)足您對(duì)于制作亞微米分辨率和毫米級(jí)尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對(duì)于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫(xiě)技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們?cè)跓o(wú)需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級(jí)增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計(jì)的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能，可以輕松實(shí)現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作，并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度高精度無(wú)掩膜光刻工藝
