Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。由于沒有物理掩膜，無掩膜光刻技術(shù)可以快速地制造出大量的芯片，提高了生產(chǎn)效率。重慶高精度無掩膜光刻技術(shù)3D打印
德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu)，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標準?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?！苯K微納米無掩膜光刻3D打印無掩膜光刻技術(shù)具有高精度、高效率優(yōu)勢。
Nanoscribe的QuantumX形狀與其他一些利用2PP技術(shù)的打印機競爭，例如UpNano的NanoOne高分辨率微增材制造(μAM)解決方案；LithoProf3D，一種由另一家德國公司MultiphotonOptics制造的先進微型激光光刻3D打印機，以及Microlight3D基于2PP的交鑰匙3D打印機Altraspin。作為市場上的新選擇之一，QuantumXshape承諾采用“非常先進的微加工工藝”，可實現(xiàn)高精度增材制造，在其中可以比較好平衡精度和速度，以實現(xiàn)特別高水平的生產(chǎn)力和質(zhì)量。Nanoscribe認為該打印機能夠產(chǎn)生“非常出色的輸出”，該打印機依賴于基于移動鏡技術(shù)的振鏡(Galvo)系統(tǒng)和基于堅固花崗巖的平臺上的智能電子系統(tǒng)控制單元，并結(jié)合了行業(yè)-級脈沖飛秒激光器。QuantumXshape可以使用Nanoscribe專有的聚合物和二氧化硅材料打印3D微型部件，并且對第三方或定制材料開放。此外，它可以通過設(shè)備的集成觸摸屏和遠程訪問軟件nanoConnectX進行控制，允許遠程控制連接打印機的打印作業(yè)，將實驗室的準備時間減少到限度低值，并在共享系統(tǒng)時簡化團隊協(xié)作。
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應(yīng)用的快速原型制作想要了解無掩模光刻系統(tǒng)可以咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。
QuantumXshape技術(shù)特點概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計自由度，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個標準結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。了解更多無掩膜光刻的技術(shù)和產(chǎn)品信息，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。江蘇高分辨率無掩膜光刻PPGT
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Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量，從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)（通過激光束曝光控制的亞表面折射率）可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時，對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。重慶高精度無掩膜光刻技術(shù)3D打印
