Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容。山東灰度光刻無(wú)掩光刻

傳感器對(duì)可控技術(shù)的重要性,在眾多領(lǐng)域都是顯而易見(jiàn)的,無(wú)論是從簡(jiǎn)單的家用電器,還是到可穿戴設(shè)備,甚至到航空應(yīng)用,只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能。理想的傳感器應(yīng)該具有高敏感度,不易故障,并且易于集成到流程中等優(yōu)點(diǎn)。光纖端面的微型傳感器在這個(gè)方面具有巨大的潛力。這些傳感器空間占有率小,可以輕松多路復(fù)用,并且不需要額外的外部能源供應(yīng)。對(duì)于這些基于光纖的傳感器的加工,雙光子聚合技術(shù)已被證明是其完美的搭檔。事實(shí)上,任何設(shè)計(jì)模型都能在微觀尺寸上被實(shí)現(xiàn)。然而,大多數(shù)設(shè)計(jì)都是靜態(tài)的,打印出來(lái)的部件在被加工出來(lái)后不能進(jìn)行進(jìn)一步的活動(dòng)。湖北超高速灰度光刻3D打印了解更多關(guān)于灰度光刻技術(shù)各種應(yīng)用,歡迎咨詢Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

在計(jì)算成像領(lǐng)域中有一個(gè)重要的分支,即光場(chǎng)成像。而光場(chǎng)成像中的中心光學(xué)元件,即為微透鏡陣列。其材質(zhì)為透明玻璃,表面刻有很多微小的透鏡,組成陣列結(jié)構(gòu),用來(lái)成像。目前比較成熟的制作石英微透鏡的工藝是光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法,但該方法存在著各種各樣的問(wèn)題。常用的光刻膠制作圖形配合刻蝕的方法在透鏡的設(shè)計(jì)時(shí)需通過(guò)掩膜板圖形確定,無(wú)法自由調(diào)節(jié),且成本高,周期長(zhǎng)。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。
我們往往需要通過(guò)灰度光刻的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)微透鏡陣列結(jié)構(gòu),灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)(如下圖4所示,八邊金字塔結(jié)構(gòu))。微透鏡陣列也是類似,可以通過(guò)劑量分布的控制來(lái)控制其輪廓形態(tài)。需要注意,灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多,約為Ra=100nm,前兩者可以會(huì)的Ra=50nm的球面。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您詳細(xì)講解灰度光刻技術(shù)。

Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?;陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作,即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件,并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討灰度光刻技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀。湖北2PP灰度光刻3D微納加工
如果了解雙光子灰度光刻技術(shù),歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。山東灰度光刻無(wú)掩光刻
Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨(dú)jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到準(zhǔn)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。 山東灰度光刻無(wú)掩光刻
納糯三維科技(上海)有限公司位于上海市徐匯區(qū)桂平路391號(hào)3號(hào)樓11層1106A室,是一家專業(yè)的作為Nanoscribe在中國(guó)全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開(kāi)發(fā),技術(shù)轉(zhuǎn)讓,技術(shù)咨詢,技術(shù)服務(wù),三維打印設(shè)備,光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),進(jìn)出口,傭金代理,并提供相關(guān)配套服務(wù),貿(mào)易信息咨詢,企業(yè)管理咨詢。公司。Nanoscribe是納糯三維科技(上海)有限公司的主營(yíng)品牌,是專業(yè)的作為Nanoscribe在中國(guó)全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開(kāi)發(fā),技術(shù)轉(zhuǎn)讓,技術(shù)咨詢,技術(shù)服務(wù),三維打印設(shè)備,光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),進(jìn)出口,傭金代理,并提供相關(guān)配套服務(wù),貿(mào)易信息咨詢,企業(yè)管理咨詢。公司,擁有自己**的技術(shù)體系。公司堅(jiān)持以客戶為中心、作為Nanoscribe在中國(guó)全資子公司,納糯三維科技(上海)有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開(kāi)發(fā),技術(shù)轉(zhuǎn)讓,技術(shù)咨詢,技術(shù)服務(wù),三維打印設(shè)備,光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),進(jìn)出口,傭金代理,并提供相關(guān)配套服務(wù),貿(mào)易信息咨詢,企業(yè)管理咨詢。市場(chǎng)為導(dǎo)向,重信譽(yù),保質(zhì)量,想客戶之所想,急用戶之所急,全力以赴滿足客戶的一切需要。納糯三維科技(上海)有限公司主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋PPGT2,Quantum X系列,雙光子微納激光直寫系統(tǒng),雙光子微納光刻系統(tǒng),堅(jiān)持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿意”的質(zhì)量方針,贏得廣大客戶的支持和信賴。