LPCVD 的工作原理是什么？?

賽瑞達(dá)智能電子裝備（無錫）有限公司2025-04-19

在低壓環(huán)境下，先把氣體源（也就是氣態(tài)前驅(qū)物）引入反應(yīng)室。接著將基片加熱到特定溫度，使氣體前驅(qū)物能發(fā)生反應(yīng)。當(dāng)氣體分子與基片表面接觸，就會分解或進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)沉積物，也就是我們要的薄膜材料，同時還會釋放出氣體副產(chǎn)物。整個過程通過控制低壓條件，讓反應(yīng)更可控，進(jìn)而實現(xiàn)均勻的薄膜沉積。

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