廣東3D打印雙光子聚合無掩光刻

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型?；陔p光子聚合技術(shù)，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型，同時(shí)適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。

雙光子聚合激光直寫技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)亞微米級別的加工精度，比傳統(tǒng)的納米加工技術(shù)更加精細(xì)。廣東3D打印雙光子聚合無掩光刻

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計(jì)自由度，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。歡迎咨詢。天津德國雙光子聚合微納光刻N(yùn)anoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹?/p>

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施哪些領(lǐng)域會運(yùn)用雙光子聚合加工技術(shù)？

事實(shí)上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices：Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是，這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作，這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子，其加工分辨率達(dá)到了120nm，超越了衍射極限，同時(shí)還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案，而是單純的利用了材料的性質(zhì)。來自不來梅大學(xué)微型傳感器、致動器和系統(tǒng)(IMSAS)研究所的科學(xué)家們發(fā)明了一種全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系統(tǒng)，利用雙光子聚合原理（2PP）結(jié)合光刻技術(shù)，將自由形式3D微流控混合元件集成到預(yù)制的晶圓級二維微流道中科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)打印微型通道的聚合物母版，并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。北京亞微米雙光子聚合微納加工系統(tǒng)

雙光子聚合到底是什么技術(shù)？廣東3D打印雙光子聚合無掩光刻

    雙光子聚合技術(shù)是一種高精度、高效率的微納加工技術(shù)，具有以下優(yōu)勢特點(diǎn)：高精度和高分辨率：雙光子聚合技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)亞微米甚至納米級的分辨率，使得制造出的微納結(jié)構(gòu)更加精細(xì)。這是因?yàn)樗秒p光子吸收過程，將激光束聚焦到非常小的體積內(nèi)，從而實(shí)現(xiàn)了高精度的加工。三維加工能力：由于雙光子聚合技術(shù)可以在聚合物體積內(nèi)部進(jìn)行光刻，因此可以實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)制造，如微型光學(xué)元件、微流體芯片等。這一特點(diǎn)使得它在微納制造領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。無需光掩膜：傳統(tǒng)的光刻技術(shù)需要使用光掩膜進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)移，而雙光子聚合技術(shù)可以直接通過計(jì)算機(jī)控制激光束的位置和強(qiáng)度來實(shí)現(xiàn)圖案的制造，無需光掩膜。這不僅降低了制造成本，還縮短了制造周期。材料多樣性：雙光子聚合技術(shù)可以使用各種不同類型的光敏樹脂作為加工材料，從而可以制造出各種不同性質(zhì)和功能的微納結(jié)構(gòu)。這為微納制造提供了更多的選擇和靈活性。高效加工速度：雙光子聚合技術(shù)具有較高的加工速度，可以在短時(shí)間內(nèi)制造出復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)。這使得它在工業(yè)生產(chǎn)中具有較高的效率和競爭力。易于控制和修改：雙光子聚合的加工環(huán)境和參數(shù)易于控制，可以輕松修改得到所需的結(jié)構(gòu)。 廣東3D打印雙光子聚合無掩光刻