Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀你一起探討3D打印產(chǎn)業(yè)分析。浙江2GL3D打印系統(tǒng)
德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發(fā)商，也是BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機，用于制造微納米級的精細結(jié)構。據(jù)該公司稱，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)。”湖北科研3D打印無掩膜激光直寫更多關于Nanoscribe微納米3D打印設備的信息，請致電Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及比較廣的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程，實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結(jié)構的增材制造，可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。
Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。Nanoscribe于2018年推出了用于微加工和無掩模光刻的Photonic Professional GT2 3D打印機。
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為mm。雙光子零件可以3D打印出小于100nm分辨率物體。天津?qū)嶒炇?D打印激光直寫
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是專業(yè)制造PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)公司,目前儀器儀表行業(yè)內(nèi)有較大成績的制造商，在國內(nèi)有多家貿(mào)易和生產(chǎn)型代理商。在PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)行業(yè)內(nèi)聞名，如今還提供作為Nanoscribe在中國全資子公司，納糯三維科技（上海）有限公司可進行三維打印科技領域內(nèi)的技術開發(fā)，技術轉(zhuǎn)讓，技術咨詢，技術服務，三維打印設備，光電機一體化設備和相關零配件的批發(fā)，進出口，傭金代理，并提供相關配套服務，貿(mào)易信息咨詢，企業(yè)管理咨詢。等領域內(nèi)的業(yè)務。儀器儀表上游的行業(yè)主要包括五金件、電子元器件、傳感器等；儀器儀表按應用類型可分為通用型和專業(yè)型；下游應用非常極廣，包括石油化工、鋼鐵冶煉、電力（電表）、建筑測繪（測量儀表）、軌道交通（汽車儀表盤等）等各行業(yè)。近幾年，我國儀器儀表行業(yè)呈現(xiàn)出高速發(fā)展的態(tài)勢。據(jù)中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會發(fā)布的數(shù)據(jù)，過去的幾年期間，除受全球經(jīng)濟的影響而此期間，全球儀器儀表市場的增幅只有3%～4%，我國儀器儀表行業(yè)的發(fā)展速度之快可見一斑。總結(jié)其中原因，與我國的經(jīng)濟發(fā)展環(huán)境是密不可分的。政策助力對推動經(jīng)濟發(fā)展、促進相關行業(yè)技術升級、打破國外PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)壟斷、提高PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)國產(chǎn)化率及國產(chǎn)替代等方面具有重要戰(zhàn)略意義，近年來我國密集出臺涉及儀器儀表行業(yè)及相關應用領域的產(chǎn)業(yè)政策，在政策支持下，我國本土企業(yè)有望突出重圍。浙江2GL3D打印系統(tǒng)
納糯三維科技（上海）有限公司在PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)一直在同行業(yè)中處于較強地位，無論是產(chǎn)品還是服務，其高水平的能力始終貫穿于其中。公司位于上海市徐匯區(qū)桂平路391號3號樓11層1106A室，成立于2017-11-08，迄今已經(jīng)成長為儀器儀表行業(yè)內(nèi)同類型企業(yè)的佼佼者。納糯三維以PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)為主業(yè)，服務于儀器儀表等領域，為全國客戶提供先進PPGT2，Quantum X系列，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)。將憑借高精尖的系列產(chǎn)品與解決方案，加速推進全國儀器儀表產(chǎn)品競爭力的發(fā)展。
