小型等離子清洗機(jī)如何保障光學(xué)端面活化無損且提升光耦合效率？

深圳市方瑞科技有限公司2026-01-11

針對 PLC 光分路器、AWG 芯片封裝中光纖陣列光學(xué)端面的高精度活化需求，方瑞科技射頻小型等離子清洗機(jī)通過低能等離子體調(diào)控 + 光學(xué)級工藝設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)無損傷處理：設(shè)備采用脈沖射頻電源與遠(yuǎn)程等離子體激發(fā)技術(shù)，將等離子體離子能量穩(wěn)定控制在低閾值范圍，利用活性自由基的化學(xué)活化作用替代高能物理轟擊，在玻璃 / 硅基超光滑端面引入親水官能團(tuán)、消除納米級污染物的同時(shí)，避免產(chǎn)生微觀粗糙度或晶格損傷；搭配高純度惰性氣體保護(hù)氛圍與光學(xué)適配潔凈腔體，杜絕腔體內(nèi)殘留顆粒二次污染，且低溫處理工藝可規(guī)避熱應(yīng)力對光學(xué)端面平整度的影響；設(shè)備支持定制化微腔工裝，確保等離子體均勻作用于光纖陣列端面的每一個(gè)通道，活化后端面表面能一致性偏差＜3%，有效提升后續(xù)粘接工藝的界面結(jié)合力，保障光耦合效率穩(wěn)定達(dá)標(biāo)。

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