傳感器對(duì)可控技術(shù)的重要性，在眾多領(lǐng)域都是顯而易見(jiàn)的，無(wú)論是從簡(jiǎn)單的家用電器，還是到可穿戴設(shè)備，甚至到航空應(yīng)用，只有控制良好的流程才有被優(yōu)化的可能。理想的傳感器應(yīng)該具有高敏感度，不易故障，并且易于集成到流程中等優(yōu)點(diǎn)。光纖端面的微型傳感器在這個(gè)方面具有巨大的潛力。這些傳感器空間占有率小，可以輕松多路復(fù)用，并且不需要額外的外部能源供應(yīng)。對(duì)于這些基于光纖的傳感器的加工，雙光子聚合技術(shù)已被證明是其完美的搭檔。事實(shí)上，任何設(shè)計(jì)模型都能在微觀尺寸上被實(shí)現(xiàn)。然而，大多數(shù)設(shè)計(jì)都是靜態(tài)的，打印出來(lái)的部件在被加工出來(lái)后不能進(jìn)行進(jìn)一步的活動(dòng)。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。湖南高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)
Nanoscribe的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說(shuō)，在納米級(jí)、微米級(jí)以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級(jí)高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對(duì)快速原型設(shè)計(jì)和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。歡迎咨詢山東Nanoscribe灰度光刻微納光刻通過(guò)控制光的幅度和相位，灰度光刻技術(shù)可以制備各種復(fù)雜的微納米結(jié)構(gòu)，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的需求。
Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng)，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無(wú)掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見(jiàn)即所得。。
這款灰度光刻設(shè)備具備出色的精度和穩(wěn)定性。通過(guò)先進(jìn)的光刻技術(shù)，它能夠在微米級(jí)別上進(jìn)行精確的圖案制作，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達(dá)到比較高水平。同時(shí)，設(shè)備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升，減少了生產(chǎn)過(guò)程中的誤差和損耗，提高了生產(chǎn)效率。這款設(shè)備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝光和快速開(kāi)發(fā)的技術(shù)，**縮短了生產(chǎn)周期。相比傳統(tǒng)的光刻設(shè)備，它的生產(chǎn)速度提高了30%，提升了我們的生產(chǎn)效率。同時(shí)，設(shè)備還具備多通道同時(shí)加工的能力，可以同時(shí)處理多個(gè)產(chǎn)品，進(jìn)一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能?；叶裙饪碳夹g(shù)具有很高的靈活性，可以通過(guò)控制光的幅度和相位。
Nanoscribe獨(dú)有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時(shí)兼顧打印速度，實(shí)現(xiàn)自由曲面微光學(xué)元件通過(guò)3D打印精確對(duì)準(zhǔn)到光纖或光子芯片的光學(xué)軸線上。NanoscribeQX平臺(tái)打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測(cè)，確保打印精細(xì)對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸線上。共焦檢測(cè)模塊用于3D基板拓?fù)錁?gòu)圖，實(shí)現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細(xì)打印對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場(chǎng)上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的。其動(dòng)態(tài)體素調(diào)整需要相對(duì)較少的打印層次，即可實(shí)現(xiàn)具有光學(xué)級(jí)別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時(shí)，其打印速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)任何當(dāng)前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場(chǎng)上快的增材制造技術(shù)，非常適用于3D納米和微納加工，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下，其吞吐量相比任何當(dāng)前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍?；叶裙饪碳夹g(shù)可降低成本和提高生產(chǎn)效率。吉林德國(guó)灰度光刻
靈活性高：由于無(wú)需制作實(shí)體掩膜版，無(wú)掩膜光刻技術(shù)可以快速地更改光刻圖案，方便進(jìn)行試制和修改。湖南高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)
對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術(shù)。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學(xué)互連。同時(shí)高精度檢測(cè)系統(tǒng)還可以識(shí)別基準(zhǔn)點(diǎn)或拓?fù)浠滋卣鳎_保對(duì)3D打印進(jìn)行高度精確的對(duì)準(zhǔn)。Nanoscribe對(duì)準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX，一種基于場(chǎng)景圖概念的軟件工具，可用于定義對(duì)準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹(shù)狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對(duì)象和操作的分層組織，用于定義何時(shí)、何地、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識(shí)別這些特定的基板標(biāo)記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對(duì)準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標(biāo)配。湖南高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)
