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      企業(yè)商機(jī)
      外延系統(tǒng)基本參數(shù)
      • 品牌
      • PVD
      • 型號(hào)
      • 齊全
      外延系統(tǒng)企業(yè)商機(jī)

      樣品搬運(yùn)室(或稱(chēng)進(jìn)樣室)的設(shè)計(jì)極大地提升了系統(tǒng)的科研效率。它作為一個(gè)真空緩沖區(qū),允許用戶(hù)在不對(duì)主生長(zhǎng)腔室破真空的情況下,快速更換樣品。其本底真空度維持在5E-5Pa量級(jí),通過(guò)一個(gè)高真空隔離閥與主腔室相連。當(dāng)需要更換樣品時(shí),只需將樣品從大氣環(huán)境傳入搬運(yùn)室,抽至預(yù)定真空后,再打開(kāi)隔離閥,通過(guò)磁力傳輸桿或機(jī)械手將樣品送入主腔室的樣品架上。這一設(shè)計(jì)將主生長(zhǎng)腔室暴露于大氣的頻率降至較低,不僅保護(hù)了昂貴且精密的源爐和監(jiān)測(cè)儀器,也使得連續(xù)、不間斷的科研工作得以順利進(jìn)行。設(shè)備適用于超導(dǎo)材料與拓?fù)浣^緣體研究?;|(zhì)輔助外延系統(tǒng)性能

      基質(zhì)輔助外延系統(tǒng)性能,外延系統(tǒng)

      樣品裝載是實(shí)驗(yàn)的重要環(huán)節(jié),正確的裝載方法和注意事項(xiàng)能夠確保樣品在沉積過(guò)程中獲得良好的結(jié)果。在裝載樣品前,需對(duì)樣品進(jìn)行嚴(yán)格的清潔處理。使用合適的清洗劑,如二甲基酮、酒精等,去除樣品表面的油污、灰塵和雜質(zhì),以保證薄膜與樣品表面有良好的附著性。對(duì)于一些特殊樣品,可能需要采用更精細(xì)的清洗工藝,如超聲清洗等。

      裝載樣品時(shí),要通過(guò)設(shè)備的負(fù)載鎖定室進(jìn)行操作。先將樣品放入負(fù)載鎖定室,關(guān)閉室門(mén),然后對(duì)負(fù)載鎖定室進(jìn)行抽真空,使其真空度與工藝室相近。這樣可以避免在將樣品傳輸?shù)焦に囀視r(shí),因壓力差過(guò)大而對(duì)設(shè)備和樣品造成損害。通過(guò)可靠、快速的線性傳輸系統(tǒng),將樣品從負(fù)載鎖定室傳輸?shù)焦に囀业幕逯Ъ苌?。在傳輸過(guò)程中,要確保傳輸系統(tǒng)運(yùn)行平穩(wěn),避免樣品晃動(dòng)或掉落。 基質(zhì)輔助外延系統(tǒng)性能設(shè)備提供多種蒸發(fā)源電源配置方案。

      基質(zhì)輔助外延系統(tǒng)性能,外延系統(tǒng)

      多腔室MBE系統(tǒng)的高級(jí)功能體現(xiàn)在其模塊化與可擴(kuò)展性上。除了標(biāo)準(zhǔn)的生長(zhǎng)腔、進(jìn)樣腔和分析腔,系統(tǒng)還可以根據(jù)用戶(hù)的研究需求,集成額外的功能模塊。例如,可以增配一個(gè)紫外光電子能譜(UPS)腔室,用于測(cè)量材料的功函數(shù)和價(jià)帶結(jié)構(gòu);或者集成一個(gè)低溫樣品架,使材料在生長(zhǎng)和表征過(guò)程中始終保持在極低溫度,用于研究量子現(xiàn)象。這種模塊化設(shè)計(jì)使得該平臺(tái)不僅能滿(mǎn)足當(dāng)前的研究需求,還能隨著科研方向的演進(jìn),通過(guò)升級(jí)來(lái)適應(yīng)未來(lái)的新挑戰(zhàn)。

      在規(guī)劃實(shí)驗(yàn)室空間布局時(shí),需充分考量設(shè)備的尺寸和操作流程,以保障操作的便利性和安全性。設(shè)備的主體部分,像工藝室、負(fù)載鎖定室等,應(yīng)安置在實(shí)驗(yàn)室的中心區(qū)域,方便操作人員進(jìn)行各項(xiàng)操作和監(jiān)控。由于工藝室尺寸為450毫米,且?guī)в锌筛鼡Q的底部法蘭,可連接10個(gè)端口DN63CF用于蒸發(fā)源,其占地面積較大,所以要預(yù)留足夠空間,避免與其他設(shè)備產(chǎn)生干涉。樣品準(zhǔn)備區(qū)應(yīng)緊鄰設(shè)備的負(fù)載鎖定室,便于樣品的裝載和傳輸。該區(qū)域可設(shè)置樣品清洗臺(tái)、干燥設(shè)備和樣品架等,確保樣品在進(jìn)入設(shè)備前得到妥善處理??紤]到設(shè)備的基板支架尺寸范圍從10×10毫米到4英寸,樣品準(zhǔn)備區(qū)要能容納不同尺寸的樣品,并提供相應(yīng)的操作空間。本系統(tǒng)專(zhuān)為半導(dǎo)體材料與氧化物外延生長(zhǎng)研究設(shè)計(jì)。

      基質(zhì)輔助外延系統(tǒng)性能,外延系統(tǒng)

      實(shí)驗(yàn)室場(chǎng)地規(guī)劃是系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行的基礎(chǔ)。首先需要預(yù)留足夠的空間,不僅包括設(shè)備主機(jī)的大小,還需考慮激光器、電控柜、水泵等其它設(shè)備的擺放,以及四周留出至少80厘米的維護(hù)通道。地面要求平整堅(jiān)固,能夠承受設(shè)備重量(通常超過(guò)一噸)并減少振動(dòng)。環(huán)境方面,實(shí)驗(yàn)室應(yīng)保持潔凈、恒溫恒濕(如溫度23±2°C,濕度<50%),避免灰塵污染和溫度波動(dòng)對(duì)真空系統(tǒng)及精密光學(xué)部件造成不良影響。基礎(chǔ)設(shè)施配套必須提前規(guī)劃。電力方面,系統(tǒng)需要大功率、穩(wěn)定的三相和單相交流電,建議配備適合的線路和穩(wěn)壓器,并確保有良好的接地。冷卻水是另一個(gè)關(guān)鍵,需要為激光器、分子泵和部分電源配備閉路循環(huán)冷卻水系統(tǒng),該系統(tǒng)的水需是去離子水,以防止結(jié)垢和腐蝕。此外,根據(jù)所使用的氣體(如氧氣、氬氣),需要規(guī)劃好氣瓶間或集中供氣系統(tǒng)的管路,并將其安全地引至設(shè)備位置。排氣系統(tǒng)運(yùn)行前,確認(rèn)分子泵和干式機(jī)械泵連接無(wú)誤?;|(zhì)輔助外延系統(tǒng)性能

      雙冷卻罩設(shè)計(jì)有效控制工藝過(guò)程中熱負(fù)載?;|(zhì)輔助外延系統(tǒng)性能

      與其他技術(shù)相比,傳統(tǒng)MBE技術(shù)在半導(dǎo)體材料、氧化物薄膜等材料生長(zhǎng)領(lǐng)域應(yīng)用已久,有著成熟的技術(shù)體系。然而,公司產(chǎn)品與之相比,在多個(gè)方面展現(xiàn)出獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。從生長(zhǎng)機(jī)理來(lái)看,傳統(tǒng)MBE主要依靠熱蒸發(fā)使原子或分子束蒸發(fā)到襯底表面進(jìn)行生長(zhǎng)。而本產(chǎn)品不僅包含熱蒸發(fā),還集成了脈沖激光沉積等多種技術(shù),能通過(guò)激光能量精確控制原子的蒸發(fā)和濺射,使原子更有序地在襯底表面沉積,從而在生長(zhǎng)一些復(fù)雜結(jié)構(gòu)的薄膜時(shí),能更好地控制原子排列,提高薄膜的結(jié)晶質(zhì)量。但是設(shè)備復(fù)雜度方面,傳統(tǒng) MBE 設(shè)備通常結(jié)構(gòu)較為復(fù)雜,多個(gè)部件的協(xié)同工作對(duì)操作人員的技能要求較高,維護(hù)成本也相對(duì)較高。本產(chǎn)品在設(shè)計(jì)上進(jìn)行了優(yōu)化,采用模塊化設(shè)計(jì),各部件之間的連接和操作更加簡(jiǎn)便,降低了設(shè)備的整體復(fù)雜度,方便操作人員進(jìn)行日常操作和維護(hù)。基質(zhì)輔助外延系統(tǒng)性能

      科睿設(shè)備有限公司是一家有著先進(jìn)的發(fā)展理念,先進(jìn)的管理經(jīng)驗(yàn),在發(fā)展過(guò)程中不斷完善自己,要求自己,不斷創(chuàng)新,時(shí)刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,在上海市等地區(qū)的化工中匯聚了大量的人脈以及**,在業(yè)界也收獲了很多良好的評(píng)價(jià),這些都源自于自身的努力和大家共同進(jìn)步的結(jié)果,這些評(píng)價(jià)對(duì)我們而言是比較好的前進(jìn)動(dòng)力,也促使我們?cè)谝院蟮牡缆飞媳3謯^發(fā)圖強(qiáng)、一往無(wú)前的進(jìn)取創(chuàng)新精神,努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個(gè)新高度,在全體員工共同努力之下,全力拼搏將共同科睿設(shè)備供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來(lái),創(chuàng)造更有價(jià)值的產(chǎn)品,我們將以更好的狀態(tài),更認(rèn)真的態(tài)度,更飽滿(mǎn)的精力去創(chuàng)造,去拼搏,去努力,讓我們一起更好更快的成長(zhǎng)!

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