將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度特別高。Nanoscribe是一家德國(guó)雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機(jī)器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法，“Beers定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點(diǎn)和應(yīng)用。湖北雙光子灰度光刻系統(tǒng)
Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng)，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無(wú)掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見即所得。江蘇高精度灰度光刻雙光子灰度光刻技術(shù)多強(qiáng)大，如需了解詳情請(qǐng)咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。
Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場(chǎng)景圖概念的軟件工具，可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織，用于定義何時(shí)、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配。
微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)，這樣的1組微透鏡陣列無(wú)法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上，會(huì)產(chǎn)生場(chǎng)曲。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場(chǎng)曲這種光學(xué)像差，只能在后續(xù)光路中引入場(chǎng)鏡組來(lái)進(jìn)行校正，從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來(lái)加工微凹透鏡陣列即可通過(guò)設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場(chǎng)曲。更多灰度光刻知識(shí)，歡迎咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。
由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件，從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實(shí)現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制，自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。靈活性高：由于無(wú)需制作實(shí)體掩膜版，無(wú)掩膜光刻技術(shù)可以快速地更改光刻圖案，方便進(jìn)行試制和修改。江蘇灰度光刻3D光刻
灰度光刻技術(shù)可以應(yīng)用于微電子、光電子、生物醫(yī)學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。湖北雙光子灰度光刻系統(tǒng)
如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變，以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí)，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。湖北雙光子灰度光刻系統(tǒng)
