借助Nanoscribe的3D微納加工技術,您可以實現(xiàn)亞細胞結構的三維成像,適用于細胞研究和芯片實驗室應用(lab-on-a-chip)。我們的客戶成功使用Nanoscribe雙光子無掩模光刻系統(tǒng)制作了3D細胞支架來研究細胞生長、遷移和干細胞分化。此外,3D微納加工技術還可以應用在微創(chuàng)手術的生物醫(yī)學儀器,包括植入物,微針和微孔膜等制作。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司帶您了解增材制造的主要特性和測試方法。山東工業(yè)級增材制造無掩膜激光直寫

近幾年來,增材制造在全球范圍內迅速走熱,各國對于增材制造技術又開始重新重視起來,美國總統(tǒng)奧巴馬將其視作制造業(yè)回歸升級的重要方向,中國也在金屬增材制造領域一直處于排名在前的水平。隨著技術不斷的進步,增材制造已經在航空航天、模具以及汽車等領域獲得大規(guī)模應用,而走在應用前列的當屬美國NASA。據美國國家航空航天局(NASA)官網近日報道,NASA工程人員正通過利用增材制造技術制造頭一個全尺寸銅合金火箭發(fā)動機零件以節(jié)約成本,NASA空間技術任務部負責人表示,這是航空航天領域3D打印技術應用的新里程碑。增材制造(AM)技術又稱為快速原型、快速成形、快速制造、3D打印技術等,是指基于離散-堆積原理,由零件三維數據驅動直接制造零件的科學技術體系?;诓煌姆诸愒瓌t和理解方式,增材制造技術的內涵仍在不斷深化,外延也不斷擴展。增材制造技術不需要傳統(tǒng)的刀具和夾具以及復雜的加工工序,在一臺設備上可快速精密地制造出任意復雜形狀的零件,從而實現(xiàn)了零件“自由制造”,解決了許多復雜結構零件的成形,并很大程度減少了加工工序,縮短了加工周期,而且產品結構越復雜。重慶超高速增材制造工藝增材制造技術正在改變產品的設計和生產方式。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量。總而言之,工業(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業(yè)程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創(chuàng)新微納光學器件(如衍射和折射光學器件)的整體制造時間。Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。
人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計,甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe公司專注于微觀3D打印技術,通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產品。全新推出的QuantumX平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(2GL®)。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結構既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產上的加工模具。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司為您深度解讀增材制造技術。

Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數據通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質量表面不達標的缺陷,但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件,還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結構,包括光子集成電路,光纖頂端和預制晶片等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討增材制造技術的行業(yè)發(fā)展。山東微納米增材制造設備
Nanoscribe在中國的子公司納糯三維邀您一起探討增材制造的現(xiàn)狀和未來。山東工業(yè)級增材制造無掩膜激光直寫
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造,以達到高水平的生產力和打印質量??偠灾I(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結構的非常先進的微制造工藝,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版,可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用山東工業(yè)級增材制造無掩膜激光直寫