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      金屬表面處理真空鍍膜黑膜L*26降2加CrN嗎?

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      廣東華升納米科技股份有限公司2025-12-10

      華升納米金屬表面處理實(shí)測:黑膜L26再降2,目標(biāo)≈24。a-C:H(含氫DLC)折射率低、消光系數(shù)高,0.8μm即可降L3-4,且表面更黑;CrN需≥2μm才降L*1,顏色仍偏灰。工藝上,a-C:H用線性離子源100eV裂解C?H?,偏壓-80V,十分鐘內(nèi)完成,無額外靶材費(fèi)用;CrN需開Cr靶,功率高、周期長,綜合成本貴30%。華升納米金屬表面處理推薦“TiN+a-C:H”復(fù)合:先0.2μmTiN打底層,再0.6μma-C:H,總厚0.8μm,L*由26降至23,黑度提升同時(shí)保持HF1結(jié)合力,耐鹽霧>500h,滿足高黑、高耐磨金屬表面處理需求,為客戶提供零色差金屬表面處理解決方案,保障金屬表面處理長期穩(wěn)定可靠。

      廣東華升納米科技股份有限公司
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      簡介:專注于納米涂層方案,研發(fā)、生產(chǎn)和銷售真空鍍膜設(shè)備,提供涂層加工工藝,零部件和電子元件等基礎(chǔ)工業(yè)
      簡介: 專注于納米涂層方案,研發(fā)、生產(chǎn)和銷售真空鍍膜設(shè)備,提供涂層加工工藝,零部件和電子元件等基礎(chǔ)工業(yè)
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